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- [发明专利]静电吸盘-CN201910149763.5有效
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片山宝;山口康介;板仓郁夫;籾山大;白石纯;西愿修一郎
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TOTO株式会社
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2019-02-28
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2023-06-30
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H01L21/683
- 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够提高强度。提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、在从所述第2主面到所述第1主面的跨度上设置的穿通孔；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板且具有连通于所述穿通孔的气体导入路；及第1多孔质部，设置于所述穿通孔，其特征为，所述第1多孔质部具有位于所述陶瓷电介体基板侧的第1区域，所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1区域侧的第1基板区域，所述第1区域与所述第1基板区域被设置成接触，所述第1区域中的平均粒径不同于所述第1基板区域中的平均粒径。
- 静电吸盘
- [发明专利]静电吸盘-CN202310336113.8在审
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山口康介;白石纯;板仓郁夫;籾山大;西愿修一郎
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TOTO株式会社
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2019-02-28
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2023-06-23
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H01L21/683
- 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够确保对电弧放电的抗性及流动的气体流量，同时能够提高多孔质部的机械强度(刚性)。提供一种静电吸盘，其特征为，第1多孔质部具有：疏松部分，具有多个孔；及紧密部分，具有比疏松部分的密度更高的密度，多个疏松部分分别在从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向上延伸，紧密部分位于多个疏松部分的彼此之间，疏松部分具有设置在孔与孔之间的壁部，在与第1方向大致正交的第2方向上，壁部的尺寸的最小值比紧密部分的尺寸的最小值更小。
- 静电吸盘
- [发明专利]静电吸盘-CN202080036383.1在审
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佐藤真树;板仓郁夫;西愿修一郎;白石纯;籾山大;小林幸太
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TOTO株式会社
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2020-08-24
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2022-01-28
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H01L21/683
- 本发明提供一种静电吸盘，具备：导电性的基座板，具有第1部分和设置在所述第1部分的外周的第2部分，设置有导入冷却气体的气体导入路；第1静电吸盘部，设置在所述第1部分上，构成为可吸附晶片，具备具有连通于所述气体导入路的至少一个穿通孔的陶瓷电介体基板和内置于所述陶瓷电介体基板的第1吸附电极；及第2静电吸盘部，设置在所述第2部分上，构成为可吸附聚焦环，具备具有可导入冷却气体的至少一个穿通孔的陶瓷层，所述陶瓷层至少具有当所述聚焦环吸附于所述第2静电吸盘部时接触所述聚焦环的第1层，所述第1层的致密度构成为小于所述陶瓷电介体基板的致密度。由此，提供一种可提高设备的成品率的静电吸盘。
- 静电吸盘
- [发明专利]静电吸盘及处理装置-CN202010142829.0在审
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白石纯;西愿修一郎;森达哉;佐佐木雄基;渡边仁弘
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TOTO株式会社
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2020-03-04
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2020-09-15
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H01L21/683
- 本发明的静电吸盘具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面；基座板，具有气体导入路；及第1多孔质部，与所述气体导入路相对，所述第1多孔质部包含第1多孔区域、比所述第1多孔区域更致密的第1致密区域，所述第1多孔区域具有：多个第1疏松部分；及第1紧密部分，具有比所述第1疏松部分的密度更高的密度，所述多个第1疏松部分在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的方向上延伸，所述第1紧密部分位于所述多个第1疏松部分的彼此之间，所述第1疏松部分具有第1壁部，在与所述第1方向大致正交的第2方向上，所述第1壁部的尺寸的最小值小于所述第1紧密部分的尺寸的最小值，所述气体导入路的至少一部分由曲线形成。
- 静电吸盘处理装置
- [发明专利]静电吸盘及处理装置-CN202010143417.9在审
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白石纯;西愿修一郎;森达哉;渡边仁弘;佐佐木雄基
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TOTO株式会社
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2020-03-04
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2020-09-15
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H01L21/683
- 本发明的静电吸盘具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面；基座板，具有气体导入路；第1多孔质部，与所述气体导入路相对；及第2多孔质部，所述陶瓷电介体基板具有所述第1主面及第1孔部，所述第1多孔质部具有：第1多孔区域；及第1致密区域，所述第1多孔区域还具有第1致密部，所述第2多孔质部具有：第2多孔区域；及第2致密区域，所述第2多孔区域还具有第2致密部，当向垂直于从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向的平面进行投影时，构成为所述第1致密部与所述第1孔部发生重叠，所述第2致密部的一部分与所述第1致密部的一部分发生重叠，或者所述第2致密部的一部分与所述第1致密部的一部分接触。
- 静电吸盘处理装置
- [发明专利]静电吸盘及处理装置-CN202010143616.X在审
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白石纯;西愿修一郎;森达哉;渡边仁弘;佐佐木雄基
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TOTO株式会社
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2020-03-04
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2020-09-15
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H01L21/683
- 本发明的静电吸盘具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、向所述第1主面开口的槽；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板且具有气体导入路；及第1多孔质部，设置于所述气体导入路之间，所述陶瓷电介体基板具有多个孔，其连通所述槽与所述气体导入路，在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向上穿通所述陶瓷电介体基板，所述第1多孔质部具有：多孔区域，具有多个孔；及致密区域，比所述多孔区域更致密，所述多孔区域还具有致密部，当向垂直于所述第1方向的平面进行投影时，设置于所述陶瓷电介体基板的所述多个孔的至少1个构成为与所述致密部的至少1个发生重叠。
- 静电吸盘处理装置
- [发明专利]静电吸盘-CN201911324485.9在审
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池口雅文;糸山哲朗;西愿修一郎;白石纯
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TOTO株式会社
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2019-12-20
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2020-08-07
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H01L21/683
- 本发明提供一种静电吸盘，具备：基座板；及陶瓷电解质基板，具有第1主面，其特征在于，所述第1主面至少包含第1区域、第2区域，所述第1主面的所述第1区域设置有多个第1槽、至少1个第1气体导入孔，所述多个第1槽包含：第1边界槽，最靠近于所述第1区域和所述第2区域之间的第1边界而设置，且沿着所述第1边界延伸；及至少1个第1区域内槽，在所述第1主面的所述第2区域中，设置有多个第2槽、至少1个第2气体导入孔，所述多个第2槽包含沿着所述第1边界延伸的第2边界槽，所述第1边界槽和所述第2边界槽之间的槽端部间距离比所述第1边界槽和邻接于所述第1边界槽的所述第1区域内槽之间的槽端部间距离更小。
- 静电吸盘
- [发明专利]静电吸盘-CN201911345382.0在审
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池口雅文;糸山哲朗;西愿修一郎;白石纯
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TOTO株式会社
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2019-12-20
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2020-08-07
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H01L21/683
- 本发明提供一种静电吸盘，具体而言，具备：基座板；及陶瓷电解质基板，具有第1主面，其特征在于，所述第1主面至少包含第1区域、与所述第1区域邻接的第2区域，在所述第1区域中设置有多个第1槽、与所述多个第1槽的至少1个连接的至少1个第1气体导入孔、在与所述多个第1槽交叉的方向上延伸的至少1个第2槽，所述多个第1槽的各自的平面形状呈大致圆形，且被同心设置，所述第2槽与至少2个所述第1槽连接，在投影到垂直于从所述基座板朝向所述陶瓷电解质基板的第1方向的平面时，在连接所述第1槽和所述第2槽的部分上，所述第1气体导入孔的至少一部分与所述第1槽及所述第2槽的至少任一重叠。
- 静电吸盘
- [发明专利]静电吸盘-CN201910976863.5在审
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白石纯;西愿修一郎;森达哉;渡边仁弘
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TOTO株式会社
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2019-10-15
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2020-05-08
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H01L21/683
- 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够进一步抑制电弧放电的发生。具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面；基座板，具有气体导入路；及第1多孔质部，设置在与所述气体导入路相对的位置，其特征为，所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1主面与所述第1多孔质部之间的第1孔部，所述第1多孔质部具有：多孔部，具有多个孔；及第1致密部，比所述多孔部更致密，在向垂直于从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向的平面进行投影时，构成为所述第1致密部与所述第1孔部发生重叠，所述多孔部与第1孔部并不重叠。
- 静电吸盘
- [发明专利]静电吸盘-CN201910976997.7在审
-
白石纯;西愿修一郎;森达哉;渡边仁弘
-
TOTO株式会社
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2019-10-15
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2020-05-08
-
H01L21/683
- 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，在设置有多孔质部的静电吸盘中，能够进一步抑制电弧放电的发生。具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板且具有气体导入路；及第1多孔质部，设置在所述基座板与所述陶瓷电介体基板的所述第1主面之间且与所述气体导入路相对的位置，其特征为，所述第1多孔质部具有分别具有多个孔且相互离开设置的多个疏松部分，所述多个疏松部分分别在相对于从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向以规定角度倾斜的方向上延伸。
- 静电吸盘
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