专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种调剂量用分药器-CN202210059449.X在审
  • 姚智 - 姚智
  • 2022-01-19 - 2023-09-29 - A61J7/00
  • 本发明公开了一种调剂量用分药器,包括瓶身、第一储药管、第二储药管、进药口和出药口,所述瓶身的内部设置有第一储药管和第二储药管,所述第二储药管套接在第一储药管内,所述第二储药管为可弯折结构,所述第二储药管的直径小于第一储药管的直径,所述第一储药管的端部设置有进药口,所述进药口呈凸台状,所述第二储药管的端部设置有出药口,所述出药口位于瓶身上方的瓶嘴的内部,所述第一储药管的表面通过连接件连接调节件,所述连接件设置在滑槽内,所述滑槽开设在瓶身的表面,所述调节件设置在瓶身的外部;本装置结构简单,使用方便,可以精确的控制服药剂量,适于推广。
  • 一种调剂量用分药器
  • [发明专利]MIM电容器的制备方法-CN202310657793.3在审
  • 姚智;赵雁雁;姚道州;汪健;王玉新 - 华虹半导体(无锡)有限公司
  • 2023-06-05 - 2023-08-22 - H01L23/64
  • 本发明提供一种MIM电容器的制备方法,包括:提供一衬底,衬底上形成有下极板层、中间介质层、上极板层和硬掩膜层;刻蚀硬掩膜层;对上极板层进行主刻蚀;以及对残留的上极板层进行辅刻蚀,其中参与辅刻蚀的气体包括:Cl2和CH4。本申请通过在辅刻蚀工艺中使用Cl2并引入CH4,主要有三个方面优势:第一,保留了Cl2对残留的上极板层足够强的刻蚀能力;第二,辅刻蚀不使用主刻蚀中的BCl3,从而避免了BCl2+对于中间介质层的垂直轰击;第三,引入的CH4对中间介质层不具备刻蚀作用,CH4解离产生的保护性聚合物在刻蚀发生的同时,可以不断在中间介质层表面及侧壁进行沉积,从而对中间介质层的厚度完整性形成动态保护。
  • mim电容器制备方法

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