专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]制备多级台阶微结构的方法-CN202310246552.X在审
  • 伦婷婷;李俊杰;潘如豪;张忠山 - 中国科学院物理研究所
  • 2023-03-15 - 2023-06-06 - G03F7/20
  • 本发明提供一种制备多级台阶微结构的方法,其包括如下步骤:(1)在衬底上制备光刻胶涂层;(2)设计初始曝光版图,所述初始曝光版图为灰度图,且所述灰度图中每个像素点的灰度值为0‑255灰阶;所述初始曝光版图上每个像素点的灰度值与紫外光束对光刻胶涂层上每个点的曝光剂量呈相关性;(3)优化所述初始曝光版图以获得优化曝光版图;(4)将所述优化曝光版图导入紫外光刻系统,利用紫外光刻设备对所述光刻胶涂层进行曝光加工;(5)对曝光后的光刻胶涂层进行显影工序,以在所述光刻胶涂层上产生与所述优化曝光版图对应的光刻胶台阶微结构。本发明的方法可以以高精度制备小尺寸、多台阶阶次、任意高度的台阶微结构。
  • 制备多级台阶微结构方法
  • [发明专利]一种制备悬空的层状金属硫属化合物的方法-CN201910529623.0有效
  • 黄元;罗海兰;赵林;周兴江 - 中国科学院物理研究所
  • 2019-06-19 - 2023-06-06 - B81C1/00
  • 本发明提供一种制备悬空的层状金属硫属化合物的方法,包括如下步骤:(1)在基底上制备出图案化的孔阵列;(2)在具有孔阵列的基底上形成第一金属层,然后在所述第一金属层上形成第二金属层;所述第一金属层由Ti、Cr、Zn、Al、Ni、Cu、Fe或其两种以上的合金形成,所述第二金属层由Au形成;(3)用胶带机械解理金属硫属化合物,将胶带上的金属硫属化合物贴附到步骤(2)中的所述第二金属层上,并进行热处理;(4)热处理完成后,冷却至室温,随即从具有孔阵列的基底上剥离胶带,从而在具有孔阵列的基底上制得悬空的层状金属硫属化合物。本发明的制备方法步骤少、简单易实现、制备效率高。
  • 一种制备悬空层状金属化合物方法
  • [发明专利]转变PbTiO3-CN201910785451.3有效
  • 陈潘;白雪冬 - 中国科学院物理研究所
  • 2019-08-23 - 2023-06-06 - H10B53/00
  • 一种转变PbTiO3/SrTiO3超晶格材料的涡旋畴的方法,包括如下步骤:对具有涡旋畴的PbTiO3/SrTiO3超晶格材料施加压强为0.4‑1.0GPa的力,所述PbTiO3/SrTiO3超晶格材料的涡旋畴则变为面内畴;撤去所述力,所述PbTiO3/SrTiO3超晶格材料的面内畴恢复为涡旋畴。本发明首次实现了普通实验手段很难观测到的涡旋畴的力学转变,确定了涡旋畴转变后的畴结构是面内畴。PbTiO3/SrTiO3超晶格材料的涡旋畴结构尺寸小、密度大、排列整齐,并且在外力的作用下能够唯一地转变为面内畴,因此,PbTiO3/SrTiO3超晶格材料是理想的存储单元。
  • 转变pbtiobasesub
  • [发明专利]一种低温原位样品杆-CN202010098638.9有效
  • 许晋京;许智;白雪冬 - 中国科学院物理研究所
  • 2020-02-18 - 2023-06-02 - H01J37/20
  • 本发明涉及一种低温原位样品杆,该低温原位样品杆的后端连接冷源而前端承载样品,所述低温原位样品杆包括:外壳,其内部被构造成真空状态;低温杆芯,其延伸穿过所述外壳内部且其后端用于连接所述冷源而前端用于承载所述样品,其中所述低温杆芯的中间部段经由第一减振件支承而真空间隔设置在所述外壳的中间部段内侧,所述低温杆芯的前端部经由第二减振件支承而真空间隔设置在所述外壳的前端部,以减轻从所述冷源传递到所述样品的振动且降低从所述低温杆芯传递到所述外壳外侧的热量。
  • 一种低温原位样品
  • [发明专利]生长碳化硅单晶的方法-CN202111403566.5在审
  • 陈小龙;杨乃吉;李辉;王文军 - 中国科学院物理研究所
  • 2021-11-24 - 2023-05-26 - C30B23/02
  • 本发明提供一种生长碳化硅单晶的方法,其包括如下步骤:(1)将原料装配于用于碳化硅单晶生长的装置内;(2)将所述装置放置于单晶生长炉中感应线圈中;(3)然后,采用第一保护性气体进行洗炉,并控制生长炉的真空度;(4)然后,在第二保护性气体的存在下,通过控制所述装置内压强和温度进行碳化硅单晶生长;(5)待碳化硅单晶生长完成后,对所述装置进行退火;待所述装置冷却至室温,得到碳化硅单晶。本发明的方法可以生长大尺寸如8英寸以上的SiC单晶。本发明的方法可以增加SiC晶体生长中原料利用率,降低生长SiC单晶中原料的用量,并且降低生长成本。
  • 生长碳化硅方法
  • [发明专利]用于碳化硅晶体生长的装置-CN202111404988.4在审
  • 陈小龙;杨乃吉;李辉;王文军 - 中国科学院物理研究所
  • 2021-11-24 - 2023-05-26 - C30B29/36
  • 本发明提供一种用于碳化硅晶体生长的装置,其包括石墨坩埚主体、石墨坩埚盖、籽晶,所述籽晶固定于所述石墨坩埚盖内侧;其中,所述石墨坩埚主体内设有至少一个石墨套筒,以将石墨坩埚主体划分为由所述石墨套筒与所述石墨坩埚主体包围的原料区和由所述石墨套筒内部包围的非原料区;所述石墨套筒侧壁上设有通孔,所述通孔的延伸方向与所述石墨套筒的轴线成锐角以防止所述原料区中的原料进入所述非原料区。本发明的装置通过在石墨坩埚中放入若干侧壁具有通孔的石墨套筒,可以增加SiC晶体生长中原料利用率,降低生长SiC单晶中原料的用量,进而降低了生长成本。本发明的装置能够给SiC晶体生长提供充足、稳定的气相物质,增加原料的利用率、提高生长SiC单晶的晶体质量。
  • 用于碳化硅晶体生长装置
  • [发明专利]用于液相法生长碳化硅晶体的装置及方法-CN202211636437.5在审
  • 陈小龙;盛达;王国宾;王文军;郭建刚;李辉 - 中国科学院物理研究所
  • 2022-12-20 - 2023-05-26 - C30B11/00
  • 本发明提供一种用于液相法生长碳化硅晶体的装置。使用本发明的装置时,将顶托旋入籽晶座,可以在连接处夹一石墨纸作为缓冲层。然后,将环套上的凸台卡在籽晶锭上的环槽后,通过环套上的螺纹与籽晶座相连使得籽晶锭与顶托紧密接触。通过本发明的装置可以实现对籽晶锭的可靠夹持。本发明还提供一种制备碳化硅晶体的方法,其使用本发明的用于液相法生长碳化硅晶体的装置。本发明的装置可以重复利用籽晶,省去粘籽晶和后续热压固定籽晶的过程,降低成本。本发明的装置还可以消除由于籽晶粘接导致的生长缺陷,并且可以通过改变顶托的厚度调节晶体生长时的轴向温场,提升液相法生长碳化硅晶体的质量。本发明的方法制得碳化硅晶体的质量优异。
  • 用于液相法生长碳化硅晶体装置方法

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