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[发明专利]光学邻近修正方法-CN202210411744.7在审
发明人：罗连波;严中稳;陈巧丽 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2022-04-19 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法，包括：提供初始设计版图，所述初始设计版图中具有参考图形以及若干主要图形，所述参考图形具有参考边，每个所述主要图形具有若干主要边；获取搜索参数，根据所述搜索参数以所述参考边为基准确定搜索区域；当任意一个所述主要边与所述搜索区域具有重合部时，将所述主要边标记为待选边；获取筛选条件，并将符合所述筛选条件的所述待选边标记为选定边。通过所述搜索区域进行粗选操作获取若干待选边，再通过筛选条件对若干所述待选边进行进一步的细选操作，进而从若干待选边中获取最终的选定边。通过这种选边机制能够有效的排除具有干扰的所述待选边，进而减少多选或者误选，使得选边结果更加精确，提升后续光学邻近修正效果。
光学邻近修正方法

[发明专利]光学邻近修正方法-CN202210404047.9在审
发明人： 严中稳;罗连波;陈巧丽 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2022-04-18 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法，包括：提供初始设计版图，初始设计版图中具有参考图形以及若干主要图形，参考图形具有参考边，每个主要图形具有若干主要边；以每个主要边为基准，获取第一搜索参数以确定第一搜索区域；当参考边与任意一个第一搜索区域具有重合部时，将第一搜索区域所对应的主要边标记为待选边；以参考边为基准，根据第一搜索参数获取第二搜索参数，以确定第二搜索区域；当任意一个待选边与第二搜索区域具有重合部时，将待选边标记为选定边。通过第一搜索区域和第二搜索区域的双向选边机制进行选边操作，减少多选或者误选的情况，使得选边结果更加精确，进而提升后续光学邻近修正的效果。
光学邻近修正方法

[发明专利]光学邻近修正方法-CN202210108869.2在审
发明人： 严中稳;王晨 -专利权人：中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2022-01-28 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法，包括：获取初始版图，所述初始版图包括若干初始图形；对所述初始版图进行缺陷检测，确定缺陷位置；在所述缺陷位置形成第一缺陷标记，所述第一缺陷标记包括可偏移的边界；根据所述缺陷位置，确定缺陷初始图形、对应所述缺陷初始图形的指定初始图形以及缺陷偏移方向；沿所述缺陷偏移方向偏移所述第一缺陷标记中与所述缺陷偏移方向垂直的边界，形成第二缺陷标记，所述第二缺陷标记与所述指定初始图形之间的最小间距小于相邻初始图形之间的预设最小间距；根据所述第二缺陷标记，确定所述缺陷初始图形中的待修正线段，并对所述初始版图进行修正。所述光学邻近修正方法可提高光学邻近修正的准确性和效率。
光学邻近修正方法

[发明专利]光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质-CN202210108339.8在审
发明人：游林;张婉娟;严中稳;李文浩 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2022-01-28 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，光学邻近修正方法包括：提供设计图形；沿设计图形的轮廓，获取具有台阶的边作为折线边，折线边由多个沿折线边的延伸方向延伸的第一线段、以及连接相邻第一线段的第二线段交替构成；对设计图形的折线边进行台阶消除处理，将折线边替换为与第一线段的延伸方向相同的直线型参考边，并围成与设计图形相对应的参考图形；在参考边上设立多个初始评价点；将多个初始评价点沿垂直于参考边的方向映射至折线边上，形成位于折线边上的评价点；对设计图形进行光学邻近修正处理，直至评价点处的边缘放置误差满足预设条件，形成修正后图形。本发明提高光学邻近修正的精准度。
光学邻近修正方法系统掩膜版设备存储介质

[发明专利]图形修正方法-CN202210113692.5在审
发明人：张戈;严中稳 -专利权人：中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2022-01-30 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种图形修正方法，包括：提供待修正版图，待修正版图包括若干待修正图形；提供第一目标版图，第一目标版图包括若干与若干待修正图形一一对应的第一目标图形；对待修正版图进行第一光学临近修正，获取第一修正版图，第一修正版图包括若干与待修正图形对应的第一修正图形；获取若干第一修正图形的第一边缘放置误差；基于各所述第一边缘放置误差，确定若干第一修正图形中的待处理修正图形；在若干第一目标图形中获取与待处理修正图形对应的待补偿目标图形；根据第一边缘放置误差对待补偿目标图形进行补偿，获取第二目标图形；根据第二目标图形对待处理修正图形进行第二光学临近修正，获取第二修正图形。所述方法修正结果精确。
图形修正方法

[发明专利]掩膜版图的拆分方法-CN202210086427.2在审
发明人：张戈;严中稳;王晨 -专利权人：中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2022-01-25 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G03F1/70 文献下载
摘要：一种掩膜版图的拆分方法，包括：提供初始版图，初始版图上具有若干必拆分图形和若干自由图形；对初始版图进行第一拆分处理，使得若干必拆分图形形成在不同的初始掩膜版图上；将若干自由图形进行分类处理，以形成若干图形组；基于第一拆分处理，对初始版图进行第二拆分处理，将若干自由图形形成在不同的初始掩膜版图上，得到掩膜版图，不同掩膜版图中目标图形的总面积之差和/或不同掩膜版图中的图形密度之差满足预设条件。通过先将若干必拆分图形进行拆分处理，再将若干自由图形进行分类并单独拆分，根据对必拆分图形的拆分结果进行微调整，保证各掩膜版图中的图形面积、数量以及分布具有很好的平衡，进而提升曝光后的图形轮廓的效果。
版图拆分方法

[发明专利]光学邻近修正方法-CN202111675780.6在审
发明人：游林;严中稳 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法，包括：提供初始版图，初始版图中包括沿第一方向排布的第一密集区、第一交界区、稀疏区、第二交界区以及第二密集区，第一密集区内具有若干平行于第二方向且沿第一方向排布的第一图形，第一交界区内具有第一边缘图形，第二密集区内具有若干平行于第二方向且沿第一方向排布的第二图形，第二交界区内具有第二边缘图形；获取第一边缘图形和第二边缘图形的环境信息；根据环境信息。通过所述光学邻近修正方法，能够具有针对性的根据每一种情形下第一边缘图形和第二边缘图形所处的环境，确定形成在稀疏区中的辅助图形的数量、位置和尺寸，以提升最终的光学邻近修正的效果。
光学邻近修正方法

[发明专利]光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质-CN202111674610.6在审
发明人： 严中稳;张戈 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，修正方法包括：提供修正后图形；检测修正后图形是否具有缺陷；在修正后图形具有缺陷的情况下，对修正后图形进行动态的修复处理，动态的循环迭代的修复处理中的调整量根据缺陷动态调整，修正后图形具有一种类型的缺陷时，将缺陷作为主缺陷，修正后图形具有多种类型缺陷时，选择其中一种类型的缺陷作为主缺陷，修复处理中出现的其余类型的缺陷均作为次缺陷，修复处理包括：根据缺陷的类型调整修正后图形；检测调整后的修正后图形是否具有缺陷，当调整后的所述修正后图形具有缺陷时，重复进行所述修复处理。本发明提高了修复处理的效率。
光学邻近修正方法系统掩膜版设备存储介质

[发明专利]光学邻近修正方法-CN202111630338.1在审
发明人： 严中稳;刘娜 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法，包括：提供目标版图，所述目标版图包括若干目标图形；获取初始版图，所述初始版图包括与若干目标图形对应的若干初始图形；对所述初始版图进行曝光处理，获取初始曝光版图；对比所述初始曝光版图与所述目标版图，获取所述初始曝光版图中的若干缺陷，并获取所述若干缺陷对应的若干边缘放置误差；根据所述若干边缘放置误差，在若干初始图形中获取若干待偏移图形；基于各待偏移图形对应的若干边缘放置误差，偏移各待偏移图形，形成初始修正版图；对所述初始修正版图进行若干次局部光学邻近修正，获取修正版图，以减少局部光学邻近修正中的EPE缺陷，提高修正版图的图形精度。
光学邻近修正方法

[发明专利]光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质-CN202111533657.0在审
发明人：张戈;严中稳 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2021-12-15 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，修正方法包括：提供主图形；根据相邻所述主图形的间距设定禁止边规则；在所述主图形的侧部添加辅助图形，其中，基于禁止边规则获得在所述主图形的侧部添加的辅助图形的数量。本发明有利于根据主图形周围实际的环境情况来添加辅助图形，进而完善所述光学邻近修正处理的处理结果。
光学邻近修正方法系统掩膜版设备存储介质

[发明专利]光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法-CN202111417022.4在审
发明人： 严中稳;刘娜 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2021-11-25 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法，所述光学临近修正方法包括：获取初始版图；对初始版图进行若干次光学临近修正，获取第n版图，n是自然数；对所述第n版图进行曝光处理，获取第n曝光版图；检测所述第n曝光版图的若干第n缺陷；根据与若干第n缺陷对应的若干初始缺陷标记、第一预设距离和次数n，形成对应的若干第n缺陷标记，第n缺陷标记的范围大于对应的初始缺陷标记的范围；在所述第n版图中，根据若干第n缺陷标记获取若干第n待修正边；根据预设移边步长移动若干第n待修正边，形成第n+1版图。从而，改善了光学临近修正方法的效率和修正效果。
光学邻近修正方法掩膜版制作方法

[发明专利]光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法-CN202111294787.3在审
发明人：陈术;严中稳;朱皖骄 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2021-11-03 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法，其中，光学邻近修正方法包括：获取初始版图；对初始版图进行曝光处理，获取初始曝光版图；当在初始曝光版图中检测到缺陷时，以预设最小移动步长，对初始版图进行n次探测光学邻近迭代修正；在所述n次探测光学邻近迭代修正后，获取与若干第n探测待修正边一一对应的若干最佳移动步长，最佳移动步长大于或等于所述预设最小移动步长；根据若干最佳移动步长，对第n探测版图进行m次第一光学邻近迭代修正，获取第一修正版图。从而，减少光学邻近修正过程中发生缺陷的风险，有效提升了光学邻近修正的效率。
光学邻近修正方法掩膜版制作方法

[发明专利]光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质-CN202111216495.8在审
发明人：陈术;严中稳 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2021-10-19 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，修正方法包括：提供设计版图，包括多个设计图形；获取对应设计版图的网格状的初始边界线，初始边界线经过设计图形，且初始边界线与经过的设计图形具有至少两个第一交点；在初始边界线上获取分割点，分割点位于初始边界线经过的设计图形的两侧、并与经过的设计图形的第一交点具有预设距离，位于相邻分割点之间、且经过设计图形的初始边界线作为第一边界线，剩余初始边界线作为第二边界线；在设计图形外侧形成第三边界线，第三边界线通过分割点与第二边界线交替首尾相接，第三边界线和第二边界线构成目标边界线。本发明有利于减少设计图形因被分割而产生跳变现象的概率。
光学邻近修正方法系统掩膜版设备存储介质

[发明专利]光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质-CN202111054531.5在审
发明人： 严中稳;陈术;陈巧丽;罗连波 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2021-09-09 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，修正方法包括：提供多个设计图形，设计图形包括待检测的待测图形；选择待测图形中待检测的边作为待选边；在待测图形外侧获得待选边所对应的搜索区，搜索区包括以待选边作为其中一边的矩形第一搜索区、以及位于第一搜索区两侧且与第一搜索区邻接的扇形第二搜索区，第二搜索区的圆心与同侧的待选边的端点重合，且圆心角为90度，第二搜索区的半径等于第一搜索区中与待选边相垂直的边的长度；利用搜索区对待测图形外侧进行图形搜索，查看搜索区中是否出现其他设计图形；当搜索区中出现其他设计图形时，待选边被选中，并用于作为待处理边。本发明有利于进行更精准地选边操作。
光学邻近修正方法系统掩膜版设备存储介质

[发明专利]一种光学邻近校正的方法-CN202111058248.X在审
发明人：陈术;严中稳 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2021-09-09 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近校正的方法，包括：提供目标版图，所述目标版图包括若干目标图形；对所述目标版图进行若干次第一光学邻近校正，获取第一校正版图；在所述目标版图上获取若干第二关键区域；在所述第一校正版图上获取若干第三关键区域；对第n个第二关键区域进行第一选边处理，获取第三位置信息，所述n为大于等于1的自然数；对第n个第三关键区域进行第二次选边处理，根据第四位置信息在第n个第三关键区域设置第二缺陷标记，获取待移动边，所述第四位置信息在第n个第三关键区域上与所述第三位置信息相对应；对所述待移动边进行移边处理。
一种光学邻近校正方法

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