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[发明专利]镀银材料及其制造方法-CN202180062721.3在审
发明人：平井悠太郎;荒井健太郎;佐藤阳介 -专利权人：同和金属技术有限公司
申请日： 2021-03-24 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C25D3/46 文献下载
摘要：本发明提供耐磨耗性比以往更优异的镀银材料及其制造方法。在通过在由包含氰化银钾或氰化银、和氰化钾或氰化钠、和苯并噻唑类或其衍生物的水溶液构成的镀银液中进行电镀而在原材料上形成由银构成的表层来制造镀银材料的方法中，当将镀银液中的游离氰的浓度记作A(g/L)、将镀银液中的苯并噻唑类或其衍生物的苯并噻唑部分的浓度记作B(g/L)、将镀银液的温度记作C(℃)、将电镀的电流密度记作D(A/dm2)时，以(BC/A)2/D达到10(℃2·dm2/A)以上的条件进行电镀。
镀银材料及其制造方法

[发明专利]镀Ag材、镀Ag材的制造方法、以及电子部件-CN202180085179.3在审
发明人：佐藤阳介;平井悠太郎;荒井健太郎 -专利权人：同和金属技术有限公司
申请日： 2021-07-14 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C25D5/16 文献下载
摘要：提供镀Ag材及其相关技术，所述镀Ag材为在由导电性金属构成的基材上形成有镀Ag层的镀Ag材，在基材上形成有从基材侧起依次具有多孔镀Ni层和镀Ag层的2层的镀覆结构、且镀Ag材具备多个该2层的镀覆结构。
ag 制造方法以及电子部件

[发明专利]覆Ag坯料、覆Ag坯料的制造方法及端子部件-CN202180082261.0在审
发明人：佐藤阳介;平井悠太郎;荒井健太郎 -专利权人：同和金属技术有限公司
申请日： 2021-07-14 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C25D3/46 文献下载
摘要：提供覆Ag坯料及其相关技术，所述覆Ag坯料的特征在于，其具有坯料和形成在该坯料上的Ag覆膜，Ag覆膜具有将平均晶粒直径相差3倍以上的Ag层交替层叠至少3层而得到的Ag层。
ag 坯料制造方法端子部件

[发明专利]镀银材料及其制造方法-CN202180016144.4在审
发明人：平井悠太郎;荒井健太郎;佐藤阳介 -专利权人：同和金属技术有限公司
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： C25D3/64 文献下载
摘要：本发明提供硬度高于以往且耐磨耗性优异的镀银材料及其制造方法。在由包含氰化银钾或氰化银、和氰化钾或氰化钠、和(2‑巯基苯并咪唑或2‑巯基苯并咪唑磺酸钠2水合物等)苯并咪唑类的水溶液形成的镀银液中进行电镀而在原材料上形成由银构成的表层来制造镀银材料的方法中，将镀银液中的氰化银钾或氰化银、氰化钾或氰化钠、苯并咪唑类的各自的浓度相对于镀银时的电流密度的比值(或者镀银液中的氰化银钾或氰化银、苯并咪唑类的各自的浓度相对于镀银时的电流密度的比值、及氰化钾或氰化钠的浓度)设定在规定的范围内。
镀银材料及其制造方法

[发明专利]镀银材料及其制造方法-CN202180019093.0在审
发明人：平井悠太郎;荒井健太郎;佐藤阳介 -专利权人：同和金属技术有限公司
申请日： 2021-01-21 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： C25D5/10 文献下载
摘要：本发明提供微滑动磨耗特性优于以往的镀银材料及其制造方法。在由铜或铜合金形成的基材(10)上通过电镀依次形成由镍或镍合金构成的基底镀覆层(12)、由银构成的第1银镀层(下侧银镀层)(14)、作为中间镀覆层的由锌构成的锌镀层(16)、作为表层的由银构成的第2银镀层(上侧银镀层)(18)，藉此制造镀银材料。
镀银材料及其制造方法

[发明专利]镀敷材料及其制造方法-CN202080025302.8在审
发明人：平井悠太郎;荒井健太郎;足达俊祐 -专利权人：同和金属技术有限公司
申请日： 2020-01-22 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： C25D5/12 文献下载
摘要：本发明提供价廉的镀敷材料及其制造方法，该镀敷材料的表面的一部分上形成银镀膜并且在其他一部分上形成有锡镀膜，能够防止在对镀敷材料进行回流处理后银镀膜的接触电阻升高及表面变色。通过在由铜或铜合金构成的基材(10)的表面上形成镍镀膜(12)，在该镍镀膜(12)的表面的一部分上形成银镀膜(16)并且在镍镀膜(12)的表面的其他部分的一部分上形成锡镀膜(20)，以制作在基材(10)上的镍镀膜(12)的表面上形成有银镀膜(16)和锡镀膜(20)的镀敷材料后，通过对该镀敷材料的表面照射红外线进行加热，以对锡镀膜(20)进行回流处理，将锡镀膜(20)制成回流锡镀层(22)。
材料及其制造方法

[发明专利]局部镀敷装置及局部镀敷方法-CN201280051340.6有效
发明人： 荒井健太郎;宫泽宽 -专利权人：同和金属技术有限公司
申请日： 2012-10-18 - 公布日： 2016-10-19 - 主分类号： C25D5/02 文献下载
摘要：本发明提供局部镀敷装置，该局部镀敷装置利用鼓夹具连续进给纵长的金属构件，进行点镀敷，其中存在如下问题：由金属构件的引导孔的间距和鼓夹具的定位销的间距之差导致金属构件和鼓夹具的密合性劣化，镀敷膜厚分布产生偏差。该局部镀敷装置包括：鼓夹具（1），其在外周部配置有多个定位销（6），金属构件（11）卡合于定位销（6）而沿着外周部被输送；旋转轴（2），其将鼓夹具（1）支承成能够旋转；喷流部（8），其用于向金属构件（11）供给镀敷液；以及制动单元（15），其安装在旋转轴（2）上，用于使鼓夹具（1）的圆周速度减速。此外，本发明提供镀敷装置、局部镀敷方法，其中，在鼓夹具（1）的搬入侧的第1区域中不对金属构件（11）进行镀敷处理，在搬出侧的第2区域中对金属构件（11）实施镀敷处理。
局部装置方法