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- [实用新型]离子注入装置的基板传输结构-CN201320034834.5有效
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李惠元;赵大庸
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四川虹视显示技术有限公司
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2013-01-23
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2013-07-10
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H01L21/677
- 本实用新型公开了一种能够在缩短工序时间的同时保证离子注入均匀度的离子注入装置的基板传输结构,其包括布置在同一平面上的至少两组轨道及对应可沿轨道移动的基板输送装置,各条轨道在与所述离子注入装置对应的离子注入工位交会,各条轨道的送进工位相互平行并间隔设置,各条轨道的送出工位也相互平行并间隔设置。所述的基板输送装置由多个首尾相连且可彼此相对转动的节状部件组成,基板固定结构通过中心支座与基板输送装置连接。本实用新型可以向离子注入装置内同时送进两块以上的基板,但各块基板与离子注入装置之间的距离保持不变,离子注入均匀度有保证,同时减少了抽真空次数,提高了生产效率。
- 离子注入装置传输结构
- [发明专利]AMOLED器件的基板及其蒸镀工艺-CN200910312472.X无效
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赵大庸
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四川虹视显示技术有限公司
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2009-12-29
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2010-06-16
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H01L27/32
- 本发明提供一种能够克服AMOLED器件蒸镀工序中发生对位不良问题的AMOLED器件的基板。AMOLED器件的基板,包括R、G、B像素ITO与TFT像素电路,所述R、G、B像素ITO与TFT像素电路采用纵向方式排列。本发明通过改变AMOLED器件的基板上的R、G、B像素ITO与TFT像素电路的排列方式,使得蒸镀工序中发生的对位不良问题最小化,即使金属精密掩模板的精密度有点降低,也可以减少由边缘尺寸导致的发光层对位不良的问题;掩模板的精密度、张紧技术、OLED工艺余量等都不用考虑,可以有效减小随着AMOLED器件的尺寸增大,掩模板的开口变形及精密度下降导致的发光层对位不良问题。
- amoled器件及其工艺
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