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[发明专利]用于粒子检测的系统和方法-CN202210656064.1在审
发明人： J-K·龙;D·卡瓦德杰夫;国衡·赵 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2019-11-13 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本揭露实施例涉及一种用于粒子检测的系统和方法。一种暗场检验系统，其可包含：照明源，其用于产生照明光束；一或多个照明光学器件，其用于将所述照明光束沿着照明方向按离轴角引导到样本；检测器；一或多个集光光学器件，其用于基于响应于所述照明光束从所述样本收集的光在所述检测器上产生所述样本的暗场图像；及径向偏振器，其定位于所述一或多个集光光学器件的光瞳平面处，其中所述径向偏振器排斥相对于所述光瞳平面中对应于所述照明光束从所述样本的镜面反射的参考点具有径向偏振的光。
用于粒子检测系统方法

[发明专利]用于粒子检测的系统和方法-CN201980072825.5有效
发明人： J-K·龙;D·卡瓦德杰夫;国衡·赵 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2019-11-13 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： G01N21/94 文献下载
摘要：本发明揭示一种暗场检验系统，其可包含：照明源，其用于产生照明光束；一或多个照明光学器件，其用于将所述照明光束沿着照明方向按离轴角引导到样本；检测器；一或多个集光光学器件，其用于基于响应于所述照明光束从所述样本收集的光在所述检测器上产生所述样本的暗场图像；及径向偏振器，其定位于所述一或多个集光光学器件的光瞳平面处，其中所述径向偏振器排斥相对于所述光瞳平面中对应于所述照明光束从所述样本的镜面反射的参考点具有径向偏振的光。
用于粒子检测系统方法

[发明专利]用于光学三维形貌测量的方法及系统-CN202110901243.2在审
发明人： 国衡·赵;M·范德布格特;刘晟;安迪·希尔;J·德格里夫;K·万吉尔斯 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2016-11-04 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：本申请实施例涉及用于光学三维形貌测量的方法及系统。针对物体的表面的三维形貌测量，通过物镜将图案化照明投影于所述表面上。在所述物体与所述物镜之间进行相对移动，且由检测器通过所述物镜记录所述表面的多个图像。所述相对移动的方向包含相对于所述物镜的光轴的斜角。根据从相应位置记录的强度的变化导出所述表面上的给定位置的高度信息。此外，可将图案化照明及均匀照明交替地投影于所述表面上，同时在所述物体与所述物镜沿着所述物镜的光轴的相对移动期间记录所述表面的图像。均匀照明用于获得所述表面上的镜面结构的高度信息，图案化照明用于获得有关所述表面的其它部分的高度信息。
用于光学三维形貌测量方法系统

[发明专利]用于光学三维形貌测量的方法及系统-CN201680080685.2有效
发明人： 国衡·赵;M·范德布格特;刘晟;安迪·希尔;J·德格里夫;K·万吉尔斯 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2016-11-04 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：针对物体的表面的三维形貌测量，通过物镜将图案化照明投影于所述表面上。在所述物体与所述物镜之间进行相对移动，且由检测器通过所述物镜记录所述表面的多个图像。所述相对移动的方向包含相对于所述物镜的光轴的斜角。根据从相应位置记录的强度的变化导出所述表面上的给定位置的高度信息。此外，可将图案化照明及均匀照明交替地投影于所述表面上，同时在所述物体与所述物镜沿着所述物镜的光轴的相对移动期间记录所述表面的图像。均匀照明用于获得所述表面上的镜面结构的高度信息，图案化照明用于获得有关所述表面的其它部分的高度信息。
用于光学三维形貌测量方法系统

[发明专利]用于缺陷材料分类的系统及方法-CN201880011822.6有效
发明人： 国衡·赵;J-K·龙;M·基尔克 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2018-01-02 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明揭示一种检验系统，其包含：照明源，其产生照明光束；聚焦元件，其将所述照明光束引导到样品；检测器；集光元件，其经配置以将从所述样品发出的辐射引导到所述检测器；检测模式控制装置，其在两个或两个以上检测模式中成像所述样品使得所述检测器基于所述两个或两个以上检测模式产生两个或两个以上集光信号；及控制器。从所述样品发出的辐射至少包含由所述样品镜面反射的辐射及由所述样品散射的辐射。所述控制器基于所述两个或两个以上集光信号确定与由所述样品上的缺陷散射的辐射相关联的缺陷散射特性。所述控制器还根据经预先确定缺陷分类集基于所述一或多个缺陷散射特性对一或多个粒子分类。
用于缺陷材料分类系统方法

[发明专利]使用低噪声传感器的暗场检验-CN201680046415.X有效
发明人：勇-霍·亚历克斯·庄;戴维·L·布朗;德维斯·孔塔拉托;约翰·费尔登;丹尼尔·伊万诺夫·卡瓦德杰夫;国衡·赵;振-华·霍华德·陈;国武·郑;唐纳德·佩蒂伯恩;斯蒂芬·比耶拉克 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2016-08-13 - 公布日： 2021-05-14 - 主分类号： G01N21/17 文献下载
摘要：本发明涉及一种检验系统及方法，其中在由图像传感器捕获的模拟图像数据值(电荷)被传输作为图像传感器的输出感测节点(浮动扩散区)上的输出信号之前或之时，分选(组合)模拟图像数据值(电荷)，且其中ADC经控制以在输出感测节点的每一复位之间循序产生多个对应数字图像数据值。根据输出分选方法，图像传感器经驱动以在每一复位之间将多个电荷循序转移到输出感测节点上，且在将每一电荷转移到输出感测节点上之后，ADC经控制以转换渐进增加的输出信号。根据多重采样方法，多个电荷在被转移到输出感测节点上之前经垂直或水平分选(加总/组合)，且ADC多次采样每一对应输出信号。可组合输出分选及多重采样方法。
使用噪声传感器暗场检验

[发明专利]用于偏光晶片检验的方法及设备-CN201780015093.7有效
发明人：刘晟;国衡·赵 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2017-03-27 - 公布日： 2020-03-24 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明揭示用于检验半导体样本的方法及设备。此系统包括用于产生且引导入射光束朝向晶片的表面上的缺陷的照明光学器件子系统。所述照明光学器件子系统包含：光源，其用于产生所述入射光束；及一或多个偏光组件，其用于调整入射光束的电场分量的比率及/或相位差异。所述系统进一步包含用于响应于所述入射光束从所述缺陷及/或表面收集散射光的集光光学器件子系统，且所述集光光学器件子系统在光瞳平面处包括可调整光圈，随后接着用于调整所述收集的散射光的电场分量的相位差异的可旋转波板，随后接着可旋转检偏镜。所述系统还包含控制器，其经配置以用于：(i)选择所述入射光束的偏光；(ii)获得缺陷散射映射；(iii)获得表面散射映射；且(iv)基于所述缺陷及表面散射映射的分析而确定所述一或多个偏光组件、光圈掩模及可旋转1/4波板及检偏镜的配置以最大化缺陷信噪比。
用于偏光晶片检验方法设备

[发明专利]暗场系统中的时间延迟积分传感器-CN201580053726.4有效
发明人：吉贞·凡萨帕朗比尔;国衡·赵;丹尼尔·伊万诺夫·卡瓦德杰夫;阿纳托利·罗曼诺夫斯基;伊万·马列夫;克里斯堤安·渥特斯;斯蒂芬·比耶拉克;布雷特·怀特塞德;唐纳德·佩蒂伯恩;勇-霍·亚历克斯·庄;戴维·W·肖特 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2015-10-02 - 公布日： 2019-02-01 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：本发明涉及一种晶片扫描系统，其包含用来减小有效光点大小的成像收集光学器件。较小光点大小使由表面散射的光子的数目与所述光点的面积成比例地减小。空气散射也减少。TDI用来基于在晶片的线运动的方向上积分的多个图像信号产生晶片图像。照明系统用光泛射所述晶片，且产生所述光点的任务被指派给所述成像收集光学器件。
暗场系统中的时间延迟积分传感器

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