专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种高硬度耐磨玻璃盖板及其制备方法-CN201710963120.5有效
  • 陈立;吴德生;朱得菊 - 信利光电股份有限公司
  • 2017-10-17 - 2021-02-05 - C03C17/34
  • 本发明提供一种高硬度耐磨玻璃盖板,包括依次接触的玻璃基体、SiO2层、含氢DLC层和Si掺杂的DLC层;所述Si掺杂的DLC层中Si的原子百分含量为8~14%。本发明结合含氢类金刚石的特点,设计了一种新型双层的类金刚石膜层结构,通过在DLC层中掺杂适当含量的Si,在保证高的光学透过率的条件下,提高膜层的硬度及耐摩擦性能,降低膜层的动摩擦系数。本发明还提供了一种高硬度耐磨玻璃盖板的制备方法,本发明通过磁控溅射的方法,在玻璃盖板基体表面依次镀膜,将各膜层紧密结合在一起,进一步提高产品的耐摩擦性能。
  • 一种硬度耐磨玻璃盖板及其制备方法
  • [发明专利]一种高疏水多元掺杂类金刚石薄膜及其制备方法-CN201710703168.2有效
  • 陈立;吴德生;朱得菊 - 信利光电股份有限公司
  • 2017-08-16 - 2020-07-17 - C23C14/06
  • 本发明提供了一种高疏水多元掺杂类金刚石薄膜,包括:掺杂F和Si的DLC薄膜层。与现有技术相比,本发明提供的高疏水多元掺杂类金刚石薄膜膜层较薄,只有10nm左右,同时含有F和Si的元素掺杂,F的掺杂,在DLC薄膜表面形成低表面能的‑CF和‑CF2基团,降低DLC的表面能,可提高表面疏水性,Si元素与DLC以Si‑C键结合,提高SP3键含量,并减少DLC膜层中石墨岛的尺寸,减少膜层表面的粗糙度和动摩擦系数,通过F和Si的共掺杂,能够提高DLC的疏水性和降低动摩擦系数;使这种薄膜具有较好的水滴角和顺滑度,具有高疏水性和防指纹效果。本发明还提供了一种高疏水多元掺杂类金刚石薄膜的制备方法。
  • 一种疏水多元掺杂金刚石薄膜及其制备方法
  • [发明专利]一种金属钛掺杂类金刚石薄膜及其制备方法-CN201710463954.X有效
  • 朱得菊;吴德生;陈立 - 信利光电股份有限公司
  • 2017-06-19 - 2019-11-22 - C23C14/35
  • 本发明提供了一种金属钛掺杂类金刚石薄膜的制备方法,包括:将掺钛石墨靶材在混合气体环境中进行磁控溅射,在衬底上沉积得到金属钛掺杂类金刚石薄膜;所述混合气体为氢气和氩气。本发明在制备金属钛掺杂类金刚石薄膜时,巧妙地引入了Ti元素,极大地提高了薄膜的耐磨性能,有效降低了类金刚石碳基薄膜生长过程中的内应力。因而,本发明制得的金属钛掺杂类金刚石薄膜具有较好的光学特性、硬度和耐磨性,能够适用于对光学和机械性能均有要求的器件,同时,还具有较好的疏水性。另外,本发明提供的制备方法在工业生产中操作方便,可以得到均匀稳定的产品。
  • 一种金属掺杂金刚石薄膜及其制备方法
  • [发明专利]一种真空镀膜掺杂靶材及其制作方法及真空镀膜方法-CN201710703588.0在审
  • 陈立;吴德生;朱得菊 - 信利光电股份有限公司
  • 2017-08-16 - 2017-10-27 - C23C14/34
  • 本发明公开了一种真空镀膜掺杂靶材及其制作方法及真空镀膜方法,该制作方法包括根据预设的靶材尺寸、掺杂元素的种类以及掺杂元素的掺杂含量,设计节块的形状;选择所需掺杂元素的板状材料,根据所述形状的尺寸对板状材料进行切割以及打磨,形成所需掺杂元素的节块;根据均匀分布的原则,在靶材绑定基板上按照预设的分布方式设置不同掺杂元素对应节块;将节块与靶材绑定基板进行绑定,形成真空镀膜掺杂靶材;所述靶材绑定基板上绑定有多个所述节块,所述节块在第一方向上依次堆叠设置,所述第一方向平行于所述绑定基板;对所述真空镀膜掺杂靶材进行质量检测。本发明技术方案可以方便快捷地根据掺杂元素的种类以及含量的不同进行掺杂靶材的制作。
  • 一种真空镀膜掺杂及其制作方法方法

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