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[发明专利]一种窄带滤光片光谱的调控方法-CN201911146781.4有效
发明人：姜玉刚;陈丹;刘华松;姜承慧;刘丹丹 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2019-11-21 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种窄带滤光片光谱的调控方法，属于光学薄膜技术领域。本发明设计的一种窄带滤光片光谱的调控方法，它通过采用高温热处理的方法，并调整热处理工艺参数，能有效的改变窄带滤光片光谱的波长位置和波形。实施过程中，它通过在K9或石英基底上制备宽截止窄带滤光薄膜，将制备好的滤光片进行热处理，通过改变热处理时间和热处理温度，能有效地调节窄带滤光片的光谱位置和形状。结果表明，该方法能将滤光片的光谱位置平移，调整到满足要求的位置，大大提高窄带滤光片的成品合格率，对于窄带滤光片的制备具有重要的作用。
一种窄带滤光光谱调控方法

[发明专利]光学介质薄膜含水缺陷深度的表征方法-CN201811301037.2有效
发明人：刘华松;姜承慧;陈丹;李士达;尚鹏 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2018-11-02 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： G01N21/31 文献下载
摘要：本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种光学介质薄膜含水缺陷深度的表征方法。本发明对于无水层的光学常数，首先从可见光谱段反演出薄膜的色散方程，然后从长波红外光谱反演出薄膜的微结构本征振动导致的色散方程，两个色散方程的叠加表征了薄膜无水结构的光学常数色散；对于含水层的薄膜，将无水薄膜与水按照混合物处理，基于等效介质理论建立含水薄膜的光学常数色散方程。然后从红外透射光谱中反演出无水薄膜与水的比例、水的扩散深度、含有孔隙的无水薄膜厚度、无水薄膜的孔隙率四个参数。通过该方法可以表征出薄膜中的水缺陷深度特性，该方法对于含水缺陷薄膜的膜系设计以及多层膜的制作均有指导意义。
光学介质薄膜含水缺陷深度表征方法

[发明专利]一种变折射率氧化物薄膜的制备方法-CN202010948576.6在审
发明人：姜玉刚;刘华松;何家欢;李士达;白金林;姜承慧 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2020-09-10 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明属于光学薄膜技术领域，涉及一种变折射率氧化物薄膜的制备方法，通过采用双离子束溅射沉积技术，以硅靶作为溅射靶材，通过改变离子束溅射制备工艺参数的氧气流量，可实现在500nm‑8000nm宽谱段范围内具有折射率连续可调SiOx薄膜的制备。结果表明，本发明方法将获得具有宽谱段折射率连续可调的氧化物薄膜，对于设计和制备高性能宽谱段多层薄膜具有重要的意义。
一种折射率氧化物薄膜制备方法

[发明专利]一种滤除二氧化碳辐射波长的中波红外透射光学元件及其制备方法-CN201710795112.4有效
发明人：刘华松;杨霄;李士达;孙鹏;姜承慧;季一勤 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2017-09-06 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： G02B5/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种滤除二氧化碳辐射波长的中波红外透射光学元件及其制备方法，属于光学薄膜技术领域，在3μm‑5μm波段中去除二氧化碳辐射波长，该制备方法，使用棱镜转向和反射滤光的方法，通过设计固定棱镜45度的反射滤光薄膜，通过二次反射的方法实现对二氧化碳波长的滤波；该光学元件，主要由四个硅材料的直角棱镜组成；第一直角棱镜斜边表面或第四直角棱镜斜边表面制备反射滤光薄膜；第二直角棱镜直角边表面或第三直角棱镜的直角边表面制备减反射薄膜。本发明的内容能够实现其余波长的高效透过，设计的元件结构简单易于制作，可直接应用于二氧化碳波长陷波的红外光学成像系统中。
一种二氧化碳辐射波长中波红外透射光学元件及其制备方法

[发明专利]含氢类金刚石薄膜的全光谱段光学常数表征方法-CN201710576412.3有效
发明人：刘华松;刘丹丹;陈丹;姜承慧;杨霄;李士达;季一勤 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2017-07-14 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： G01N21/31 文献下载
摘要：本发明涉及一种含氢类金刚石薄膜的全光谱段光学常数表征方法，属于光学薄膜技术领域。本发明从短波吸收区开始计算然后加入振动吸收区特性，有效避免了使用单一介电常数模型无法精确外推光谱区常数的问题。该方法可以直接应用于含氢DLC或者含杂质吸收的DLC薄膜光学常数的测试与表征。
含氢类金刚石薄膜光谱光学常数表征方法

[发明专利]一种多层光学薄膜光谱热辐射率的计算方法-CN201611128964.X有效
发明人：刘华松;刘丹丹;杨霄;姜承慧;陈丹;季一勤 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2016-12-09 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： G01J5/00 文献下载
摘要：本发明属于光谱热辐射率表征领域，具体涉及一种多层光学薄膜光谱热辐射率的计算方法。本发明提供的计算方法具有简单可操作性，对于确定的多层薄膜‑基底‑多层薄膜系统结构，仅需确定基底与薄膜材料的热光系数，就能够完整表达光学多层膜的光谱定向辐射率、定向辐射率、光谱辐射率和积分空间辐射率。采用本方法能够避免直接测量的繁琐和测量仪器的复杂结构设计，具有一定的科学与应用价值。
一种多层光学薄膜光谱热辐射计算方法

[发明专利]一种大口径均匀性滤光片及其制备方法-CN201710780421.4有效
发明人：陈丹;刘华松;姜于刚;王利栓;刘丹丹;姜承慧;季一勤 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2017-09-01 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种大口径均匀性滤光片的制备方法，属于光学薄膜技术领域，解决由于大口径窄带滤光片对中心波长的敏感程度较高，中心波长微小的漂移均可能会导致滤光片透过率的下降的问题。该制备方法在基底上镀制总膜系的一半，将镀制的二个膜片反方向进行光胶，能够有助于改进大口径窄带滤光片的均匀性。结果表明，该方法将有助于大口径窄带滤光片均匀性的改进，实现大口径均匀的窄带滤光片的制备。
一种口径均匀滤光及其制备方法

[发明专利]一种可见光-近红外-中红外波段激光防护窗口及设计方法-CN201710694594.4有效
发明人：姜玉刚;刘华松;陈丹;王利栓;刘丹丹;姜承慧;季一勤 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2017-08-15 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： G02B27/10 文献下载
摘要：本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种可见光‑近红外‑中红外波段激光防护窗口及设计方法。本发明通过采用基底和线性激光防护薄膜相结合的方法，选择具有一定波段吸收的基底，在吸收基底一侧设计三波段分光薄膜，另一侧设计双波段减反射薄膜，实现多波段卫星激光防护窗口的设计。本发明对于不同工作波段、不同防护激光波段的线性激光防护窗口的设计具有普适性，实现卫星工作波段的高透过和强激光武器波段的低透过，从而实现卫星的正常工作和强激光武器攻击的防护。
一种可见光红外波段激光防护窗口设计方法

[发明专利]一种全向消偏振介质薄膜激光反射镜及设计方法-CN201710694575.1有效
发明人：刘华松;王利栓;杨霄;李士达;姜承慧;季一勤 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2017-08-15 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种具有全向入射角度的消偏振介质薄膜激光反射镜及设计方法。本发明提出的全向消偏振介质薄膜激光反射镜，使用高折射率和低折射率两种薄膜材料交替的组合方式，考虑到入射波长对于折射率的影响，对膜系结构的光学厚度系数矩阵进行多次修正，并经过薄膜设计软件对膜系结构进行全数值优化，最终能够获得入射角0‑90°范围内，最小反射率大于99.88％的全向反射薄膜，并且两个偏振的反射率差最大为0.1％，使得该膜系具有较高的应用价值。
一种全向偏振介质薄膜激光反射设计方法

[发明专利]一种光学基底材料光学常数的测试方法-CN201811532197.8在审
发明人：刘丹丹;刘华松;姜承慧;何家欢;季一勤 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2019-04-09 - 主分类号： G01N21/25 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学基底材料光学常数的测试方法，用于计算光学基底材料的光谱光学常数，通过测试不同厚度的基底材料透射光谱，利用弱吸收区解析计算和全光谱区拟合运算相结合的方法计算得到光学基底材料的光谱光学常数。本发明适用于常用光学基底材料的光学常数测试，尤其适用于新型研制光学基底材料的光学常数测试。
基底材料光学常数测试光谱光学弱吸收区透射光谱全光谱拟合解析运算

[发明专利]一种二元叠层光学材料定向光谱热辐射率的计算方法-CN201611108917.9有效
发明人：刘华松;杨霄;季一勤;姜承慧;王利栓;刘丹丹 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2016-12-06 - 公布日： 2019-02-01 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：本发明属于光谱领域，具体涉及一种二元叠层光学材料定向光谱热辐射率的计算方法，特别是涉及一种ZnS/ZnSe叠层红外光学材料定向光谱热辐射率的计算方法。本发明通过建立辐射光波在叠层材料轴向传输的物理模型，通过光学非相干传输理论，获得二元叠层材料后的定向光谱热辐射率，建立了ZnS和ZnSe的基本物性和物理厚度与定向光谱热辐射率之间的物理关系，对于二元叠层材料的定向光谱热辐射率的计算具有普适性，为二元叠层材料的定向光谱热辐射提供理论依据。
光谱热辐射率叠层材料叠层光学材料红外光学材料物性传输理论光谱领域物理关系物理模型轴向传输光波普适性热辐射相干辐射

[发明专利]一种短波红外窄带滤光片及其制备方法-CN201610971376.6有效
发明人：宗杰;沈玉秀;姜承慧 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2016-11-04 - 公布日： 2019-02-01 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种短波红外窄带滤光片，其特征在于，包括：基板和形成在基板两侧表面上的正面膜系和反面膜系，正面膜系为：A/(HL)⁴L(HL)⁸L(HL)⁸L(HL)⁴1.64H0.64L/S，反面膜系为：A/(0.5HL0.5H)¹¹α(0.5HL0.5H)¹²β(0.5LH0.5L)⁷γ(0.5LH0.5L)¹⁰ω(0.5LH0.5L)¹⁰/S；膜系中的符号含义：A为空气，S为H‑K9L玻璃基底，H为高折射率材料五氧化二钛，L为低折射率材料二氧化硅，α、β、γ和ω分别表示各膜系中心波长与中心波长的倍数。本发明滤光片具有中心波长为1240nm的红外窄带滤光片透过光谱，透射带的上升和下降沿陡度小于0.5％，通带平均透过率达80％，截止带平均透过率小于0.5％，可起到限制光谱范围，抑制背景干扰，提高目标分辨率。
一种短波红外窄带滤光及其制备方法

[发明专利]一种宽带截止超窄带滤光片-CN201611007468.9有效
发明人：姜玉刚;刘华松;陈丹;王利栓;刘丹丹;姜承慧;季一勤 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2016-11-16 - 公布日： 2018-12-28 - 主分类号： G02B5/28 文献下载
摘要：本发明属于光学薄膜领域，具体涉及一种宽带截止超窄带滤光片。本发明通过在基底一面上设计由多层反射膜的膜系构成的宽带截止滤光薄膜，在基底另一面设计由多层反射膜的膜系构成的全介质二腔超窄带滤光薄膜，最终可以实现带宽为1nm的宽带截止滤光薄膜。
一种宽带截止窄带滤光

[发明专利]二氧化硅光学薄膜消光系数确定方法-CN201710575060.X在审
发明人：刘华松;王利栓;刘丹丹;陈丹;姜承慧;李士达;季一勤 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2017-07-14 - 公布日： 2017-11-24 - 主分类号： G01N21/17 文献下载
摘要：本发明涉及一种二氧化硅光学薄膜消光系数确定方法，属于光学薄膜技术领域。本发明将SiO2薄膜等效为纯SiO2和亚氧化物的混合物，构建光学常数物理模型，获得较高精度的消光系数测试，确定了SiO2光学薄膜消光系数，解决了极低消光系数的SiO2薄膜特性表征问题，通过该方法可以获得低于1×10‑8的消光系数测试。该方法在SiO2薄膜光学常数精确标定上具有广泛的应用价值。
二氧化硅光学薄膜系数确定方法

[发明专利]一种提高PMMA基板透过率的方法-CN201611007196.2在审
发明人：王利栓;刘华松;杨霄;姜玉刚;刘丹丹;姜承慧;季一勤 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2016-11-16 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： B29C59/14 文献下载
摘要：本发明属于聚合物材料表面处理领域，具体涉及一种采用离子束刻蚀方法提高PMMA基板透过率的方法。本发明提出一种提高PMMA基板透过率的方法，该提高PMMA基板透过率的方法采用离子束刻蚀方法，将高能等离子体直接作用于PMMA基板的表面，在表面刻蚀形成随机微结构，降低表面的反射率，提高PMMA基板的透过率。该方法简便有效，能够避免现有技术中因镀膜工艺导致的可靠性差的问题。
一种提高 pmma 透过方法

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