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[发明专利]移载机、清洗组件及基板处理装置-CN202180076294.4在审
发明人：真继阿沙葵;谷泽昭寻;古泽磨奈人;青山英治;斋藤步;笹谷祐介;小林贤一;宫泽康之;相马刚;能条启一 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2021-10-25 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：实现能够以简单的构造使基板的清洗力提高的清洗组件及基板处理装置。清洗组件包含：第一搬送机构(210‑1)，该第一搬送机构用于将被研磨面朝向下方的状态的基板(WF)沿着搬送路径(405)搬送至下游侧的基板交接位置(418)；超声波清洗槽(440)，该超声波清洗槽配置于从搬送路径(405)离开的位置，并用于清洗被研磨面朝向下方的状态的基板(WF)；移载机(420)，该移载机用于在搬送路径(405)的基板交接位置(418)与超声波清洗槽(440)之间移载基板(WF)；及第二搬送机构(210‑2)，该第二搬送机构用于将通过移载机(420)而从超声波清洗槽(440)移载至基板交接位置(418)的基板(WF)沿着搬送路径(405)进一步向下游侧搬送。
移载机清洗组件处理装置

[发明专利]研磨装置及研磨方法-CN202180074331.8在审
发明人： 谷泽昭寻;宫泽康之 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2021-08-19 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： B24B49/10 文献下载
摘要：提供一种能够精确测定基板的研磨状态的技术。研磨装置(100)具备：传感器头(40)，该传感器头具有投光器、聚光器及受光器，该投光器投射入射光，该聚光器将从投光器投射的入射光聚光并射入基板，该受光器接收从基板反射的反射光；位移机构(60)，该位移机构使聚光器相对于基板相对位移，从而使聚光器与基板的距离变化；磨损量测定装置(70)，该磨损量测定装置测定研磨垫的磨损量；及控制装置(80)，控制装置基于光量参数，来测定基板的研磨状态，该光量参数是受光器所接收的反射光的光量的参数，并且所述控制装置基于磨损量测定装置所测定的研磨垫的磨损量来控制位移机构，以将聚光器与基板的距离维持在预设的基准距离。
研磨装置方法

[发明专利]基板保持模块、基板处理装置及基板处理方法-CN201710064401.7有效
发明人： 谷泽昭寻;小林贤一;赤泽贤一 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2017-02-04 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种存取自由度较高的基板保持模块、基板处理装置及基板处理方法。提供一种能够接收由搬送机器人搬送的基板的基板保持模块。该基板保持模块具有：底座，所述底座具有用于保持基板的保持机构；罩，所述罩用于覆盖所述底座；及移动机构，所述移动机构使所述罩以离开所述底座的方式移动。
保持模块处理装置方法

[发明专利]研磨单元、基板处理装置及研磨方法-CN202011535044.6在审
发明人： 谷泽昭寻;小林贤一;真继阿沙葵 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本发明提供一种使检测基板从顶环跳出的精度提高的研磨单元、基板处理装置、及研磨方法。研磨单元(300)包含：贴合有用于研磨基板(WF)的研磨垫(352)的研磨台(350)；用于保持基板(WF)并将该基板按压于研磨垫(352)的顶环(302)；用于发射光至在研磨垫(352)上的检测区域(372)的光发射构件(371)；用于依据从检测区域(372)所反射的光来检测基板(WF)从顶环(302)跳出的情况的滑出检测器(370)；以及排除流入检测区域(372)的研磨液的排除机构(380)。
研磨单元处理装置方法

[发明专利]镀覆装置-CN201710763259.5有效
发明人： 谷泽昭寻;小林贤一;宫泽康之;相马刚 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2017-08-30 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：提供一种镀覆装置，能够一边继续运转，一边进行基板保持架的维护。镀覆装置包括：处理部(170C)，对基板W进行镀覆；保管容器(20)，对用于保持基板W的基板保持架(11)进行保管；搬运机(140)，在处理部(170C)与保管容器(20)之间搬运基板保持架(11)；维护区域(21)，与保管容器(20)邻接；以及基板保持架载体(25)，支承于保管容器(20)。基板保持架载体(25)构成为：能够以支承有基板保持架(11)的状态而在保管容器(20)与维护区域(21)之间移动。
镀覆装置

[发明专利]基板输送用移载机及移载方法、半导体器件制造装置、斜面研磨装置及研磨方法、存储介质-CN201611167264.1有效
发明人： 谷泽昭寻;小林贤一;南条贵弘;竹中宏行 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2016-12-16 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： B24B21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够将晶片的中心精度良好地定位于载置台的轴心的基板输送用移载机及移载方法、半导体器件制造装置、斜面研磨装置及研磨方法、存储介质。基板输送用移载机包括彼此相对的一对手部、使一对手部在开闭方向上彼此对称地移动的开闭机构、向开闭机构传递动力的驱动部以及控制驱动部的动作的控制部。开闭机构具有根据一对手部的开闭方向的移动量进行旋转的旋转体以及检测旋转体的旋转量的传感器。控制部基于来自传感器的信号控制驱动部的动作。
输送用移载机方法半导体器件制造装置斜面研磨存储介质

[发明专利]基板搬送装置及具备基板搬送装置的基板处理装置-CN201980046589.X在审
发明人： 谷泽昭寻;木场隆;小林贤一;赤泽贤一;杜峯杰;柏木诚;真继阿沙葵;南条贵弘;青山英治;三谷隆;户川哲二 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2019-07-09 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：提供搬送四边形的基板的自动化装置。根据一实施方式，提供用于搬送四边形的基板的基板搬送装置，该基板搬送装置具有：多个搬送辊，被构成为支承基板的下表面；多个辊轴，安装有所述多个搬送辊；马达，用于使所述多个辊轴旋转；以及推动器，用于提升所述多个搬送辊上的基板，以使所述多个搬送辊上的基板远离所述多个搬送辊，所述推动器具有平台，能够在所述多个搬送辊之间的空隙通过。
基板搬送装置具备处理

[发明专利]反转机和基板研磨装置-CN201610817482.9有效
发明人：赤泽贤一;小林贤一;谷泽昭寻;保科真穗 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2016-09-12 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本发明提供使基板上下反转的小型的反转机以及具有这种反转机的基板研磨装置。使基板(W)上下反转的反转机(100)具有：用于载置基板(W)的第一机械臂对(21a)；与所述第一机械臂对(21a)彼此相对的第二机械臂对(21b)；开闭机构(23)，对所述第二机械臂对(21b)进行开闭，以把持载置在所述第一机械臂对(21a)上的基板(W)；以及旋转机构(22)，使所述第一机械臂对(21a)和所述第二机械臂对(21b)绕规定的轴线(21)旋转，从而使所述基板(W)上下反转，其中，该规定的轴线(21)设定于它们的内侧且沿着所述第一机械臂对(21a)和所述第二机械臂对(21b)的延伸方向。
转机研磨装置

[发明专利]校正装置和校正方法-CN201611052775.9有效
发明人： 谷泽昭寻;小林贤一 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2016-11-25 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： B24B21/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种校正装置，该校正装置能够使抛光垫片的按压力通过简单方法进行调节，而无需移除其上可放置有基板的台阶。本发明的一个实施例提供一种针对用于抛光基板的斜面部分的斜面抛光系统的校正装置，包含：载荷测量设备，其能够测量来自斜面抛光系统的抛光垫片的按压载荷；和底板，在其上能够放置有载荷测量设备，其中，底板能够固定在能够在其上放置基板的真空吸附台上。
校正装置载荷测量设备底板抛光垫片抛光系统基板按压抛光基板真空吸附按压力移除校正测量

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