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[发明专利]高效合成高质量碳化硅的装置及方法-CN202310666666.X在审
发明人：余雅俊;陈素春;林骞;占俊杰;徐良;刘建哲;夏建白 -专利权人： 金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2023-06-06 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B01J19/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种高效合成高质量碳化硅的装置及方法，该高效合成高质量碳化硅的装置包括装置本体和石墨盖板，所述装置本体具有顶端敞口的容纳腔，所述容纳腔内沿其高度方向由底部到顶端依次设有第一过滤板和第二过滤板，并通过所述第一过滤板和所述第二过滤板分隔为原料区、过滤区和反应区；所述石墨盖板盖设在所述装置本体的顶端敞口处，用于收集合成的碳化硅晶体。采用该高效合成高质量碳化硅的装置能够合成高质量纯度的碳化硅晶体，同时能够提高合成效率，降低生产成本。
高效合成质量碳化硅装置方法

[发明专利]应用于籽晶粘结的热压装置以及籽晶粘接方法-CN202310506982.0在审
发明人：余雅俊;占俊杰;林骞;徐良;刘建哲;夏建白 -专利权人： 金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2023-05-04 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： C30B29/36 文献下载
摘要：本申请涉及碳化硅新材料技术领域的一种应用于籽晶粘结的热压装置以及籽晶粘接方法，热压装置包括：底座，所述底座的其中一侧形成有第一环槽，所述底座位于所述第一环槽围设的区域内形成籽晶的承载面；定位环，所述定位环的其中一端形成连接端，所述连接端与所述第一环槽适配；压块，所述压块与所述定位环的内圈相适配，所述压块的其中一侧形成籽晶的接触面。本申请的热压装置可以将籽晶粘结胶水中的气泡由中心向四周逐渐排出，并使籽晶平衡受压，得到籽晶相对底座以及籽晶自身均达到高平整度的粘接结果，使籽晶能够以更平整的方式进行后一步的长晶。
应用于籽晶粘结热压装置以及方法

[发明专利]一种减少图形化衬底灰阶的方法-CN202310310369.1在审
发明人：余雅俊;占俊杰;林骞;徐良;刘建哲;李京波 -专利权人： 金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2023-03-27 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C30B33/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种减少图形化衬底灰阶的方法，包括：使用预热后的碱液腐蚀所述图形化衬底；将腐蚀后的图形化衬底进行退火处理。该方法通过碱液腐蚀与抽真空退火处理协同配合作用，使得图形化衬底灰阶缺陷的减少取得显著效果。
一种减少图形衬底方法

[发明专利]贴蜡晶片、贴蜡方法及其在改良衬底边缘色差中的应用-CN202310100926.7在审
发明人：余雅俊;占俊杰;林骞;徐良;刘建哲;夏建白 -专利权人： 金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2023-01-28 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： B24B41/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种贴蜡晶片、贴蜡方法及其在改良衬底边缘色差中的应用，该贴蜡方法通过在晶片上先形成薄胶层实现贴蜡表面的平整，之后对薄胶层以及蜡层进行抽真空操作的同时加压处理，从而将薄胶层以及蜡层中的气泡抽出，保证表面平整，边缘无塌边现象，边缘色差得以改善，大大提升了贴蜡晶片的质量，同时还提高了工作效率以及还降低了企业成本。
晶片方法及其改良衬底边缘色差中的应用

[发明专利]一种蓝宝石衬底表面加工方法及抛光机-CN202310027334.7在审
发明人：余雅俊;陈素春;徐良;刘建哲;占俊杰;林骞;夏建白;李京波 -专利权人： 金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2023-01-09 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本申请涉及晶片加工技术领域的一种蓝宝石衬底表面加工方法及抛光机，蓝宝石衬底表面加工方法包括：用切割线将晶棒切割分成晶圆；对所述晶圆进行双面研磨处理；对所述晶圆进行双面抛光处理，并在抛光时对抛光液PH值、抛头压力和抛光作业温度进行实时监测和调控。本申请在抛光工艺中精确控制抛光过程中的PH值等工艺数据，提高在该过程中的物理化学反应，在整个去划痕抛光工艺中各方面数据保持动态平衡，增强了对蓝宝石衬底表面划痕和坑洞等缺陷的处理，大大提升了蓝宝石衬底的品质。
一种蓝宝石衬底表面加工方法抛光机

[发明专利]晶片研磨装置-CN202211234362.8在审
发明人：陈素春;余雅俊;占俊杰;徐良;刘建哲;林骞 -专利权人： 金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2022-10-10 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本申请涉及蓝宝石新材料技术领域的一种晶片研磨装置，包括：研磨盘，所述研磨盘一侧形成晶片的承载平面；第一轴，所述第一轴位于所述承载平面一侧并与所述承载平面垂直，所述第一轴靠近承载平面边缘处；研磨砂轮，所述研磨砂轮连接于所述第一轴上，所述研磨砂轮包括研磨面，所述研磨面外圈延伸至所述承载平面中心点；固定组件，设于所述基座上，用于将所述晶片固定在所述承载平面上。本申请的晶片研磨装置在保证晶片减薄效率的同时，减少了工艺步骤，降低了崩边碎片发生的可能性，并能满足面型曲圆化晶片的加工。
晶片研磨装置

[发明专利]平面光波导及其制备方法-CN202110566627.3有效
发明人：徐良;曹力力;蓝文安;刘圣龙;刘建哲;余雅俊;夏建白;李京波 -专利权人： 金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2021-05-24 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： G02B6/122 文献下载
摘要：本发明提供了一种平面光波导及其制备方法，该平面光波导包括由下至上依次层叠的基板、纳米热压印胶层、第一包层、波导芯层和第二包层；所述纳米热压印胶层的表面形成有多个凹槽；所述第一包层形成于所述凹槽的侧壁、底壁和所述纳米热压印胶层的上表面；所述波导芯层填充所述凹槽，并且与所述纳米热压印胶层之间由所述第一包层间隔开；所述第二包层作为所述平面光波导的外表面覆盖所述第一包层和所述波导芯层。本发明中的平面光波导通过在基板上设置纳米热压印胶层，并在纳米热压印胶层上形成波导芯层，能够避免使用刻蚀和离子扩散等传统工艺，降低工艺成本，减少污染，进一步推进PLC光器件产业的发展。
平面波导及其制备方法

[实用新型]一种利用电磁脉冲清除加工屑的装置-CN202123044640.7有效
发明人：徐良;余雅俊;占俊杰;陈素春;孟秀清;童雪峰 -专利权人： 金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2021-12-03 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： B28D5/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种利用电磁脉冲清除加工屑的装置，包括：电磁脉冲发射器，所述电磁脉冲发射器包括支撑结构和设置在所述支撑结构一端的感应线圈；以及电磁脉冲控制系统，所述电磁脉冲控制系统与所述感应线圈电性连接，用于控制脉冲宽度和脉冲间隔。该装置通过在金刚石线锯的一侧设置电磁脉冲发射器，利用电磁脉冲对加工屑进行充分消电离，从而降低加工屑的粘附性，之后利用工作液将加工屑带走，从而确保相邻金刚石线的间隙不被堵塞，避免金刚石线因张力增大而断裂。
一种利用电磁脉冲清除加工装置

[发明专利]一种双面抛光晶片的加工方法-CN202210768342.2在审
发明人：林骞;余雅俊;占俊杰;徐良;刘建哲 -专利权人： 金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2022-07-01 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本申请涉及晶片加工技术领域的一种双面抛光晶片的加工方法，包括以下步骤：选取经过单面研磨的晶片；其中，晶片经过单面研磨的面为晶片正面；选用抛光液对晶片正面进行超轻压技术抛光；使用研磨液对晶片背面进行深度研磨；选用抛光液对经过深度研磨的晶片的背面进行化学机械抛光，得到双面抛光的晶片。本申请的加工方法将原先走单抛片路线良品的或不良的晶片进行双抛片工艺再生利用加工，而且由于单抛片加工过程已完成晶片其中一侧即晶片正面的研磨工序，在双抛片加工过程中，只需对晶片正面进行调整、修饰的抛光即可，从而从整体上提升了晶片良率，极大节省了对晶片整体双面抛光的加工时间。
一种双面抛光晶片加工方法

[发明专利]提高晶片抛光厚度均匀性的方法-CN202110406099.5有效
发明人：徐良;曹力力;占俊杰;邢晓鹏;蓝文安;刘建哲;余雅俊;夏建白;李京波;黄仕华;孟秀清;刘圣龙 -专利权人： 金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2021-04-15 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明涉及半导体生产加工领域，具体公开了一种提高晶片抛光厚度均匀性的方法，包括以下步骤：使用抛光头对多个呈环形排布的测试晶片进行抛光处理，得到抛光后的测试晶片；获取抛光后每个测试晶片不同位置的厚度数据；根据所述厚度数据确定所述抛光头不同位置的压力值；根据所述抛光头不同位置的压力值确定校正垫板的形状；将确定的校正垫板放置在所述抛光头与抛光盘之间；对抛光盘上的待处理晶片进行抛光处理。根据测试晶片不同位置的厚度数据确定抛光头不同位置的压力分布，进而确定校正垫板的形状，通过校正垫板的加入来调节抛光头的压力均匀性。
提高晶片抛光厚度均匀方法

[发明专利]一种面型曲圆化元件加工装置及加工方法-CN202210720083.6在审
发明人：陈素春;余雅俊;徐良;刘建哲;占俊杰;林骞 -专利权人： 金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2022-06-23 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： B24B13/02 文献下载
摘要：本申请涉及一种面型曲圆化元件加工装置及加工方法，包括：载料盘，所述载料盘一侧形成载料区，所述载料区包括载料平面；驱动轴，所述驱动轴设于载料平面中心点正上方，且驱动轴垂直于载料平面；第一研磨头，第一研磨头一端连接于驱动轴上，第一研磨头包括研磨面，研磨面与载料平面之间的夹角为0‑30，且研磨面靠近载料平面中心一端与载料平面的间距大于研磨面靠近载料平面边缘一端与载料平面的间距。本申请的加工装置，由于第一研磨头的研磨面与载料平面水平方向整体呈倾斜的状态，使得蓝宝石圆片上表面在第一研磨头的不断打磨下，可以有效形成规格要求坡度的面型曲圆化蓝宝石衬底，提高了面型曲圆化蓝宝石衬底加工的品质。
一种面型曲圆化元件加工装置方法

[发明专利]具有磨粒的蓝宝石晶片及其制备方法、蓝宝石修整器-CN202010323878.4有效
发明人：徐良;杨新鹏;郑小琳;蓝文安;刘建哲;余雅俊;夏建白;李京波;黄仕华;占俊杰 -专利权人： 金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2020-04-22 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本发明提供了一种具有磨粒的蓝宝石晶片及其制备方法、蓝宝石修整器，该制备方法包括以下步骤：在蓝宝石晶片上依次形成氧化硅层和光刻胶层；通过光刻工艺和刻蚀工艺，在所述蓝宝石晶片上形成裸露于外的氧化硅掩膜图形；以所述氧化硅掩膜图形为掩膜对所述蓝宝石晶片进行侵蚀处理；通过清洗工艺，在所述蓝宝石晶片上形成磨粒。通过在蓝宝石晶片表面侵蚀出多个特定形状的磨粒，并且磨粒的排列具有高度的有序性，以提升修整效果。
具有蓝宝石晶片及其制备方法修整

[发明专利]一种从蓝宝石切割固废中回收氧化铝的方法-CN202111482409.8在审
发明人：占俊杰;徐良;余雅俊;陈素春;孟秀清;阳明益;童雪峰 -专利权人： 金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2021-12-06 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： C01F7/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种从蓝宝石切割固废中回收氧化铝的方法，包括：使用油污去除剂去除蓝宝石切割固废表面的油污，再使用清洗剂清洗并烘干；烘干后，使蓝宝石切割固废中的镍与CO气体反应生成四羰基镍，利用有机溶剂去除四羰基镍，再使用清洗剂清洗并烘干；以及在含氧环境下使蓝宝石切割固废中的金刚石燃烧，从而去除金刚石。该方法通过使用有机溶剂去除油污、利用CO去除镍以及通过燃烧去除金刚石，实现了高纯度氧化铝的回收，减少了环境污染，降低了企业成本。
一种蓝宝石切割固废中回收氧化铝方法

[发明专利]一种在蓝宝石衬底铜抛后清洗的方法-CN202111518270.8在审
发明人：徐良;余雅俊;占俊杰;陈素春;孟秀清;阳明益;童雪峰 -专利权人： 金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种在蓝宝石衬底铜抛后清洗的方法，该方法采用磺酸微腐蚀、纳米除油乳化剂乳化和超声波清洗相结合，有效清除了蓝宝石衬底上的黏附颗粒、有机物、金属污染物，以及特别是公认的难以清除的顽强氧化物，从而提高了蓝宝石衬底的稳定性，为蓝宝石衬底下一步工艺奠定了基础。
一种蓝宝石衬底铜抛后清洗方法

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