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[发明专利]研磨用组合物-CN202080044527.8在审
发明人：伊藤康昭;高见信一郎;森嘉男 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2020-06-15 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：提供可在维持良好的研磨速度的同时降低对研磨对象物的摩擦力的研磨用组合物。通过本发明提供的研磨用组合物包含水、磨粒及作为氧化剂的复合金属氧化物。上述研磨用组合物还包含阴离子性聚合物。一些优选方式中，上述研磨用组合物包含高锰酸盐作为前述复合金属氧化物。上述研磨用组合物适合用于对维氏硬度1500Hv以上的材料进行研磨的用途。
研磨组合

[发明专利]研磨用组合物、其制造方法和使用研磨用组合物的研磨方法-CN201880011959.1有效
发明人： 森嘉男;谷口惠;向井贵俊;土屋公亮 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2018-01-29 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：[课题]提供消除激光硬标记周缘的隆起的性能优异的研磨用组合物。[解决方案]一种研磨用组合物，其包含磨粒、水溶性高分子、碱性化合物和水，前述水溶性高分子为包含源自苯乙烯或其衍生物的结构单元、和源自除此之外的单体的结构单元的共聚物。
研磨组合制造方法使用

[发明专利]研磨用组合物-CN201680026870.3有效
发明人：织田博之;高桥修平;森嘉男;高见信一郎;田畑诚 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2016-05-02 - 公布日： 2021-02-23 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明涉及可以优选用于主要是硅晶圆等半导体基板以及其它研磨对象物的研磨的研磨用组合物，提供获得良好的整体形状的研磨用组合物。将研磨用组合物的相对于研磨垫的适应性设为Wp、相对于研磨对象物的适应性设为Ww、相对于研磨对象物保持工具的适应性设为Wc时，满足Wp≥Wc或Ww≥Wc≥Wp。
研磨组合

[发明专利]硅晶圆研磨用组合物-CN201911251975.0在审
发明人：土屋公亮;丹所久典;森嘉男 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2015-04-07 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明提供一种硅晶圆研磨用组合物，其降低硅晶圆表面的雾度的效果优异。此处所提供的硅晶圆研磨用组合物含有磨粒、硅晶圆研磨促进剂、含酰胺基聚合物及水。含酰胺基聚合物在主链中具有源自下述通式(1)所示的单体的结构单元A。另外，磨粒的平均二次粒径为10nm以上且60nm以下。
硅晶圆研磨组合

[发明专利]硅晶圆研磨用组合物-CN201580020029.9有效
发明人：土屋公亮;丹所久典;森嘉男 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2015-04-07 - 公布日： 2018-12-25 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种降低硅晶圆表面的雾度的效果及过滤性优异的硅晶圆研磨用组合物。此处所提供的硅晶圆研磨用组合物含有硅晶圆研磨促进剂、含酰胺基聚合物X、不含酰胺基的有机化合物Y及水。含酰胺基聚合物X在主链中具有源自下述通式(1)所示的单体的结构单元A。另外，含酰胺基聚合物X的分子量M_x与有机化合物Y的分子量M_y的关系满足下式200≤M_yx。
硅晶圆研磨组合

[发明专利]研磨用组合物及其制造方法-CN201480053941.X有效
发明人：土屋公亮;森嘉男 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2014-09-22 - 公布日： 2018-06-19 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明提供一种能够有效地减少表面缺陷的研磨用组合物。根据本发明，可提供包含水溶性高分子MC‑end的研磨用组合物。前述水溶性高分子MC‑end的主链包含作为主构成区域的非阳离子性区域和位于该主链的至少一个端部的阳离子性区域。前述阳离子性区域具有至少一个阳离子性基团。 1
研磨用组合物水溶性高分子阳离子性主链阳离子性基团有效地减少表面缺陷非阳离子制造

[发明专利]研磨用组合物及其制造方法-CN201480053942.4有效
发明人：土屋公亮;森嘉男 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2014-09-22 - 公布日： 2018-04-13 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明提供一种能够减少雾度及表面缺陷的研磨用组合物。根据本发明，可提供包含水溶性合成高分子ML‑end的研磨用组合物，所述水溶性合成高分子ML‑end在主链的至少一个端部具有疏水性区域。前述疏水性区域具有来自聚合引发剂的至少1个疏水性基团。
研磨组合及其制造方法

[发明专利]硅晶圆研磨用组合物-CN201480032514.3有效
发明人：土屋公亮;丹所久典;市坪大辉;森嘉男 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2014-05-02 - 公布日： 2018-01-09 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供在磨粒存在下使用的硅晶圆研磨用组合物。该组合物包含硅晶圆研磨促进剂、含酰胺基聚合物和水。并且，前述含酰胺基聚合物在主链中具有构成单元A。前述构成单元A包含构成前述含酰胺基聚合物的主链的主链构成碳原子；以及仲酰胺基或叔酰胺基。并且，构成前述仲酰胺基或叔酰胺基的羰基碳原子直接键合于前述主链构成碳原子上。
硅晶圆研磨组合

[发明专利]硅晶圆研磨用组合物-CN201580020002.X在审
发明人：土屋公亮;丹所久典;森嘉男 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2015-04-07 - 公布日： 2016-12-14 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种降低硅晶圆表面的雾度的效果优异的硅晶圆研磨用组合物。此处所提供的硅晶圆研磨用组合物含有磨粒、硅晶圆研磨促进剂、含酰胺基聚合物及水。含酰胺基聚合物在主链中具有源自下述通式(1)所示的单体的结构单元A。另外，磨粒的平均二次粒径为10nm以上且60nm以下。
硅晶圆研磨组合

[发明专利]研磨用组合物、使用了其的研磨方法和基板的制造方法-CN201280051935.1有效
发明人：土屋公亮;森嘉男;高见信一郎;高桥修平 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2012-10-09 - 公布日： 2014-06-25 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨用组合物，其特征在于，其为含有磨粒、水溶性高分子、聚集抑制剂和水的研磨用组合物，在将前述研磨用组合物中存在的颗粒的平均粒径设为R1、将使前述磨粒分散在水中而使得与前述研磨用组合物中的磨粒的浓度相同时的磨粒的平均粒径设为R2的情况下，R1/R2为1.3以下。该研磨用组合物主要在研磨硅基板的表面的用途中使用。
研磨组合使用方法制造

[发明专利]水溶性高分子的溶解方法-CN200980140267.8有效
发明人：稻叶孝文;李巍;都筑哲也;森嘉男 -专利权人： MT奥科高分子株式会社
申请日： 2009-10-23 - 公布日： 2011-09-07 - 主分类号： B01F1/00 文献下载
摘要：本发明提供水溶性高分子的溶解方法，其特征在于，对于溶解有0.3～1质量％的水溶性高分子的一次水溶液，在其使用时将其稀释成2～30倍稀释倍率的二次水溶液，以供高分子凝聚剂、造纸用成品率提高剂、增稠剂、纸力增强剂等的用途。为将一次水溶液稀释成二次水溶液，优选使用管路混合器4。通过采用所述溶解方法，可以提供在水溶性高分子水溶液的粘度不降低的情况下可耐受长期使用的水溶性高分子水溶液。
水溶性高分子溶解方法

[发明专利]光固化性树脂组合物及其制造方法-CN200880100769.3无效
发明人：神户慎哉;松永守功;森嘉男 -专利权人：东亚合成株式会社
申请日： 2008-10-03 - 公布日： 2010-07-28 - 主分类号： C08F299/00 文献下载
摘要：本发明的目的是提供光固化前的赋型性、光固化后的耐溶剂性及光固化后的挠性优异的光固化性树脂组合物及其制造方法。本发明的光固化性树脂组合物含有经(甲基)丙烯酰基改性并且双键当量为1.8～4.0meq/g的光固化性共聚物，该光固化性共聚物通过使(甲基)丙烯酸与包含(甲基)丙烯酸酯类单体单元和含环氧基的(甲基)丙烯酸酯类单体单元的含环氧基的共聚物反应而得到。另外，本发明的光固化性树脂组合物的制造方法具有：使形成(甲基)丙烯酸酯类单体单元的单体和形成含环氧基的(甲基)丙烯酸酯类单体单元的单体聚合而得到含环氧基的共聚物的聚合工序，和其后使(甲基)丙烯酸与该环氧基反应而使该含环氧基的共聚物进行(甲基)丙烯酰基改性的改性工序。
光固化树脂组合及其制造方法

[发明专利]污水消化污泥的脱水方法-CN200780037908.8有效
发明人：稻叶孝文;森嘉男 -专利权人： MT奥科高分子株式会社
申请日： 2007-10-22 - 公布日： 2009-09-02 - 主分类号： C02F11/14 文献下载
摘要：本发明提供一种污泥的脱水方法，对污水消化污泥而言，可以降低凝聚剂的使用量、获得凝聚性、过滤性及分离液的澄清性优异的絮凝物，且可以使脱水滤饼的含水率降低。具体地，涉及一种污水消化污泥的脱水方法，其特征在于，在污水消化污泥中添加含有阳离子当量值为4.0meq/g以上且0.5％盐粘度小于40mPa·s的聚合物的阳离子性高分子凝聚剂后，利用带式脱水机或压滤机进行脱水处理；以及在污水消化污泥中不使用无机凝聚剂，在添加含有阳离子当量值为4.0meq/g以上且0.5％盐粘度为40mPa·s以上的聚合物的阳离子性高分子凝聚剂的同时或者添加之后，进行离心脱水处理。
污水消化污泥脱水方法

[发明专利]污水污泥的脱水方法-CN200780038054.5有效
发明人：稻叶孝文;森嘉男 -专利权人： MT奥科高分子株式会社
申请日： 2007-10-15 - 公布日： 2009-09-02 - 主分类号： C02F11/14 文献下载
摘要：本发明提供一种针对粗悬浮物少而剩余污泥比例大的污泥的凝聚脱水性能优异的污泥脱水方法。本发明涉及污水污泥的脱水方法，其特征在于，该污水污泥是经污水处理而产生的初沉污泥、剩余污泥、或剩余污泥和初沉污泥的混合污泥，且是粗悬浮物(CF)相对于悬浮物质(SS)的比例为15质量％以下的污泥，在该污水污泥中不使用聚脒，而添加阳离子性高分子凝聚剂后，进行脱水，所述阳离子性高分子凝聚剂含有在全部构成单体单元中具有丙烯酰基的阳离子性单体为65摩尔％以上的聚合物。
污水污泥脱水方法

[发明专利]水性涂布剂-CN200780034748.1有效
发明人：神户慎哉;牧隆之;浅井洋辅;松永守功;森嘉男 -专利权人：东亚合成株式会社
申请日： 2007-10-01 - 公布日： 2009-08-26 - 主分类号： B41M5/00 文献下载
摘要：本发明提供采用喷墨方式涂布于记录介质，能够在图像表面形成耐擦过性、耐水性、光泽优异的膜的水性涂布剂和含有该涂布剂的水性涂布液。颜料墨喷墨用水性涂布剂，其特征在于：含有接枝共聚物，该接枝共聚物由具有有机硅系侧链，主链以含有烯键式不饱和羧酸的单体为必要构成成分的共聚物构成，酸值为40～200mg-KOH/g(固体分)，重均分子量在5,000～30,000的范围内。包含上述含有接枝共聚物的水性涂布剂的颜料墨喷墨用水性涂布液，其特征在于：在喷墨方式中，将其填充到独立于颜料墨的另外的罐中，从另外的喷嘴排出而涂布于记录物。
水性涂布剂

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