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[发明专利]一种金属支架可摘局部义齿数字化设计制作方法-CN202310368867.1在审
发明人：白石柱;赵瑞峰;王馨;张生睿;张杰;宋世威;马旦 -专利权人：中国人民解放军空军军医大学
申请日： 2023-04-07 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： A61C13/00 文献下载
摘要：本发明涉及义齿制作技术领域，提出一种金属支架可摘局部义齿数字化设计制作方法。制作方法包括：扫描患者口内牙列三维数据，得到初始牙列模型并确定金属支架的设计方案；基牙预备后扫描口内牙列三维信息数据，获得备牙后牙列模型；根据备牙后牙列模型进行金属支架设计，并进行金属支架的生理性调整，得到带装配结构金属支架模型；根据金属支架模型获得金属支架‑余留牙模型以及游离端黏膜‑余留牙模型，并将两者与备牙后牙列模型配准后获得游离端黏膜‑金属支架实际位置模型；根据游离端黏膜‑金属支架实际位置模型进行人工牙和基托的设计制作。本发明提供的制作方法，能够减少传统可摘义齿制作方法中的复杂工序，提升修复体制作精度和稳定性。
一种金属支架局部义齿数字化设计制作方法

[发明专利]一种掩模辅助图形的优化方法、计算机可读介质及系统-CN201910134377.9有效
发明人： 张生睿;施伟杰 -专利权人：深圳晶源信息技术有限公司
申请日： 2019-02-22 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩模辅助图形的优化方法，该方法包括以下步骤，步骤S1：提供一张原始设计版图，并在原始设计版图中选取至少一个小区域版图；步骤S2：对选取的小区域版图做基于光刻模型的辅助图形优化，得到对应小区域版图的掩模形貌图；步骤S3：对得到的对应小区域版图的掩模形貌图进行优化；步骤S4：建立BP人工神经网络模型，并根据小区域版图的掩模形貌图和其对应的小区域版图训练BP人工神经网络模型；步骤S5：将训练好的BP人工神经网络模型应用在原始设计版图上，获得原始设计版图的掩模设计形貌图；及步骤S6：从掩模设计形貌图提取出掩模辅助图形。本发明还提供一种计算机可读介质。本发明还提供一种掩模辅助图形的系统。
一种辅助图形优化方法计算机可读介质系统

[发明专利]一种掩模设计图案的优化方法、系统及其电子装置-CN201910134676.2有效
发明人： 张生睿 -专利权人：深圳晶源信息技术有限公司
申请日： 2019-02-23 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明涉及半导体制造的光刻领域，特别涉及一种掩模设计图案的优化方法、系统及其电子装置。掩模设计图案的优化方法包括：将基础图案进行分片处理，基于每个分片图案进行像素掩模优化得到对应的像素掩模图案；提取多边形掩模，并进行预处理得到处理结果，对处理结果进行仿真验证后输出仿真验证结果；基于仿真验证结果，执行多边形掩模优化的占位操作或执行多边形掩模的实际优化操作，并输出对应的操作结果，汇总各操作结果以作为优化后的掩模设计图案。与现有技术相比，本发明提供的一种掩模设计图案的优化方法、系统及其电子装置，缩短了掩模设计图案的优化时间，可用于大面积版图的制造。
一种设计图案优化方法系统及其电子装置

[发明专利]一种光学掩模修正模型优化构建方法、装置及计算机设备-CN202210616447.6在审
发明人： 张生睿 -专利权人：东方晶源微电子科技(北京)有限公司
申请日： 2022-06-01 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明涉及计算光刻技术领域，特别涉及一种光学掩模修正模型的优化构建方法，方法包括以下步骤：S0：获取掩模版图的多个特征尺寸和亚分辨率辅助图形的特征数据并进行特征数据进行预处理，得到拟合数据；S1：根据特征尺寸进行OPC建模，得到初始OPC模型；S2：根据拟合数据对初始OPC模型进行优化，得到优化OPC模型。本发明提供的对传统OPC模型进行了优化，引入了亚分辨率辅助图形的特征数据，可以使得优化OPC模型可以更便捷、准确地判断亚分辨率辅助图形是否印出，以便于对亚分辨率辅助图形进行调整。
一种光学修正模型优化构建方法装置计算机设备

[发明专利]一种光刻机匹配方法-CN202210267076.5在审
发明人：王成瑾;张生睿 -专利权人：东方晶源微电子科技(北京)有限公司
申请日： 2022-03-17 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及光刻机技术领域，特别涉及光刻机匹配方法，包括步骤：获取预设光刻图案，每个预设光刻图案中分别预设有X个关键位置，X为正整数；在目标光刻机上根据光刻OPC模型分别获取每个预设光刻图案的X个关键位置对应的目标关键尺寸；以目标光刻机为标准对待调光刻机进行OPC模型拟合，获取待调光刻机上每个预设光刻图案中X个关键位置对应的待调关键尺寸，计算待调关键尺寸与目标关键尺寸的差值；基于每个待调关键尺寸对每种光刻机可调参数的灵敏度建立灵敏度矩阵；根据灵敏度矩阵，建立总评价函数；根据总评价函数，调整待调光刻机的参数以调整待测关键尺寸与目标关键尺寸匹配。
一种光刻匹配方法

[发明专利]一种解决掩模版着色边界冲突的方法、装置和计算机设备-CN202210260536.1在审
发明人：陈运;张生睿 -专利权人：东方晶源微电子科技(北京)有限公司
申请日： 2022-03-16 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种解决着色边界冲突的方法、装置及计算机设备，包括以下步骤：S0：提供初始掩模版图；S1：将初始掩模版图划分成多个分块，分块内包含多个子单元，且每个分块内包含初始子单元和关键子单元；S2：选择初始掩模版图预定区域作为初始分块集合，所述初始分块集合包括至少一个分块，并对所述初始分块集合内的每个分块的子单元通过预设的着色函数进行着色，得到着色后的初始分块集合；S3：通过所述着色函数以及着色后的所述初始分块集合中每个分块的所述关键子单元对其他分块进行着色，得到着色掩模图形。本发明提供的方法提高了解决着色边界冲突问题的效率。
一种解决模版着色边界冲突方法装置计算机设备

[发明专利]量测目标测量选配方案的自动选择-CN201780067363.9有效
发明人：王代冕;张生睿;范期翔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-08-07 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种方法，包括使用第一模型对多个不同量测目标测量选配方案中的每一个量测目标测量选配方案执行第一模拟，从多个量测目标测量选配方案中选择第一组量测目标测量选配方案，第一组量测目标测量选配方案满足第一规则，使用第二模型对来自第一组的每个量测目标测量选配方案执行第二模拟，以及从第一组中选择第二组量测目标测量选配方案，第二组量测目标测量选配方案满足第二规则，第一模型比第二模型更不准确或更快，和/或第一规则比第二规则限制更少。
目标测量选配方案自动选择

[发明专利]一种掩模边界检测方法、计算机可读存储介质及系统-CN201910134372.6在审
发明人：陈运;廖丹丹;张生睿;方伟 -专利权人：深圳晶源信息技术有限公司
申请日： 2019-02-22 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： G06T7/13 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模边界检测方法，用于拼接后掩模边界一致性的检测，其特征在于：该方法包括步骤：步骤S1，获取掩模版图中的目标图形图层、主图形图层及辅助图形图层，并对掩模版图进行划分；步骤S2，检测辅助图形图层中的辅助图形在划分处的一致性；及步骤S3，检测主图形图层中的主图形在划分处的一致性。本发明还提供一种计算机可读存储介质。本发明还提供一种掩模边界检测系统。
一种边界检测方法计算机可读存储介质系统

[发明专利]一种石墨烯纳米片结构缺陷修复与片间拼接方法-CN201811139177.4有效
发明人：雷彪;叶国永;刘红忠;张生睿;班耀文;赵国博;张鸿健 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2018-09-28 - 公布日： 2020-05-22 - 主分类号： C01B32/194 文献下载
摘要：一种石墨烯纳米片结构缺陷修复与片间拼接方法，首先配制含有镍离子的生长液，通过微波加热法在硅基底表面生长镍纳米粒子薄膜；然后将石墨烯纳米片与乙醇配置成混合液，将混合液匀速挤出到去离子水表面，获得悬浮在去离子水表面的石墨烯纳米片，转移悬浮在去离子水表面的石墨烯纳米片到硅基底上面的镍纳米粒子薄膜表面，对带有石墨烯纳米片及镍纳米粒子薄膜的硅基底进行烘干处理；最后对烘干后的带有石墨烯纳米片及镍纳米粒子薄膜的硅基底进行退火处理，快速冷却至室温；使用腐蚀液去除镍纳米粒子薄膜，获得大幅面高质量石墨烯薄膜；本发明实现了对微纳米石墨烯片进行结构缺陷修复与片间的拼接，工艺简单、可靠。
一种石墨纳米结构缺陷修复拼接方法

[发明专利]一种前端调速式风电机组功率优化控制方法-CN201510206193.0有效
发明人：董海鹰;张生睿;曹立新;李宏伟;李晓青 -专利权人：兰州交通大学;兰州电机股份有限公司
申请日： 2015-04-21 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： F03D7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种前端调速式风电机组功率优化控制方法，能够抑制发电机的功率波动，保证机组输出功率的平滑性。所述前端调速式风电机组的控制系统包括变桨控制器、变桨机构、齿轮箱、导叶控制器、液力变矩调速机构、同步电机和功率优化控制器，本系统通过对桨距角的调节来控制功率，通过对导叶开度的调节实现调速控制，桨距角和导叶开度由功率优化控制器确定，该功率优化控制器计算所述桨距角和导叶开度的步骤如下：1)根据液力变矩调速机构输出转速与同步电机输出功率构建目标函数；2)给定约束条件；3)目标函数的优化。
一种前端调速式风电机组功率优化控制方法

[发明专利]一种集成电路掩模设计的优化方法及计算机可读的存储介质-CN201710065850.3有效
发明人： 张生睿;俞宗强;施伟杰 -专利权人：深圳晶源信息技术有限公司;东方晶源微电子科技（北京）有限公司深圳分公司
申请日： 2017-02-06 - 公布日： 2019-04-12 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明提供一种集成电路掩模设计的优化方法包括以下步骤，步骤S1：提供一种集成电路的全芯片设计版图，在全芯片设计版图中随机抓取多个设计版图小区域；步骤S2：对选取的设计版图小区域版图进行基于像素的掩模优化，输出每个设计版图小区域的掩模设计的像素灰度图；步骤S3：利用所述小区域掩模像素灰度图和其对应的小区域设计版图，建立BP人工神经网络模型；步骤S4：将全芯片设计版图送入所述BP人工神经网络模型，获得全芯片设计版图的掩模设计灰度图，本发明还提供一种用于存储集成电路掩模设计的计算机程序的介质。
一种集成电路设计优化方法计算机可读存储介质

[实用新型]一种风力发电机聚风环-CN201520148834.7有效
发明人：张翔;燕尧;董海鹰;张生睿;袁理 -专利权人：张翔;燕尧
申请日： 2015-03-17 - 公布日： 2015-09-23 - 主分类号： F03D9/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种风力发电机聚风环，包括机座杆以及连接于基座杆上端的风力发电机转子，还包括一通过连接块和基座杆相连接的风力聚集装置，所述风力聚集装置包括一将风力发电机转子罩在内的环形体，所述环形体内侧面为向左上角倾斜的第一斜面；所述环形体内部底面靠近圆心位置设有和所述第一斜面呈相反、对称角度的第二斜面；所述环形体前端焊接有一喇叭口环体；本实用新型采用斜面和喇叭口的配合，将风聚集到一处，使得风力发电机转子的利用率大大提高，进而提高了发电效率。
一种风力发电机聚风环

[实用新型]一种多方位风力发电装置-CN201520148835.1有效
发明人： 张生睿;袁理;董海鹰;燕尧;张翔 -专利权人： 张生睿;袁理
申请日： 2015-03-17 - 公布日： 2015-09-23 - 主分类号： F03D1/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多方位风力发电装置，包括风力发电机、四个发电叶片以及蓄电池，第一、第二发电叶片分别安装于第一、第二基座左右侧，第一、第二基座上端固接有横向基座，横向基座上端固接有第三基座，第三基座中部前端、上部后端风别连接有第三、四发电叶片；同时，在第一基座和第一发电叶片之间、第二基座和第二发电叶片之间、第三基座和第三、第四发电叶片之间，均连接有一无线控制式电动转动装置；本实用新型采用多个位置角度安装风叶以及使风叶能远程指挥转动方向，从而使风力发电机的利用率大大提高，发电量也大大增加。
一种多方位风力发电装置

[实用新型]一种LED灯控制电路-CN201520161942.8有效
发明人：燕尧;张生睿;董海鹰;赵严;王荣 -专利权人：兰州交通大学
申请日： 2015-03-20 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： H05B37/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种LED灯控制电路，包括整流桥T、电阻R1、电容C1、拾音器A和芯片IC1，所述电阻R1的一端连接电容C1和拾音器A，电阻R1的另一端连接电阻R7、电阻R8、电阻R10、电容C3、三极管V3的发射极和芯片IC1的引脚8，三极管V3的集电极连接三极管V3的基极并接地。本实用新型LED灯控制电路采用微功耗COMS集成稳压电路MAX666作为控制元件，工作稳定、静态耗电量小，通过声音触发不仅能够开启和关闭灯具，同时还能进行亮度调节，并且电路设置了光控单元，白天时不会触发电路，避免了电能浪费。
一种 led 控制电路

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