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[发明专利]掩膜板的形成方法-CN202210233150.1在审
发明人：陈明;柳锋;巫轶骏;严世传;卢聪 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2022-03-09 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G03F1/20 文献下载
摘要：一种掩膜板的形成方法，包括：提供基底；在基底上形成遮光材料层；在遮光材料层上形成吸收层，所述吸收层材料的原子核半径小于所述遮光材料层材料的原子核半径；在吸收层上形成光刻胶材料层；对所述光刻胶材料层进行曝光处理；对所述曝光后的光刻胶材料层进行显影处理，在吸收层上形成图形化的光刻胶层。所述方法形成的掩膜板的图形精度得到提升。
掩膜板形成方法

[发明专利]一种避免蚀刻液输送管路结晶的方法-CN201510741988.1有效
发明人：徐飞;郭贵琦;金海涛;葛海鸣;巫轶骏;沈健;陈帅;王然 -专利权人：常州瑞择微电子科技有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2015-11-04 - 公布日： 2020-04-14 - 主分类号： G03F1/80 文献下载
摘要：一种避免蚀刻液输送管路结晶的方法，涉及专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备，尤其涉及在光掩模的制造蚀刻工艺中避免在蚀刻液输送管路中产生结晶物的方法及其管路结构，包括以下步骤：向蚀刻液输送管路送入蚀刻液，替代蚀刻液输送管路中的蚀刻缓冲液和纯水；连续输送蚀刻液，完成被蚀刻工件的蚀刻工艺；向蚀刻液输送管路送入蚀刻缓冲液，替代蚀刻液输送管路中的蚀刻液；用纯水替代蚀刻液输送管路第二阀门C口之后至喷嘴段的蚀刻缓冲液。能够有效地预防蚀刻液输送管路的结晶，避免结晶物影响后续蚀刻工艺和掩膜版成品质量，节省定期清洗浪费的时间，提高蚀刻工艺的稳定性和可靠性，保持生产过程的连贯性。
一种避免蚀刻输送管路结晶方法

[发明专利]一种光掩模制作方法-CN201410086407.0有效
发明人： 巫轶骏;马莹 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2014-03-11 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩模制作方法，所述方法包括步骤：提供透明基板，所述透明基板上形成有具有掩模图案的相移层及Cr层；旋涂覆盖所述Cr层的光刻胶，并利用曝光和显影技术去除主图区Cr层上的光刻胶；进行烘烤；采用干法刻蚀工艺对所述主图区的Cr层进行第一次刻蚀；采用清洗液进行冲洗；采用干法刻蚀工艺对所述主图区的Cr层进行第二次刻蚀，最后去除所述光刻胶。本发明提供的光掩模的制作方法，显影后进行烘烤，可以提高光刻胶的强度，使后续进行清洗液冲洗时光刻胶不容易被冲坏；两次刻蚀间添加清洗液冲洗步骤，可以去除因蚀刻产生的副产物或蚀刻前带来的颗粒；把Cr刻蚀改为两次分步的干法刻蚀，提高主图区Cr层的去除率，避免Cr残留。
一种光掩模制作方法

[实用新型]一种光刻胶烘焙装置-CN200920208083.8有效
发明人： 巫轶骏 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-08-18 - 公布日： 2010-05-26 - 主分类号： G03F7/38 文献下载
摘要：本实用新型提供一种光刻胶烘焙装置，包括外壳、热板、控制系统、风扇，所述热板、控制系统及风扇设置于所述外壳内，所述控制系统控制所述热板的加热温度，所述风扇设置于所述热板的上方，还包括挡风盖板，所述挡风盖板设置于所述风扇与所述热板之间，所述档风盖板上设置多个通风孔洞。本实用新型的光刻胶烘焙装置通过增加挡风盖板，降低了烘焙装置内风扇吹出的气流对进行曝光后烘焙的掩模板的光刻胶图形的不利影响，提高了显影后整个光刻胶图形关键尺寸的均匀性，使光刻胶图形的质量得到很好的改善。本实用新型增加的挡风盖板易于制作，成本较低，取得的有益效果显著。
一种光刻烘焙装置