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[实用新型]一种新型的集中供液装置-CN202320207150.4有效
发明人：尹文宝;王维师;王锴;菅明辉;曹锦伟;李世权;孙晨光;王彦君 -专利权人：中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2023-02-14 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型的集中供液装置，包括底座，所述底座的顶部一侧设置有加热管，所述加热管的顶部设置有主抛光液箱，所述主抛光液箱的顶部设置有冷却水盘管，所述主抛光液箱的一侧设置有框架，所述框架的顶部分别设置有原液箱和氢氧化钾溶液箱，所述氢氧化钾溶液箱的一侧表面设置有氢氧化钾液位系统，所述原液箱和氢氧化钾溶液箱的一侧分别设置有原液供液泵和计量泵，所述框架的底部设置有三路供液系统。该一种新型的集中供液装置，在进行日常使用的过程中，可实现由原来的7小时换液延长至168小时换液，减少产品因换液带来的质量波动，进而有效的实现抛光液集中供应，减少抛光液的更换周期，提高产品的整体质量。
一种新型集中装置

[实用新型]一种新型的不停机换液装置-CN202320164865.6有效
发明人：尹文宝;黄盛军;王维师;白苏宁;王锴;菅明辉;曹锦伟;李仕权;王彦君 -专利权人：中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2023-02-09 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型的不停机换液装置，包括底座，所述底座的顶部一侧设置有冷水管，所述冷水管的顶部一侧设置有抛光液回收箱，所述抛光液回收箱的一侧设置有温度传感器，所述冷水管的一侧表面设置有液位传感器，所述冷水管一侧的底座顶部设置有供液泵，所述冷水管靠近底部的一侧设置有抛光液出口，所述抛光液出口与供液泵之间通过管道贯通连接。该一种新型的不停机换液装置，采用抛光机同时连接一主、一副两组供液系统实现不停机换液，减少传统的停机换液造成的工时浪费，减少停机造成大盘温度变化对产品几何参数造成的影响，有效的实现抛光机的抛光液寿命到期后，直接切换加入新抛光液的副TANK系统供液，达到不停机换液的目的。
一种新型停机装置

[发明专利]一种硅片包装片盒的清洗及干燥工艺-CN202310647414.2在审
发明人：由佰玲;王维师;周迎朝;邓春星;谭永麟;孙晨光;王彦君 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2023-06-02 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： B08B9/22 文献下载
摘要：本发明提供一种硅片包装片盒的清洗及干燥工艺，包括：将包装片盒上载并置入纯水槽中浸泡，传递至预清洗槽中进行预清洗，进入清洗槽进行清洗；清洗后的所述包装片盒移动至第一处理处进行干燥处理；干燥后的所述包装片盒转移至第二处理处进行一次静置储存，随后再置入恒温氮气柜中进行二次静置处理，将其取出后在第二处理处进行三次静置，处理完成。本发明的有益效果是采用的包装片盒的干燥静置包含三个部分，一是热空气干燥和散热导流，二是一级环境静置和降温，三是N2柜干燥，通过这种方式清洗的包装片盒但保证了表面的及其微小的液滴的充分干燥。
一种硅片包装清洗干燥工艺

[发明专利]一种新型的抛光液PH值自动调节装置-CN202310104562.X在审
发明人：尹文宝;王锴;王维师;菅明辉;曹锦伟;李仕权;王彦君;孙晨光 -专利权人：中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2023-02-13 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G05D21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种新型的抛光液PH值自动调节装置，包括抛光液储存箱，所述抛光液储存箱的顶部一侧设置有PH值检测装置，所述抛光液储存箱的一侧设置有PLC控制柜，所述PLC控制柜的内部设置有PLC控制器，所述PLC控制柜的一侧表面设置有PH调节液计量泵，所述PH调节液计量泵的下方设置有PH调节液储存桶，且PH调节液计量泵的进液端和出液端分别通过管道与PH调节液储存桶和抛光液储存箱贯通连接。该一种新型的抛光液PH值自动调节装置，通过采用PLC自动控制调节PH值，不增加操作员的工作量，通过使用高精度计量泵，通过差值进行实时控制，有效的保证了调节精度，实现抛光液PH值精确控制，大大降低了由于抛光液PH值不稳定导致的产品不良率。
一种新型抛光 ph 自动调节装置

[发明专利]一种新型的集中供液装置-CN202310110474.0在审
发明人：尹文宝;王维师;王锴;菅明辉;曹锦伟;李世权;孙晨光;王彦君 -专利权人：中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2023-02-14 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种新型的集中供液装置，包括底座，所述底座的顶部一侧设置有加热管，所述加热管的顶部设置有主抛光液箱，所述主抛光液箱的顶部设置有冷却水盘管，所述主抛光液箱的一侧设置有框架，所述框架的顶部分别设置有原液箱和氢氧化钾溶液箱，所述氢氧化钾溶液箱的一侧表面设置有氢氧化钾液位系统，所述原液箱和氢氧化钾溶液箱的一侧分别设置有原液供液泵和计量泵，所述框架的底部设置有三路供液系统。该一种新型的集中供液装置，在进行日常使用的过程中，可实现由原来的7小时换液延长至168小时换液，减少产品因换液带来的质量波动，进而有效的实现抛光液集中供应，减少抛光液的更换周期，提高产品的整体质量。
一种新型集中装置

[发明专利]一种新型的防止硅片烧结的喷淋装置-CN202310095440.9在审
发明人：尹文宝;王维师;王锴;菅明辉;曹锦伟;李仕权;孙晨光;王彦君 -专利权人：中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2023-02-10 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种新型的防止硅片烧结的喷淋装置，包括立柱，所述立柱的顶部设置有第一支撑件，所述第一支撑件的顶部一侧设置有第二支撑件，所述第二支撑件的底部一侧设置有喷头，所述喷头的下方设置有升降台，所述升降台的表面开设有检测槽，所述检测槽的内侧设置有红外传感器，所述升降台的底部设置有电动升降柱，所述电动升降柱和立柱的底部皆设置有定位座。该一种新型的防止硅片烧结的喷淋装置，在进行日常使用的过程中，采用硅片在运转的过程中持续的冲洗的方式，减少传统的硅片直接转导致抛光液对硅片烧结的影响，使用实心锥形喷头，保证纯水覆盖硅片全部表面，实现硅片在运转的过程中对硅片持续冲洗，有效的提高了硅片生产的整体质量。
一种新型防止硅片烧结喷淋装置

[发明专利]一种新型的不停机换液装置-CN202310087896.0在审
发明人：尹文宝;黄盛军;王维师;白苏宁;王锴;菅明辉;曹锦伟;李仕权;王彦君 -专利权人：中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2023-02-09 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种新型的不停机换液装置，包括底座，所述底座的顶部一侧设置有冷水管，所述冷水管的顶部一侧设置有抛光液回收箱，所述抛光液回收箱的一侧设置有温度传感器，所述冷水管的一侧表面设置有液位传感器，所述冷水管一侧的底座顶部设置有供液泵，所述冷水管靠近底部的一侧设置有抛光液出口，所述抛光液出口与供液泵之间通过管道贯通连接。该一种新型的不停机换液装置，采用抛光机同时连接一主、一副两组供液系统实现不停机换液，减少传统的停机换液造成的工时浪费，减少停机造成大盘温度变化对产品几何参数造成的影响，有效的实现抛光机的抛光液寿命到期后，直接切换加入新抛光液的副TANK系统供液，达到不停机换液的目的。
一种新型停机装置

[实用新型]自适应平参参考面的抛光吸盘-CN202122764389.5有效
发明人：陈良臻;沈俊熙;王维师;孙晨光;王彦君;曹锦伟 -专利权人：中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2021-11-12 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型自适应平参参考面的抛光吸盘，包括装载块，装载块的中部设置有装载槽，装载槽内设置有吸盘设置块，吸盘设置块包括设置于装载槽内的设置块主体，设置块主体上端设置有吸盘承接块，吸盘承接块上设置有吸盘；装载块上对应吸盘承接块设置有调节环台，吸盘承接块对应调节环台设置有调节槽，吸盘推进至抛光垫位进行抛光垫承接，后加压，吸盘承接块以调节环台为基点自适应的进行对应抛光垫调节，使抛光垫表面均匀贴合于用作平参参考面的吸盘表面，形成自适应式高质量硅片抛光加工结构。
自适应参考抛光吸盘

[实用新型]降低边抛液灼伤硅片的下载篮-CN202122716740.3有效
发明人：陈良臻;沈俊熙;王维师;王彦君;孙晨光;曹锦伟 -专利权人：中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2021-11-08 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本实用新型降低边抛液灼伤硅片的下载篮，包括设置于下载位的下载槽内的下载篮主体，下载篮主体包括篮体，对应篮体的下端设置有鼓泡组件，硅片边抛后置入下载篮主体，鼓泡组件进行鼓泡，带动下载槽的纯水进行翻滚和溢流，带走硅片表面残留抛光液，形成避免抛光液在清洗前长时间滞留硅片表面灼伤硅片的防硅片表面灼伤加工结构。
降低边抛液灼伤硅片下载

[实用新型]一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和PH自动调整系统-CN202023097065.2有效
发明人：黄盛军;菅明辉;高晟淇;王维师;孙晨光;王彦君 -专利权人：中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2020-12-21 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： B24B9/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和PH自动调整系统，包括PLC控制器、计量泵和PH计，所述于PLC控制器电性连通供液阀，所述供液阀插入边抛液储存箱内部，所述边抛液储存箱内接入PH计，所述PH计受控于PLC控制器，所述PLC控制器电性连接计量泵，所述计量泵一端连通调节液储存箱，另一端连通边抛液储存箱，通过一体化控制，协调作业，可实现边抛液少液后自动补液，边抛液PH值低于设定值后自动调整PH值至允许范围，全程系统自动控制，无需人员干预，降低人员工作强度，减少人员误操作频率，增加PH值的稳定性，提供产品一致性。
一种晶片边缘抛光机边抛液自动 ph 调整系统

[发明专利]一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和PH自动调整系统-CN202011521944.5在审
发明人：黄盛军;菅明辉;高晟淇;王维师;孙晨光;王彦君 -专利权人：中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2020-12-21 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： B24B9/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和PH自动调整系统，包括PLC控制器、计量泵和PH计，所述于PLC控制器电学连通供液阀，所述供液阀插入边抛液储存箱内部，所述边抛液储存箱内接入PH计，所述PH计受控于PLC控制器，所述PLC控制器电学连接计量泵，所述计量泵一端连通调节液储存箱，另一端连通边抛液储存箱，通过一体化控制，协调作业，可实现边抛液少液后自动补液，边抛液PH值低于设定值后自动调整PH值至允许范围，全程系统自动控制，无需人员干预，降低人员工作强度，减少人员误操作频率，增加PH值的稳定性，提供产品一致性。
一种晶片边缘抛光机边抛液自动 ph 调整系统

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