专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种旋转蚀刻装置及湿法刻蚀机台-CN201810652415.5有效
  • 李侃;魏广升 - 武汉新芯集成电路制造有限公司
  • 2018-06-22 - 2020-11-03 - H01L21/67
  • 本发明公开一种旋转蚀刻装置及湿法刻蚀机台,适用于半导体湿法刻蚀工艺,包括:支撑结构,支撑结构提供一支撑面用以支撑待刻蚀的晶圆;待刻蚀的晶圆与支撑面之间预设一预定距离,支撑面朝向待刻蚀的晶圆的一面均布有多个气体喷嘴;控温加热装置,连接边缘的气体喷嘴的气体管路,以加热气体管路内的保护气体;喷嘴装置,设置于支撑面的上方,喷嘴装置包括一喷嘴与一液体输送管,喷嘴设置于朝向支撑面的一面,液体输送管连接喷嘴背向支撑面的一端。有益效果:通过增加控温加热装置,以加热保护气体,改变了晶圆的边缘温度,从而提升晶圆的蚀刻率,改变晶圆的均匀度,保证产品均匀度在可控的安全质量标准之内,减少报废风险。
  • 一种旋转蚀刻装置湿法刻蚀机台
  • [发明专利]检测刻蚀液过滤器的方法-CN200810204980.1有效
  • 魏广升;赵建方;王瑞明;黄海英 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2008-12-30 - 2010-07-07 - G01N15/08
  • 本发明提供了一种检测刻蚀液过滤器的方法,包括在覆盖一层均匀氧化物薄膜的晶片上选定多个点;测量所述晶片在所述多个点处的初始厚度;对所述晶片进行过刻蚀处理;测量所述晶片在所述多个点处的残留厚度;计算各个点处的初始厚度与残留厚度的差值并计算这些差值的标准方差,将所述标准方差与标准值做比较,若大于标准值,表明检测结果不合格,需要更换所述过滤器,若小于标准值,表明检测结果合格,本发明能够检测到过滤器的老化与否,为在过滤器老化的情况下,及时更换过滤器提供了判定依据,减少了由于过滤器老化而导致的次品的产生,保证了产品的合格率。
  • 检测刻蚀过滤器方法
  • [发明专利]一种检验刻蚀液是否有效的方法-CN200710039194.6有效
  • 魏广升 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2007-04-06 - 2008-10-08 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种检验刻蚀液是否有效的方法。现有检验方法因不去除测试晶圆表面的自然氧化层而直接用测试晶圆检验刻蚀液,致使测得的刻蚀速率无法准确反应刻蚀液的状况。本发明的方法先提供一测试晶圆,其中,该测试晶圆上具有一测试层,该测试层上具有一自然氧化层;接着去除该自然氧化层;之后测量该测试晶圆的厚度或方块电阻;然后将该测试晶圆浸没在刻蚀液中进行一预定刻蚀时间的刻蚀;之后测量该测试晶圆被刻蚀后的厚度或方块电阻;接着计算出该测试晶圆厚度或方块电阻的改变量,并依据该改变量计算出刻蚀速率;最后判断该刻蚀速率是否在容许范围内并依据判断结果判定刻蚀液是否有效。采用本发明的方法可有效检验出检验刻蚀液是否有效。
  • 一种检验刻蚀是否有效方法

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