“田银秀”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果15个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]掩膜干燥装置-CN202211423545.4在审
发明人：刘大日;韩奎龙;朴商弼;田银秀;金明珍 -专利权人：系统科枝公司
申请日： 2022-11-15 - 公布日： 2023-05-19 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开一种掩膜干燥装置。根据本发明一实施例的掩膜干燥装置用于干燥掩膜组装体，该掩膜组装体包括形成开口的掩膜框架、以及向第一方向施加张力且两端的裙部焊接结合在所述掩膜框架上的棒状掩膜，所述掩膜干燥装置可包括：IR灯，能够照射红外线；以及一对第一托架，其与所述裙部并排地相互隔开，具有与所述棒状掩膜的一表面形成预定角度的支撑表面，且能够将所述IR灯支撑在所述支撑表面上。
干燥装置

[发明专利]真空吸附垫组装体、显示器层压装置及显示器层压方法-CN202011057382.3有效
发明人：刘大日;韩㙓龙;田银秀;金宰焕 -专利权人：系统科枝公司
申请日： 2020-09-30 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： B32B37/00 文献下载
摘要：本发明公开一种真空吸附垫组装体、包括其的显示器层压装置及显示器层压方法。本发明的一实施例的真空吸附垫组装体包括：第一垫，具有刚性；第二垫，以包围上述第一垫的一部分的方式形成有内部空间部，以能够与上述第一垫结合，上述第二垫具有柔韧弹性；及真空吸附单元，具有多个抽吸通道和空气路径，上述多个抽吸通道形成在上述第一垫和上述第二垫的一个区域，上述空气路径连接到上述抽吸通道的端部以提供真空压力。
真空吸附组装显示器层压装置方法

[发明专利]粘接层形成装置及包括其的显示装置制造系统-CN202210618111.3在审
发明人：刘大日;田银秀;朴商弼;韩奎龙 -专利权人：系统科枝公司
申请日： 2022-06-01 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： B32B37/12 文献下载
摘要：本发明公开一种粘接层形成装置及包括其的显示装置制造系统。根据本发明的一实施例的粘接层形成装置可以包括：第一支撑卡盘，在沿第一方向的面板移动路径上能够使第一面板进行位移；第二支撑卡盘，沿与上述第一方向正交的第二方向与上述第一支撑卡盘并列设置，在面板移动路径上能够使第二面板进行位移；及第一门架，在上述第一支撑卡盘和上述第二支撑卡盘上沿上述第二方向面对上述第一支撑卡盘和上述第二支撑卡盘，沿上述第二方向能够使第一头进行位移，上述第一头用于在上述第一面板或上述第二面板中的一种上喷射形成粘接层。
粘接层形成装置包括显示装置制造系统

[发明专利]对准装置和包括此的喷墨印刷系统、利用此的对准方法-CN202010701790.1有效
发明人： 田银秀;刘大日;韩㙓龙;金宰焕 -专利权人：系统科枝公司
申请日： 2020-07-20 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： B41J3/44 文献下载
摘要：本发明公开了对准装置和包括此的喷墨印刷系统、利用此的对准方法。本发明的一实施例的对准装置包括：第一摄像头模块，支撑基板，并且搭载于平台单元可拍摄上方，其中所述平台单元能够以第一方向运送所述基板；第二摄像头模块，搭载于头部单元，以与所述平台单元相互面对可向下方拍摄，其中所述头部单元具有形成有喷嘴的头部，所述头部被头桥支撑，能够以与所述第一方向直交的第二方向移动，所述喷嘴将墨水喷射于所述基板上；其中，所述第一摄像头模块与所述第二摄像头模块同轴化可提供一对对准标记。
对准装置包括喷墨印刷系统利用方法

[发明专利]层压系统-CN202210211727.9在审
发明人： 田银秀;韩奎龙;朴商弼;金宰焕 -专利权人：系统科枝公司
申请日： 2022-03-04 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： B32B37/10 文献下载
摘要：本发明公开层压系统。本发明一实施例的层压系统可将面板与待粘合面板粘合成面板组装体，该层压系统可包括：传送器，可沿着传送器移载部移动，可支撑上述面板、上述待粘合面板及上述面板组装体中的一个；粘合腔室，与上述传送器移载部并排设置，可粘合上述面板与上述待粘合面板；以及第一机器人，可在上述传送器与上述粘合腔室之间移送上述面板、上述待粘合面板及上述面板组装体中的一个。
层压系统

[发明专利]多重基板处理装置及利用此的OCR喷墨系统-CN202010699388.4在审
发明人： 田银秀;刘大日;韩㙓龙;金宰焕 -专利权人：系统科枝公司
申请日： 2020-07-20 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： B41J3/407 文献下载
摘要：本发明公开了多重基板处理装置。本发明的一实施例的多重基板处理装置可包括：驱动轴，相互面对地并排配置，并且以着第一方向提供移动路线；至少一个平台单元，支撑基板，并且可沿着所述驱动轴移动；其中，所述平台单元包括：平台，可贴装所述基板；及转向部，以与所述第一方向直交的第二方向转换所述平台的方向。另外，公开了利用所述多重基板处理装置的OCR喷墨系统。
多重处理装置利用 ocr 喷墨系统

[发明专利]不良发光二极管去除装置-CN202010084926.9有效
发明人：韩奎龙;刘大日;田银秀;金宰焕 -专利权人：系统科技公司
申请日： 2020-02-10 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： H05K13/04 文献下载
摘要：本发明涉及不良发光二极管去除装置，上述不良发光二极管去除装置用于在配置于发光二极管基板的多个发光二极管中去除不良发光二极管，上述不良发光二极管去除装置包括：主载物台，用于设置上述发光二极管基板；激光照射部，用于向存在于上述发光二极管基板的不良发光二极管照射激光；发光二极管去除部，位于上述发光二极管基板与上述激光照射部之间，用于吸附去除通过上述激光加热的不良发光二极管；以及连接管，连接在上述激光照射部与上述发光二极管去除部之间，用于密封上述激光照射部与上述发光二极管去除部之间的空间，具有柔韧性。
不良发光二极管去除装置

[发明专利]层压系统-CN202011224067.5在审
发明人：刘大日;韩奎龙;田银秀;金宰焕 -专利权人：系统科技公司
申请日： 2020-11-05 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明公开了一种层压系统，该层压系统包括：施加装置，其被构造为在第一目标上形成粘合剂层；供应装置，其被构造为提供第二目标；以及粘合装置，其被构造为将第一目标粘合到第二目标，其中施加装置包括：注射单元，其包括被构造为在第一目标上注射粘合剂液滴以形成粘合剂层的多个喷墨头；固化单元，其被构造为在粘合剂层上执行第一次临时固化；以及第一控制器，其被构造为控制注射单元和固化单元。
层压系统

[发明专利]显示器层压装置及利用此的支撑卡盘平衡方法-CN202010716392.7在审
发明人： 田银秀;刘大日;韩*龙;金宰焕 -专利权人：系统科枝公司
申请日： 2020-07-23 - 公布日： 2021-04-23 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明公开了显示器层压装置及利用此的支撑卡盘平衡方法。本发明的一实施例的显示器层压装置可包括：底板；支撑卡盘，配置在所述底板的一侧，并且可安装第一面板；平台，具有可安装第二面板的支撑卡盘，所述第二面板与所述第一面板相互面对配置；驱动部，升降驱动所述平台，以使所述第二面板被加压粘合于所述第一面板；及负荷传感器，介入于所述底板和所述支撑卡盘之间，以测量施加于所述支撑卡盘的负荷。
显示器层压装置利用支撑卡盘平衡方法

[发明专利]窗固定模块及包括其的层压装置-CN202010734585.5在审
发明人：刘大日;韩奎龙;田银秀;金宰焕 -专利权人：系统科技公司
申请日： 2020-07-27 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： H04M1/02 文献下载
摘要：本发明提供一种窗固定模块及包括其的层压装置，其中，所述窗固定模块包括：固定块，其包括用于固定窗的固定面；电路板，其设置有向上述固定面照射紫外线光的多个发光元件；以及吸入装置，其将上述窗固定于上述固定面。
固定模块包括层压装置

[发明专利]热处理装置及热处理方法-CN201610329548.X有效
发明人：安贤焕;田银秀;柳守烈 -专利权人：系统科技公司
申请日： 2016-05-18 - 公布日： 2019-04-19 - 主分类号： H01L21/324 文献下载
摘要：本发明涉及一种热处理装置及热处理方法，尤其涉及一种旨在实现热处理对象基板的热变形最小化、与此同时可在同一腔室内迅速执行基板的加热处理和冷却处理的热处理装置及热处理方法。为此，本发明的热处理装置包括：腔室，内部形成有基板的热处理空间；加热部，配备于所述腔室的上部而用于加热基板；基板支撑部，可升降地配备于所述腔室的内部，用于安置固定所述基板；冷却部，配备于所述腔室的下部，用于冷却借助于所述加热部而得到热处理的基板和基板支撑部；升降驱动部，用于使所述基板和基板支撑部在加热位置与冷却位置之间升降，所述加热位置靠近所述加热部，所述冷却位置靠近所述冷却部或者接触于所述冷却部。
热处理装置方法

[发明专利]基板的连续处理装置以及方法-CN201710516268.4在审
发明人：朴永秀;田银秀;柳守烈;崔宇镇;孙侐主;许成壹 -专利权人：系统科技公司
申请日： 2017-06-29 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种如下的基板的连续处理装置以及方法，其利用等离子去除存在于基板的氧化膜，因此无需使用甲酸。为了实现上述目的，本发明的基板的连续处理装置包括：等离子腔室(200)，用于利用等离子去除存在于基板的氧化膜；加热腔室(400、500)，以预设的温度对在所述等离子腔室(200)经等离子处理的基板进行加热；冷却腔室(600)，对从所述加热腔室(400、500)移送的基板进行冷却，使所述冷却的基板被移送到装载及卸载腔室(100)；移送部(800)，使所述基板在所述腔室之间被移送。
基板连续处理装置等离子腔室加热腔室等离子氧化膜去除冷却等离子处理冷却腔室卸载腔室甲酸腔室预设加热装载

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201610618085.9在审
发明人： 田银秀;金学杜;高东辰 -专利权人：系统科技公司
申请日： 2016-07-29 - 公布日： 2017-11-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开一种基板处理装置及基板处理方法，其可以通过相同工序对2个基板同时进行处理，从而最简化热处理步骤并提高生产性。为此，本发明的基板处理装置包括多个腔室(100、200、300、400、500、600)，在内部分别隔离基板而进行工艺处理；控制部，以如下方式执行控制使所述多个腔室(100、200、300、400、500、600)中的2个腔室(100、200；300、400；500、600)分别配对而进行相同的工艺处理。
处理装置方法

[发明专利]具有防涡流腔室的基板处理装置及基板处理方法-CN201510817724.X在审
发明人：安贤焕;田银秀;金德勋 -专利权人：系统科技公司
申请日： 2015-11-23 - 公布日： 2016-06-01 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种具有防涡流腔室的基板处理装置及基板处理方法，其中使覆盖腔室主体的上部的盖体升降，从而通过腔室主体的上部而实现基板的投入和搬出，据此可以防止腔室主体的内侧产生工艺气体的涡流。为此，本发明的基板处理装置包括：腔室主体(100)，内部具有用于安置基板(W)的载放座(400)，且上部开放；盖体(200)，用于开闭所述腔室主体(100)的开放的上部；盖体开闭驱动部(300)，提供驱动力，该驱动力使所述盖体(200)沿上下方向移动以开闭所述腔室主体(100)的上部。
具有涡流处理装置方法

[发明专利]用于玻璃蚀刻装置的气泡生成器-CN201210280958.1有效
发明人：韩奎龙;刘大日;姜奉锡;田银秀;林炳锡;崔镇圭;金度亨;韩相雨 -专利权人： STI有限公司
申请日： 2012-06-28 - 公布日： 2014-01-15 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：用于玻璃蚀刻装置的气泡生成器。提供一种用于玻璃蚀刻装置的气泡生成器以生成蚀刻玻璃的微气泡。该气泡生成器包括：进气管，安装在蚀刻槽的下部上并且在其外表面上具有用于排放馈送到该进气管中的气体的多个孔；孔插座，固定插入进气管的孔并且孔插座中具有多个细微孔，所述细微孔与各个孔连通；以及气泡生成过滤器，联接至各个孔插座的上表面并且生成用于在所述蚀刻槽中进行玻璃蚀刻的气泡。气泡生成器使用气泡生成过滤器在蚀刻槽中均匀地生成具有以微米为单位的尺寸的微气泡。因此，可预先防止现有技术的问题，即，由于气泡结合从而尺寸增大而在蚀刻槽中出现漩涡以及由漩涡造成的玻璃弯曲。此外，通过微气泡使得能够对玻璃进行稳定均匀蚀刻。
用于玻璃蚀刻装置气泡生成器

1
共 15 条