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- [发明专利]一种标定装置和标定方法-CN201911355718.1有效
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杨朝兴
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上海御微半导体技术有限公司
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2019-12-25
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2023-05-16
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G06T7/80
- 本发明公开了一种标定装置和标定方法。该装置包括：标定板、待标定模块和控制模块；控制模块与标定板连接，用于控制标定板产生参考标定图形和互补参考标定图形，参考标定图形包括第一背景和第一参考图案，互补参考标定图形包括第二背景和第二参考图案，其中，第一背景和第二参考图案颜色相同，第二背景与第一参考图案颜色相同；待标定模块用于采集参考标定图形的图像得到第一图像，采集互补参考标定图形的图像得到第二图像；控制模块与待标定模块连接，用于根据第一图像和第二图像计算平均边缘轮廓，并根据平均边缘轮廓计算待标定模块的标定参数和标定板的姿态参数。该装置能够实现高精度的提取标定板标记位置，提高标定结果的精度。
- 一种标定装置方法
- [发明专利]一种缺陷检测装置及其方法-CN202010256136.4有效
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杨朝兴
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上海御微半导体技术有限公司
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2020-04-02
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2023-04-07
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G01N21/958
- 本发明公开了缺陷检测装置及其方法，包括工件台、光源、成像单元、距离测量单元、计算处理单元以及探测器；光源提供检测光束以预设入射角度入射待测基板表面，形成第一成像光束和第二成像光束；成像单元收集第一成像光束和第二成像光束，成像到第一成像区域和第二成像区域；距离测量单元测量待测基板厚度和待测基板与距离测量单元之间距离；计算处理单元根据第一成像区域在探测器上位置信息和待测基板厚度，获取第二成像区域在探测器上位置信息，对第一图像和第二图像进行缺陷识别获取缺陷信息；探测器对第一成像区域和第二成像区域分别进行图像采集，获取第一图像和第二图像。本发明仅通过一组成像单元和光源就可完成待测基板两个表面缺陷检测。
- 一种缺陷检测装置及其方法
- [发明专利]一种套刻测量方法-CN202211500199.5在审
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杨朝兴;齐景超
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合肥御微半导体技术有限公司
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2022-11-28
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2023-03-03
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G03F7/20
- 本发明公开了一种套刻测量方法。该方法包括：获取第一层图形以及与第一层图形相邻的第一层中间层图形形成的第一图像；依次获取第i+1层中间层图形以及与第i+1层中间层图形相邻的第i+2层中间层图形形成的第i+2图像；获取第i+2层中间层图形以及与第i+2层中间层图形相邻的第二层图形形成的第i+3图像，其中，各层中间层图形依次叠放在第一层图形之上；第二层图形叠放在第i+2层中间层图形之上；根据第一图像至第i+3图像获得第一套刻误差至第i+3套刻误差，进而将第一套刻误差至第i+3套刻误差累加获得第一图像相对于第二图像的套刻误差。本发明实施例通过在套刻标记内外圈图形之间增加中间层，简化了套刻量测工艺复杂性，提高了套刻量测精度和量测产率。
- 一种测量方法
- [发明专利]一种缺陷检测装置及方法-CN202011450397.6有效
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杨朝兴
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上海御微半导体技术有限公司
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2020-12-09
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2022-08-26
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G01N21/88
- 本发明提供一种缺陷检测装置及方法，缺陷检测装置包括暗场照明光源、成像镜头、全斯托克斯偏振积分相机、运动台和控制单元，暗场照明光源用于提供线偏振光束，运动台用于承载待测样品；线偏振光束倾斜投射至待测样品上，被待测样品反射以及散射后形成为信号光束，信号光束经过成像镜头后投射至全斯托克斯偏振积分相机；控制单元驱动运动台运动，使全斯托克斯偏振积分相机完成对待测样品的扫描拍摄以同时形成全斯托克斯偏振图片，并通过对全斯托克斯偏振图片的数据处理，滤除数据中镜面反光信号后进行缺陷检测，获取待测样品的缺陷信息；本发明提高了缺陷检测和识别速度以及准确性。
- 一种缺陷检测装置方法
- [发明专利]位置标定方法和位置标定装置-CN202010145459.6有效
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杨朝兴
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合肥御微半导体技术有限公司
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2020-03-03
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2022-04-05
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G01B11/00
- 本发明提供了一种位置标定方法，包括获取成像系统的焦点坐标，高度传感器沿至少两个方向对所述第二标记区域分别进行至少两次高度扫描，获取每条扫描路径在所述第二标记区域内的中点坐标，获取同一方向上扫描路径中点的连线与其他同一方向上扫描路径中点的连线的交点坐标，根据所述焦点坐标、所述交点坐标以及偏移坐标，计算所述成像系统和所述高度传感器之间的相对位置坐标，无需显微镜等，降低了系统的复杂度，交点坐标的计算与第二标记区域的真实边缘相关，包含了对中心位置的算法补偿与偏移，所述交点坐标为真实位置，精确度高。本发明还提供了一种用于实现所述位置标定方法的位置标定装置。
- 位置标定方法装置
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