专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种蒸镀掩模及其制造方法-CN202210638781.1在审
  • 川崎博司;小幡胜也;曾根康子;广部吉纪 - 大日本印刷株式会社
  • 2019-03-20 - 2022-09-27 - C23C14/04
  • 本发明提供一种蒸镀掩模,其在树脂掩模(20)上设置有金属层(10),其中,上述树脂掩模(20)具有为了形成蒸镀图案所必要的开口部(25),树脂掩模(20)含有树脂材料,金属层(10)含有金属材料,将树脂材料的玻璃化转变温度(Tg)加上100℃而得到的温度设为上限温度时,在以线性膨胀的比例为纵轴、以温度为横轴的线性膨胀曲线中,用树脂掩模(20)的线性膨胀曲线在温度25℃~上限温度的范围内的积分值除以金属层(10)的线性膨胀曲线在温度25℃~上限温度的范围内的积分值而得到的值在0.55以上且1.45以下的范围内。
  • 一种蒸镀掩模及其制造方法
  • [发明专利]一种蒸镀掩模及其制造方法-CN201980019365.X有效
  • 川崎博司;小幡胜也;曾根康子;广部吉纪 - 大日本印刷株式会社
  • 2019-03-20 - 2022-06-21 - C23C14/04
  • 本发明提供一种蒸镀掩模,其在树脂掩模(20)上设置有金属层(10),其中,上述树脂掩模(20)具有为了形成蒸镀图案所必要的开口部(25),树脂掩模(20)含有树脂材料,金属层(10)含有金属材料,将树脂材料的玻璃化转变温度(Tg)加上100℃而得到的温度设为上限温度时,在以线性膨胀的比例为纵轴、以温度为横轴的线性膨胀曲线中,用树脂掩模(20)的线性膨胀曲线在温度25℃~上限温度的范围内的积分值除以金属层(10)的线性膨胀曲线在温度25℃~上限温度的范围内的积分值而得到的值在0.55以上且1.45以下的范围内。
  • 一种蒸镀掩模及其制造方法
  • [发明专利]蒸镀掩模及蒸镀掩模的制造方法-CN201910879058.0有效
  • 武田利彦;小幡胜也;川崎博司 - 大日本印刷株式会社
  • 2014-10-09 - 2022-03-08 - C23C14/24
  • 提供蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模,及提供精度良好的有机半导体元件的的制造方法。在设有与蒸镀图案对应的开口部的树脂掩模的面上层积设有缝隙的金属掩模而构成的蒸镀掩模中,树脂掩模的开口部的内壁面在厚度方向截面具有至少一个拐点,将树脂掩模的不与金属掩模相接侧的面(第一面)和内壁面的交点设为第一交点,将树脂掩模的与金属掩模相接侧的面(第二面)与内壁面的交点设为第二交点,使将从第一交点朝向第二交点位于最初的拐点(第一拐点)和第一交点连接的直线与第一面所构成的角度(01)大于将第一拐点和第二交点连接的直线和第二面所构成的角度,并且将厚度方向截面中的内壁面的形状设成从第一面朝向第二面侧扩大的形状,由此即使在大型化的情况下,也可满足高精细化和轻量化,并且可在保持开口部的强度的同时,抑制阴影产生。
  • 蒸镀掩模制造方法
  • [发明专利]蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模及有机半导体元件的制造方法-CN201480056597.X有效
  • 武田利彦;小幡胜也;川崎博司 - 大日本印刷株式会社
  • 2014-10-09 - 2019-10-15 - C23C14/24
  • 提供蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模,及提供精度良好的有机半导体元件的的制造方法。在设有与蒸镀图案对应的开口部的树脂掩模的面上层积设有缝隙的金属掩模而构成的蒸镀掩模中,树脂掩模的开口部的内壁面在厚度方向截面具有至少一个拐点,将树脂掩模的不与金属掩模相接侧的面(第一面)和内壁面的交点设为第一交点,将树脂掩模的与金属掩模相接侧的面(第二面)与内壁面的交点设为第二交点,使将从第一交点朝向第二交点位于最初的拐点(第一拐点)和第一交点连接的直线与第一面所构成的角度(01)大于将第一拐点和第二交点连接的直线和第二面所构成的角度,并且将厚度方向截面中的内壁面的形状设成从第一面朝向第二面侧扩大的形状,由此即使在大型化的情况下,也可满足高精细化和轻量化,并且可在保持开口部的强度的同时,抑制阴影产生。
  • 蒸镀掩模框架有机半导体元件制造方法

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