专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]磁性氦原子散射谱仪-CN202210004602.9有效
  • 薛思玮;李毅;郭建东;朱学涛 - 中国科学院物理研究所
  • 2022-01-05 - 2023-07-21 - G01N27/626
  • 本发明提供一种磁性氦原子散射谱仪,包括:氦原子束产生系统,用于产生氦原子束;氦原子束激发器,用于激发所述氦原子束;样品台,被配置用于放置样品;二维空间探测器,用于接收从所述样品表面散射的不同散射角的氦原子束并输出电信号;以及电子控制与数据采集系统,其基于所述电信号获得所述样品的二维散射图。本发明的磁性氦原子散射谱仪分辨率高、测量重复性好、采集效率高。
  • 磁性原子散射
  • [发明专利]具有亚波长结构的超宽带吸波器及其制备方法和应用-CN202210717641.3有效
  • 李俊杰;李晨圣;潘如豪;耿广州;郭海明 - 中国科学院物理研究所
  • 2022-06-23 - 2023-07-21 - G02B5/00
  • 本发明提供一种具有亚波长结构的超宽带吸波器,其包括:衬底;位于所述衬底之上的反射层;位于所述反射层之上的第一吸收层;位于所述第一吸收层之上的第二吸收层;其中,所述第一吸收层为薄膜结构,并且所述第二吸收层具有由锗锑碲合金形成的亚波长结构。本发明还提供制备本发明的吸波器的方法。本发明还提供本发明的具有亚波长结构的超宽带吸波器或者本发明的方法制得的具有亚波长结构的超宽带吸波器在光电器件中的应用。本发明的吸波器既具有高的光吸收效率又具有宽的吸收带。本发明的吸波器不依赖入射电磁波的偏振状态,对于TE波、TM波以及非偏振光,均能实现完美吸收。本发明的吸波器对于大角度入射的电磁波,也能保持较高的吸收率。
  • 具有波长结构宽带吸波器及其制备方法应用
  • [发明专利]锗衬底-砷化镓/锗异质结薄膜复合结构及其制法和应用-CN202110274722.6有效
  • 张建军;黄鼎铭 - 中国科学院物理研究所
  • 2021-03-15 - 2023-07-21 - H01L31/109
  • 本发明提供一种锗衬底‑砷化镓/锗异质结薄膜复合结构,其包括具有图形结构的锗衬底、位于所述锗衬底上的具有无原子台阶锗表面的锗层,以及位于所述锗层上的砷化镓层。本发明还提供一种制备本发明的锗衬底‑砷化镓/锗异质结薄膜复合结构的方法。本发明还提供本发明的锗衬底‑砷化镓/锗异质结薄膜复合结构或本发明的方法制得的锗衬底‑砷化镓/锗异质结薄膜复合结构在锗基III‑V族半导体光电器件中的应用。本发明的锗衬底‑砷化镓/锗异质结薄膜复合结构能够完全避免砷化镓/锗异质结构中反向畤的产生,进而实现无缺陷的异质结薄膜。本发明的制备方法简单,且能够实现大规模阵列式可控生长。
  • 衬底砷化镓锗异质结薄膜复合结构及其制法应用
  • [发明专利]制备高度上连续可调的三维纳米结构的方法-CN202010494162.0有效
  • 耿广州;李俊杰 - 中国科学院物理研究所
  • 2020-06-03 - 2023-07-21 - B81C1/00
  • 一种制备高度上连续可调的三维纳米结构的方法,其包括如下步骤:(1)对第一衬底进行表面清洁处理;(2)在步骤(1)中得到的第一衬底上制备牺牲层;(3)使用电子束抗蚀剂旋涂制得的牺牲层,以形成抗蚀剂层;(4)使用电子束曝光系统以不同的曝光剂量,对步骤(3)中得到的抗蚀剂层进行图形曝光、显影和定影以形成具有不同深度的抗蚀剂层;(5)对步骤(4)中制得的抗蚀剂层进行薄膜沉积;(6)将步骤(5)中制得的样品置于能够溶解所述牺牲层的溶液中,使得除所述第一衬底外的样品漂浮于溶液上,然后将样品翻转转移至第二衬底上;(7)去除位于所述第二衬底上的抗蚀剂,获得最终的样品。本发明的方法不用套刻,大大简化了制作过程。
  • 制备高度连续可调三维纳米结构方法
  • [发明专利]一种制备变径纳米结构的方法-CN202010174972.8有效
  • 耿广州;李俊杰 - 中国科学院物理研究所
  • 2020-03-13 - 2023-07-21 - B81C1/00
  • 一种制备变径纳米结构的方法,包括以下步骤:(1)对衬底进行表面清洁处理;(2)使用灵敏度不同的抗蚀剂对所述衬底进行旋涂以形成至少为2层的抗蚀剂层,其中,相邻层的抗蚀剂层所采用的抗蚀剂的灵敏度不同;(3)对步骤(2)中具有抗蚀剂层的衬底进行图形曝光、显影和定影以形成具有图形结构的抗蚀剂层;(4)对步骤(3)中形成的具有图形结构的抗蚀剂层进行薄膜沉积,然后去除抗蚀剂层。本发明的方法制备的变径三维纳米结构可以包含任意能够曝光出的图案、尺寸,可以是实心,也可以是空心的,也可以是由原子层沉积可以实现的多种材料来构成。本发明制备的变径三维纳米结构可以用在超材料表面、超透镜、光电器件和传感器等领域。
  • 一种制备纳米结构方法

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