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[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置-CN202210273503.0有效
发明人： 赵承潭;张震 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2022-03-18 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本申请提供了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，其中，所述第一遮光层可以有效阻挡所述像素电极间隙处的漏光，即使在彩膜基板的黑色矩阵层线宽有限的情况下，也可以实现避免串色不良的目的。且所述第一基板对位标记与所述第一遮光层采用一次构图工艺形成，大大降低了第一遮光层与第一基板对位标记之间套刻误差(overlay)。使得在阵列基板与彩膜基板的对盒过程中，彩膜基板与阵列基板在通过第一基板对位标记对位的同时也实现了彩膜基板的黑色矩阵层与第一遮光层的精准对位，避免了由于彩膜基板的黑色矩阵层与第一遮光层的对位偏差造成的串色不良。
阵列及其制备方法显示装置

[发明专利]液晶显示面板及制作方法、液晶显示装置-CN202310804363.X在审
发明人： 赵承潭 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司
申请日： 2023-06-30 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： G02F1/1343 文献下载
摘要：本公开实施例提供了一种液晶显示面板，液晶显示面板包括彩膜基板、阵列基板、液晶层和多个液晶驱动单元，彩膜基板和阵列基板相对连接，液晶层和多个液晶驱动单元位于彩膜基板和阵列基板之间。多个液晶驱动单元阵列布置，液晶驱动单元包括至少一对驱动电极，每对驱动电极包括相对的第一电极和第二电极，相对的第一电极和第二电极用于驱动第一电极和第二电极之间的液晶。相对的第一电极和第二电极的排列方向与阵列基板的承载面平行，且第一电极和第二电极的相对的表面均与阵列基板的承载面相交。本公开实施例可以改善液晶效率不足不良。
液晶显示面板制作方法液晶显示装置

[发明专利]液晶透镜、其制作方法及显示装置-CN202010560414.5有效
发明人： 赵承潭 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2020-06-18 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种液晶透镜、其制作方法及显示装置。该液晶透镜包括相对设置的两个基板和位于两个基板之间的液晶分子；基板包括衬底第一配向层和第二配向层，第二配向层的材料由自取向液晶材料聚合而成，自取向液晶材料包括液晶分子和可聚合单体；两个基板的第一配向层的取向一致，两个基板的第二配向层的取向方向一致，第二配向层的取向与第一配向层的取向不同，两个基板中的第二配向层在与衬底平行的平面上的正投影互相重合。该液晶透镜在制作时可先将第一配向层进行取向处理，在对合之后再利用光照形成第二配向层，使得两个基板中的图形化的第二配向层能够完全重合，避免了液晶透镜中存在液晶紊乱区，从而提升了液晶透镜的光学效果。
液晶透镜制作方法显示装置

[发明专利]一种显示面板及其制备方法、显示装置-CN202310282529.6在审
发明人： 赵承潭 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2023-03-21 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置。该显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板、支撑部和隔垫物，支撑部位于第一基板面向第二基板的一侧；隔垫物位于第二基板面向第一基板的一侧；沿第一方向，部分子像素在支撑部的正投影位于支撑部内；沿第二方向，部分子像素在隔垫物的正投影位于隔垫物内。其中：支撑部与隔垫物接触；或者，支撑部在第二基板上的正投影与隔垫物无交叠，隔垫物用于支撑第一基板和第二基板。本申请实施例可以增大显示面板的开口率，避免大开口率的显示面板在受压情况下，阵列基板和彩膜基板划伤对面基板的显示区。
一种显示面板及其制备方法显示装置

[发明专利]光线处理装置、显示装置及控制方法、控制装置、显示设备-CN202310118382.7在审
发明人：谢昌翰;黄华;赵承潭;康昭 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2023-02-10 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：本公开实施例提供一种光线处理装置、显示装置及控制方法、控制装置、显示设备。光线处理装置包括：光线调制模组，用于在不同的电场作用下将入射的第一线偏振光调制为不同方向的线偏振光；四分之一波片，用于将入射的不同方向的线偏振光转化为左旋圆偏振光或右旋圆偏振光；第一偏振透镜，用于对入射的第一方向圆偏振光产生衍射响应后出射具有聚焦效果的第二方向圆偏振光；第二偏振透镜，用于对入射的第二方向圆偏振光产生衍射响应后出射具有聚焦效果的第一方向圆偏振光，第一方向左旋和右旋中的一种，第二方向为另一种。本公开的技术方案，可以实现显示设备的多焦面间快速切换，更好地满足头戴显示、近眼显示设备的设计需求。
光线处理装置显示装置控制方法显示设备

[发明专利]复合液晶透镜、制备方法、显示装置及显示方法-CN202110860754.4在审
发明人： 赵承潭 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-07-28 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G02F1/29 文献下载
摘要：本申请公开了一种复合液晶透镜、制备方法、显示装置及显示方法，其中一种复合液晶透镜，包括层叠设置的第一液晶透镜和第二液晶透镜，其中，第一液晶透镜，被配置为通过第一液晶透镜中液晶折射率的变化使不同波长的入射光线按照特定的方向偏转；第二液晶透镜，被配置为通过第二液晶透镜中液晶相位的变化使不同波长的入射光实现特定的方向偏转；通过第二液晶透镜对透过第一液晶透镜的光进行补偿，或者通过第一液晶透镜对透过第二液晶透镜的光进行补偿，使得透过复合液晶透镜的不同波长的光在同一位置聚焦或接近聚焦。本申请实施例提供的复合液晶透镜有效解决了不同透镜对于波长的依赖性，减少色散现象，实现更好的显示效果。
复合液晶透镜制备方法显示装置显示

[发明专利]显示基板及其控制方法和显示装置-CN202210563141.9在审
发明人：马勇;谷新;康昭;李树磊;赵承潭;谢昌翰;黄华;张宜驰 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2022-05-18 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： G02F1/163 文献下载
摘要：本申请提供了一种显示基板及其控制方法和显示装置。该显示基板包括衬底基板和设置在所述衬底基板上的阵列排布的多个像素单元，其中，所述像素单元包括设置在所述衬底基板上的反射层，被配置为：反射光线；设置在所述反射层上的第一调光层，被配置为：在电压控制下在透明态和第一颜色态之间切换以调节经过所述第一调光层的光线；设置在所述第一调光层上的第二调光层，被配置为：在电压控制下在透明态和第二颜色态之间切换以调节经过所述第二调光层的光线。本申请通过多个像素单元中的调光层对透射光线的调节从而实现灰阶显示。
显示及其控制方法显示装置

[发明专利]显示面板、制作显示面板的方法和显示装置-CN202210580829.8在审
发明人：康昭;赵仲兰;李树磊;黄华;马勇;赵承潭;谢昌翰 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2022-05-25 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： G02F1/1685 文献下载
摘要：本发明公开了显示面板、制作显示面板的方法和显示装置，所述显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板，第一基板的一侧设有第一电极层，第二基板的一侧设有第二电极层；显示面板还包括多个电子墨水单元，电子墨水单元位于第一基板和第二基板之间，每个电子墨水单元内均设有分散液和多个颗粒；颗粒具有电荷，颗粒的颜色为白色；分散液包括第一分散液和第二分散液，第一分散液与第二分散液互不相溶，第一分散液是透明的，第一分散液靠近显示面板的出光侧，第二分散液中含有吸光材料。由此，显示亮态时白色颗粒移动到靠近显示面板的出光侧，白色的颗粒中间夹杂的是透明的第一分散液，提高了亮态反射率，从而提高对比度，提高了显示效果。
显示面板制作方法显示装置

[实用新型]液晶透镜及显示装置-CN202121395277.0有效
发明人： 赵承潭 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-06-22 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种液晶透镜及显示装置。该液晶透镜包括：第一介质透镜，一面上设置有第一凹槽，第一凹槽的表面上设置有第一取向层；封装偏光结构，位于第一介质透镜设置有第一凹槽的一侧，封装层靠近第一介质透镜的一侧设置有第二取向层；液晶分子，位于第一凹槽和封装偏光结构限定的空间内；封装偏光结构至少在第一取向层和第二取向层光聚合的过程中对偏振光进行折射，以使折射后的偏振光均匀分布在第一凹槽的表面。本实施例通过封装偏光结构对偏振光进行折射，从而使得液晶组合物中的活性取向单体受到的照射强度均匀，使得形成在第一凹槽面上的第一取向层的厚度较为均匀，有利于提升液晶透镜的品质。
液晶透镜显示装置

[发明专利]显示装置及其制备方法-CN202080000394.4在审
发明人： 赵承潭;袁广才 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2020-03-26 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：一种显示装置及其制备方法，显示装置包括相对设置的下偏光板(2)和上偏光板(1)以及位于下偏光板(2)与上偏光板(1)之间的内嵌式偏光层(3)，内嵌式偏光层(3)包括第一取向层(301)、第二取向层(303)以及偏光材料层(302)，偏光材料层(302)包括液晶材料，偏光材料层(302)设于第一取向层(301)和第二取向层(303)之间，并与第一取向层(301)以及第二取向层(303)均接触，从而能够增强显示装置的对比度，提高显示装置的显示效果。
显示装置及其制备方法

[发明专利]一种电路基板及其制作方法和微发光二极管显示基板-CN201910212495.7有效
发明人： 赵承潭 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2019-03-20 - 公布日： 2021-09-21 - 主分类号： H01L27/15 文献下载
摘要：本发明提供一种电路基板及其制作方法和微发光二极管显示基板，其中电路基板包括：衬底基板，所述衬底基板上包括多个转印区域：形成于所述转印区域的准直结构，所述准直结构用于支撑所述转印区域上的微发光二极管在转印过程中处于准直状态。这样，在将微发光二极管巨量转移到电路基板上时，每个转印区域的准直结构能够使得该转印区域上的微发光二极管处于准直状态，进而保证该电路基板上的多个微发光二极管的准直度较好，优化了多个微发光二极管的发光均一性和微发光二极管显示基板的整体显示效果。
一种路基及其制作方法发光二极管显示

[发明专利]液晶透镜、其制作方法及显示装置-CN202110692131.0在审
发明人： 赵承潭 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-06-22 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种液晶透镜、其制作方法及显示装置。该液晶透镜包括：第一介质透镜，一面上设置有第一凹槽，第一凹槽的表面上设置有第一取向层；封装偏光结构，位于第一介质透镜设置有第一凹槽的一侧，封装层靠近第一介质透镜的一侧设置有第二取向层；液晶分子，位于第一凹槽和封装偏光结构限定的空间内；封装偏光结构至少在第一取向层和第二取向层光聚合的过程中对偏振光进行折射，以使折射后的偏振光均匀分布在第一凹槽的表面。本实施例通过封装偏光结构对偏振光进行折射，从而使得液晶组合物中的活性取向单体受到的照射强度均匀，使得形成在第一凹槽面上的第一取向层的厚度较为均匀，有利于提升液晶透镜的品质。
液晶透镜制作方法显示装置

[发明专利]用于发光单元的巨量转移方法，阵列基板以及显示装置-CN201910599982.3有效
发明人： 赵承潭 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2019-07-04 - 公布日： 2021-08-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及显示技术领域，并且具体地，涉及用于发光单元的巨量转移方法，阵列基板以及显示装置。该方法包括以下步骤：提供阵列排布的多个发光单元，其中，多个发光单元中的每一个包括第一电极，并且第一电极延伸到发光单元的侧边缘；提供衬底基板，其中衬底基板包括阵列排布的多个区域，多个区域中的每一个包括第二电极和位于第二电极上的电固化胶；通过转移设备拾取多个发光单元；将第一电压和第二电压分别施加到第一电极和第二电极；将转移设备与衬底基板对准，使得每一个第一电极延伸到发光单元的侧边缘的部分与一个对应的电固化胶接触；以及分离转移设备与多个发光单元，使得每一个发光单元被转移到衬底基板的多个区域中的一个对应区域。
用于发光单元巨量转移方法阵列以及显示装置

[发明专利]微发光二极管转移基板及转移方法、显示面板及制备方法-CN201811344242.7有效
发明人：黄华;赵承潭;朱小研;谢昌翰 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-11-13 - 公布日： 2021-02-19 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：本申请公开了微发光二极管转移基板及转移方法、显示面板及制备方法，用以简化微发光二极管器件制备的工艺复杂度。本申请实施例提供的一种微发光二极管的转移基板，所述转移基板包括：第一衬底基板以及位于所述第一衬底基板之上的电致变形层；所述电致变形层用于：使得每次需要转移的所述微发光二极管对应区域的电致变形层的厚度，大于该次不需要转移的所述微发光二极管对应区域的电致变形层的厚度。
发光二极管转移方法显示面板制备

[发明专利]一种图形化方法-CN201810469280.9有效
发明人： 赵承潭;李鑫;黄华 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-05-16 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： H01L21/308 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种图形化方法，用以准确的实现在特定区域的图形化。该图形化方法包括：在基底上制作至少一凸起结构，所述凸起结构的位置与需要图形化的区域对应；在所述凸起结构上形成一膜层；采用纳米压印模板对所述膜层进行图形化。由于在采用纳米压印模板对膜层进行图形化的步骤之前，在基底上制作至少一凸起结构，与现有技术相比，能够使得凸起结构之外的区域不能实现纳米压印，进而准确的实现在特定区域的图形化。
一种图形方法

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