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[发明专利]用于清洁真空腔室的方法、用于真空处理基板的设备和用于制造具有有机材料的装置的系统-CN201880002084.9有效
发明人： 斯蒂芬·凯勒;乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波;李宰源;安食高志 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-03-28 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开内容提供了一种用于清洁真空腔室(210)的方法(100)。所述方法(100)包括降低所述真空腔室(210)中的压力，以蒸发容纳在所述真空腔室(210)中的溶剂的至少一部分。
用于清洁空腔方法真空处理设备制造具有有机材料装置系统

[发明专利]预处理用于测量沉积速率的振荡晶体的预处理方法、沉积速率测量装置、蒸发源和沉积设备-CN201880097507.X在审
发明人：塞巴斯蒂安·弗兰克;安德烈亚斯·穆勒;朱利安·奥巴赫;斯蒂芬·凯勒 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-09-19 - 公布日： 2021-04-23 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：描述了一种预处理用于测量沉积速率的振荡晶体(110)的方法。该方法包括对振荡晶体的测量表面(115)进行极化。具体来说，该方法包括用含氧等离子体预处理振荡晶体的测量表面，其中预处理在10℃≤T≤80℃的温度下进行1min≤t≤5min的时间段t。另外，描述了沉积速率测量装置、蒸发源和沉积设备。
预处理用于测量沉积速率振荡晶体方法装置蒸发设备

[发明专利]球面滑动轴承-CN202010640730.3在审
发明人：托马斯·弗雷德里希;斯蒂芬·凯勒 -专利权人：斯凯孚公司
申请日： 2020-07-06 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： F16C25/02 文献下载
摘要：公开了一种用于支撑轴(16)的球面轴承(1)，特别是传送带系统的旁通翻板的轴的球面滑动轴承(1)，例如，所述传送带系统是碎石机，所述球面滑动轴承(1)包括内圈(2)和外圈(4)，其中，所述内圈(2)被构造为支撑所述轴(16)，并且所述内圈(2)具有呈球面形的径向外表面(8)，所述外圈(4)包括接纳所述内圈(2)的球面形外表面(8)的径向内表面(12)，使得所述内圈(2)被滑动地支撑在所述外圈(4)中，其中，夹持套筒(18)布置在所述内圈(2)与所述轴(16)之间，以将所述球面滑动轴承(1)附接到所述轴(16)上。
球面滑动轴承

[发明专利]蒸发源-CN201580077519.2有效
发明人：斯蒂芬·班格特;乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波;斯蒂芬·凯勒;诺伯特·施帕茨 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-07-13 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：描述一种用于金属或金属合金的蒸发源(100)。蒸发源包括：蒸发坩锅(104)，其中蒸发坩锅配置为蒸发金属或金属合金；分布管(106)，具有一或多个出口(712)，沿着分布管的长度提供，其中分布管流体连通于蒸发坩锅，其中分布管进一步包括第一外部管(234)和第一内部管(232)，以及其中分布管和蒸发坩锅提供成单一件。
蒸发

[发明专利]材料沉积布置、真空沉积系统和其方法-CN201780000734.1在审
发明人：斯里尼瓦斯·撒鲁谷;斯蒂芬·班格特;斯蒂芬·凯勒 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-01-31 - 公布日： 2019-09-03 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本公开内容描述了用于在真空沉积腔室中的基板上沉积材料的材料沉积布置(100)。所述材料沉积布置包括至少一个材料沉积源，所述至少一个材料沉积源具有：坩埚(110)，所述坩埚(110)被配置成蒸发材料；分配组件(120)，所述分配组件(120)连接至坩埚，其中分配组件被配置成向基板提供蒸发材料；和阀(130)，所述阀(130)被配置成控制蒸发材料从坩埚(110)流动到分配组件(120)。
材料沉积分配组件坩埚蒸发材料基板配置真空沉积腔室真空沉积系统沉积材料内容描述流动

[发明专利]基板载体、以及溅射沉积设备和其使用方法-CN201580083279.7在审
发明人：安德烈·布鲁宁;斯蒂芬·凯勒;莱内尔·欣特舒斯特;托马斯·沃纳·兹巴于尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-09-21 - 公布日： 2018-06-08 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：提供了用于在溅射沉积工艺期间支撑至少一个基板的载体(100)。载体(100)包括：非导电的载体主体(102)，具有第一末端(111)和相对的第二末端(112)；电绝缘的第一导引装置(120)，设于陶瓷载体主体(102)的第一末端(111)处；和电绝缘的第二导引装置(130)，设于陶瓷载体主体(102)的第二末端(112)处。
导引装置陶瓷载体电绝缘溅射沉积工艺基板载体溅射沉积载体主体非导电基板支撑

[发明专利]用于在溅射沉积处理期间支撑至少一个基板的载具、用于在至少一个基板上溅射沉积的设备和用于在至少一个基板上溅射沉积的方法-CN201580081040.6在审
发明人： 斯蒂芬·凯勒;安德烈·布鲁宁;尤韦·施尤比勒;托马斯·沃纳·兹巴于尔;斯蒂芬·班格特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-07-06 - 公布日： 2018-02-16 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明提供一种用于在溅射沉积处理期间支撑至少一个基板的载具(100)。载具(100)包括载具主体(102)及在载具主体(102)处提供的绝缘部分。此绝缘部分提供电绝缘材料的表面(103)，其中表面(103)被构造为在溅射沉积处理期间面向一个或多个溅射沉积源。
用于溅射沉积处理期间支撑至少一个基板上设备方法

[发明专利]用于待处理的基板的载体系统-CN201580078653.4在审
发明人：乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波;格奥尔·约斯特;斯蒂芬·凯勒;安科·赫尔密西;托马斯·格比利 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-04-09 - 公布日： 2017-12-05 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本文描述了一种用于待处理基板的载体系统。所述载体系统包括主载体(100)，所述主载体(100)包括用于将一个或多个副载体(400；800)耦接到主载体(100)的副载体耦接装置(201)。所述主载体(100)包括具有带交叉格栅(121)的网格形状的副载体支撑部分(120)，其中副载体耦接装置(201)提供在格栅(121)处。所述载体系统还包括用于支撑一个或多个待处理基板(500)的副载体(400；800)，其中副载体(400；800)包括一个或多个开口(422)。副载体(400；800)还包括用于耦接基板(500)的基板耦接装置(430；431)，其中基板耦接装置(430；431)被配置用于将基板(500)保持在与副载体(400；800)的开口(422)部分地重叠的位置。
用于处理载体系统

[实用新型]用于化学处理半导体衬底的装置-CN201620228808.X有效
发明人：彼得·法思;斯蒂芬·凯勒;伊霍·梅尔尼克 -专利权人： RCT解决方案有限公司
申请日： 2016-03-23 - 公布日： 2016-12-21 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本实用新型涉及用于化学处理半导体衬底的装置。其中，一种用于化学处理半导体衬底(2)的装置(1)具有预处理装置(4)，该预处理装置在该半导体衬底(2)的传输方向(3)上设置在第一涂敷装置(5)和第二涂敷装置(6)之前。该预处理装置(4)用于在该半导体衬底(2)上生成环绕的限定区域，使得之后借助该第一涂敷装置(5)所施加的保护流体(22)被限定并被保持于衬底上侧(23)上。由此避免了在之后的第二涂敷装置(6)中该保护流体(22)对处理流体(28)的污染，由此该装置(1)以简单的方式具有高的经济性。
用于化学处理半导体衬底装置

[发明专利]用于化学处理半导体衬底的装置和方法-CN201610169935.1在审
发明人：彼得·法思;斯蒂芬·凯勒;伊霍·梅尔尼克 -专利权人： RCT解决方案有限公司
申请日： 2016-03-23 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明涉及用于化学处理半导体衬底的装置和方法。其中，一种用于化学处理半导体衬底(2)的装置(1)具有预处理装置(4)，该预处理装置在该半导体衬底(2)的传输方向(3)上设置在第一涂敷装置(5)和第二涂敷装置(6)之前。该预处理装置(4)用于在该半导体衬底(2)上生成环绕的限定区域，使得之后借助该第一涂敷装置(5)所施加的保护流体(22)被限定并被保持于衬底上侧(23)上。由此避免了在之后的第二涂敷装置(6)中该保护流体(22)对处理流体(28)的污染，由此该装置(1)以简单的方式具有高的经济性。
用于化学处理半导体衬底装置方法

[发明专利]蒸发器、沉积装置、沉积设备及其操作方法-CN201380066886.3在审
发明人： 斯蒂芬·凯勒;乌韦·许斯勒;乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波;斯蒂芬·班格特;里奥·库韦克·比安-孙 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2013-12-20 - 公布日： 2015-09-02 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：描述用于蒸发包括碱金属或碱土金属的材料及用于沉积所述材料于基板上的沉积装置。所述装置包含：第一腔室，所述第一腔室被配置以液化材料；阀，所述阀与第一腔室流体连通且在第一腔室下游，其中阀被配置以控制液化材料通过阀的流率；蒸发区，所述蒸发区与阀流体连通且在阀下游，其中蒸发区被配置以蒸发液化材料；及一或更多出口，所述一或更多出口用于将蒸发材料导向基板。
蒸发器沉积装置设备及其操作方法

[发明专利]用于蒸发介电材料的等离子体增强沉积装置、沉积设备以及其操作方法-CN201380063812.4在审
发明人： 斯蒂芬·凯勒;斯蒂芬·班格特;里奥·库韦克·比安-孙 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2013-12-20 - 公布日： 2015-08-12 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：描述用于蒸发介电材料至基板上的沉积装置。沉积装置包括：蒸汽分配喷头；保持器，所述保持器用于提供介电材料于蒸汽分配喷头中，其中保持器具有进给单元，用于进给介电材料至蒸汽分配喷头；能源，所述能源配置成用于熔化及蒸发蒸汽分配喷头中的介电材料或使蒸汽分配喷头中的介电材料升华，其中蒸汽分配喷头具有一或更多出口，用于将蒸发的介电材料导向基板，及特别地，其中能源发射电子或光子，其中电子或光子熔化及蒸发介电材料或使介电材料升华。装置进一步包括等离子体源，等离子体源配置成用于在蒸汽分配喷头与基板之间提供等离子体。
用于蒸发材料等离子体增强沉积装置设备及其操作方法

[发明专利]用于使用热丝来涂布的设备与方法-CN201180069001.6在审
发明人：斯蒂芬·班格特;沃纳·古尔;斯蒂芬·凯勒;迈克尔·柯尼希 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-03-22 - 公布日： 2013-12-04 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：提供一种涂布设备(700)，所述涂布设备包括：(i)真空腔室(16)，所述真空腔室用于使用经由金属丝(wire)(14)加热的涂布材料涂布基板(12)；和(ii)致动器系统(18)，所述致动器系统包括机动驱动器(20)。致动器系统配置成用于在涂布期间张紧金属丝(14)。此外，提供一种制造经涂布的基板(12)的方法，所述方法包括以下步骤：(i)由包括机动驱动器的致动器系统(18)张紧金属丝(14)；和(ii)使用涂布材料(28)涂布基板(12)，所述涂布的步骤在真空条件下执行。涂布的步骤包括以下步骤：在涂布材料沉积于基板(12)之上之前，加热金属丝(14)的至少一部分(14b)至用于引起涂布材料的温度升高的操作温度。
用于使用热丝来涂布设备方法

[发明专利]用于增强热丝化学气相沉积工艺中的钽灯丝寿命的方法-CN201180050142.3有效
发明人：拜平·塔库尔;乔·格里菲思克鲁兹;斯蒂芬·凯勒;维卡斯·古扎尔;亚努·拉万德·帕蒂尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-10-20 - 公布日： 2013-06-19 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明提供利用热丝化学气相沉积（HWCVD）工艺沉积膜的方法。在一些实施例中，操作HWCVD工具的方法包括提供氢气（H2）至灯丝，历经第一时段，灯丝置于HWCVD工具的处理腔室中；以及经过第一时段后，使电流流过灯丝，以将灯丝温度提高至第一温度。
用于增强化学沉积工艺中的灯丝寿命方法

[发明专利]EUV光刻装置及用于处理光学元件的方法-CN200980141048.1有效
发明人：沃尔夫冈·辛格;关彦彬;斯蒂芬-沃尔夫冈·施米特;德克·H·埃姆;迪特尔·克劳斯;斯蒂芬·威斯纳;斯蒂芬·凯勒;阿尔穆特·查普;钟显耀 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2009-10-15 - 公布日： 2011-09-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种EUV光刻装置，包括：照明单元，用于照明所述EUV光刻装置中的照明位置处的掩模；以及投射单元，用于将设置在所述掩模上的结构投射到光敏基底上。所述EUV光刻装置具有处理单元(15)，用于在所述EUV光刻装置中的处理位置处，优选以局部分辨的方式，处理光学元件(6a)，尤其是掩模。为了激活所述气体流(27)的至少一个气体成分，所述处理单元(15)包括用于产生辐射的辐射源、用于产生粒子流(尤其是电子束)的粒子产生器(30)、和/或高频产生器。
euv 光刻装置用于处理光学元件方法

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