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[发明专利]盖装卸装置及预处理装置-CN202310099101.8在审
发明人： 沼田幸治;芝吹直伸 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2023-02-08 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： B67B3/20 文献下载
摘要：本发明提供一种盖装卸装置及预处理装置。盖装卸装置包括操作部，所述操作部沿上下方向移动，并且以相对于容器对盖进行装卸的方式握持盖并旋转。操作部包括第一握持爪、第二握持爪及按压构件。第一握持爪与第二握持爪以相互相向的方式设置，且构成为能够对盖的侧面上部从外侧向内侧施加斜向上的力。按压构件构成为能够与盖的上表面接触。
装卸装置预处理

[发明专利]管柱烘箱及色谱仪-CN201911067133.X在审
发明人： 沼田幸治;细尾幸平 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2019-11-04 - 公布日： 2020-09-22 - 主分类号： G01N30/54 文献下载
摘要：本发明提供一种可将保持分析管柱的保持构件制成简单的构成，从而可实现成本降低的管柱烘箱及色谱仪。管柱烘箱(6)包括移动相能够流通的分析管柱(121)、保持分析管柱(121)的保持构件(2)及对保持于保持构件(2)的分析管柱(121)进行加热的加热部，保持构件(2)包括：基部(21)；以及第一夹持部(22A)及第二夹持部(22B)，设于基部(21)，相互夹持分析管柱(121)的中间部(125)，具有在所述夹持状态下相对于分析管柱(121)向基部(21)的相反侧突出的突出部(221)，基部(21)、第一夹持部(22A)及第二夹持部(22B)形成为一体。
管柱烘箱色谱仪

[发明专利]管柱烘箱及色谱仪-CN201911067194.6在审
发明人： 沼田幸治 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2019-11-04 - 公布日： 2020-09-22 - 主分类号： G01N30/54 文献下载
摘要：本发明提供一种可将分析管柱均匀地加热的管柱烘箱及色谱仪。管柱烘箱(6)包括：中空的框体(61)；分析管柱(121)，移动相能够流通，配置在框体(61)内；加热部，对空气进行加热；回旋流生成部(62)，将由加热部加热的空气制成回旋流，并朝框体(61)内排出；以及节流部(9)，在将回旋流排出至框体(61)内时，对回旋流进行节流，节流部(9)沿着排出回旋流的方向贯通而形成，具有从回旋流的排出侧观察时呈蜂窝状配置的多个贯通孔(91)。
管柱烘箱色谱仪

[发明专利]飞行时间质谱仪-CN201110178847.5有效
发明人： 沼田幸治 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2011-06-29 - 公布日： 2012-04-04 - 主分类号： H01J49/40 文献下载
摘要：本发明提供了一种飞行时间质谱仪，其构造简单、成本低并防止了温度漂移，并且提供稳定的质谱而无需将昂贵的因瓦合金材料用于飞行管，该飞行管不易受外界振动影响，当作为悬臂被保持时在自身重量下不发生弯曲。该飞行管由CFRP管(17a)制成，其内表面和外表面具有经导电处理的无电镀镍层(17b)。使用导电粘结剂(21)来接合至飞行管保持部件(18)。与先前的金属制成的飞行管不同，即使没有温度调节和控制系统，由CFRP管(17a)制成的飞行管也不会变形。此外，由于CFRP的比重为不锈钢的约五分之一，因此即使飞行管作为悬臂被保持，飞行管也不容易弯曲。而且，由于CFRP具有良好的减振特性，因此不容易受到振动影响。
飞行时间质谱仪

[发明专利]等离子体处理装置-CN200810005545.6有效
发明人：兴石公;广濑润;小笠原正宏;平野太一;佐佐木宽充;吉田哲雄;斋藤道茂;石原博之;大薮淳;沼田幸治 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2003-11-25 - 公布日： 2008-07-30 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置，其具有：可以设置成有真空气氛的处理容器；与在所述处理容器内配置在规定位置的被处理基板相对向而环状地配置的第一上部电极；在所述第一上部电极的半径方向内侧以与其电绝缘状态配置的第二上部电极；向所述处理容器内提供处理气体的处理气体供给部；输出第一高频的第一高频电源；把来自所述第一高频电源的所述第一高频以第一功率值提供给所述第一上部电极的第一供电部；把来自所述第一高频电源的所述第一高频，从所述第一供电部分出，以比所述第一功率值小的第二功率值提供给所述第二上部电极的第二供电部，所述第一上部电极具有与所述第二上部电极的下面相比还向下方突出的突出部分。
等离子体处理装置

[发明专利]等离子体处理装置和方法-CN200380104292.3有效
发明人：兴石公;广瀬润;小笠原正宏;平野太一;佐佐木宽充;吉田哲雄;斋藤道茂;石原博之;大薮淳;沼田幸治 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2003-11-25 - 公布日： 2006-01-04 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置，包含可设定成具有真空气氛的处理容器(10)。与在处理容器(10)内配置的被处理基板(W)相对面地配置上部电极(36、38)。具有与上部电极(36)在周围方向上实质上连续连接的第一筒形导电部件(50)的供电部，将来自第一高频电源(52)的第一高频供给上部电极(36)。
等离子体处理装置方法

[发明专利]等离子体处理方法和装置-CN200380104294.2有效
发明人：兴石公;广瀬润;小笠原正宏;平野太一;佐佐木宽充;吉田哲雄;斋藤道茂;石原博之;大薮淳;沼田幸治 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2003-11-25 - 公布日： 2006-01-04 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：一种等离子体处理方法，向配置有被处理基板(W)的等离子体生成空间(10)内供给规定的处理气体、使所述处理气体等离子体化。而且，由等离子体对基板(W)实施规定的等离子体处理。这里，由与基板(W)相对向的对向部(34)，对基板(W)分别独立地控制等离子体的密度空间分布与等离子体中的自由基的密度空间分布，在基板(W)的整个被处理面上得到规定的处理状态。
等离子体处理方法装置

[发明专利]等离子体处理装置和方法以及等离子体处理装置的电极板-CN200380104293.8有效
发明人：兴石公;广瀬润;小笠原正宏;平野太一;佐佐木宽充;吉田哲雄;斋藤道茂;石原博之;大薮淳;沼田幸治 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2003-11-25 - 公布日： 2006-01-04 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明的等离子体处理装置包括可以设置成有真空气氛的处理容器(10)。第一上部电极(36)被配置成与配置在处理容器(10)内的被处理基板(W)相面对并成环状。在第一上部电极(36)的半径方向内侧以与其电绝缘状态配置第二上部电极(38)。第一供电部(50)把来自第一高频电源(52)的第一高频以第一功率值提供给第一上部电极(36)。从第一供电部(50)分出的第二供电部(76)把来自第一高频电源的所述第一高频，以比第一功率值小的第二功率值提供给所述第二上部电极(38)。
等离子体处理装置方法以及极板