专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]管式PECVD设备的压力控制装置-CN201910790348.8有效
  • 肖洁;吴德轶;朱辉;成秋云;张春成 - 湖南红太阳光电科技有限公司
  • 2019-08-26 - 2021-09-10 - C23C16/52
  • 本发明公开了管式PECVD设备的压力控制装置,包括至少一组反应室,每组反应室对应设有VAT阀和主抽泵,各组反应室共用一个预抽泵,每组反应室包括第一反应室和第二反应室,每组反应室中的第一反应室通过第一主管路与主抽泵连通,第二反应室通过第二主管路与主抽泵连通,第一主管路与第二主管路并联形成汇流管路,汇流管路与主抽泵连接,VAT阀设于汇流管路上,各组反应室中的第一反应室均通过第一支管路与预抽泵连接,各组反应室中的第二反应室均通过第二支管路与预抽泵连接。本发明的核心在于两管共用主抽泵时,工艺过程是错开的,相当于时刻都只有一个主抽泵为一个反应室工作,其余时间另一管利用预抽泵工作,大大降低了设备的成本。
  • pecvd设备压力控制装置
  • [发明专利]一种管式PECVD设备压力控制装置-CN201910790369.X有效
  • 肖洁;吴德轶;成秋云;张春成;朱辉 - 湖南红太阳光电科技有限公司
  • 2019-08-26 - 2021-05-14 - C23C16/52
  • 本发明的管式PECVD设备压力控制装置,包括控制器、第一反应室、第二反应室、第一薄膜规、第二薄膜规、主抽泵和VAT阀,主抽泵分别通过第一、第二主管路与第一、第二反应室连接,第一主管路与第二主管路并联形成汇流管路,VAT阀设于汇流管路上,第一反应室与第二反应室之间设有并联的第一支管路和第二支管路,第一支管路上设有第一气动阀和第二气动阀,第二支管路上设有第三气动阀和第四气动阀,第一、第三气动阀为互锁阀,第二、第四气动阀为互锁阀,第一薄膜规设于第一支管路上并在第一、第二气动阀之间,且通过第一控制线路与VAT阀连接,第二薄膜规设于第二支管路上并在第三、第四气动阀之间,且通过第二控制线路与控制器连接。
  • 一种pecvd设备压力控制装置
  • [发明专利]一种管式PECVD石墨舟结构-CN201811354016.7有效
  • 肖洁;吴德轶;成秋云;张春成 - 湖南红太阳光电科技有限公司
  • 2018-11-14 - 2020-09-18 - H01L21/673
  • 本发明的管式PECVD石墨舟结构,包括陶瓷基座、两个舟片锁紧盘组件、两个陶瓷固定环、石墨棒和多个舟片,舟片锁紧盘组件包括陶瓷绝缘盘和石墨导电盘,石墨导电盘上设有多个卡槽和多个第一导电槽,卡槽与第一导电槽均匀交错布置,陶瓷绝缘盘上设有多个卡齿,卡齿与卡槽的数量相等且二者配合,卡齿上设有第二导电槽,陶瓷基座上的安装柱面上设有舟片安装槽,陶瓷固定环上设有固定槽,舟片可沿轴向插入舟片安装槽内,舟片前端同时卡在前端的第一导电槽和固定槽内,舟片的后端同时卡在后端的第二导电槽和固定槽内。本发明中舟片呈扇形布置,充分利用石英管的空间,载片量比现有大,石墨舟电极处在石英管的中心,而舟片在电极外周,能使气流场更平顺均匀。
  • 一种pecvd石墨结构
  • [发明专利]一种管式LPCVD真空反应室-CN201811455572.3有效
  • 李明;吴德轶;张弥涛;成秋云;张春成 - 湖南红太阳光电科技有限公司
  • 2018-11-30 - 2020-08-14 - C23C16/44
  • 本发明公开了管式LPCVD真空反应室,包括炉门、前端法兰、前支撑法兰、前密封组件、加热炉体、后支撑法兰、后密封组件、尾端法兰、内层石英管和外层石英管,加热炉体套于外层石英管上,前支撑法兰和后支撑法兰分别位于外层石英管的两端的外管壁上,前支撑法兰、加热炉体和后支撑法兰三者固定设置,炉门与前端法兰连接,前端法兰盖设于内、外层石英管的前端端口,前端法兰与外层石英管之间通过前密封组件连接,前密封组件固定在前支撑法兰上,尾端法兰设于内、外层石英管的后端,且尾端法兰与外、内层石英管之间通过后密封组件连接,后密封组件固定在后支撑法兰上。本发明具有拆卸维护更加简单、快捷,缩短了维护时间,经济效益显著的优点。
  • 一种lpcvd真空反应
  • [实用新型]一种大载片量石英舟-CN201821309147.9有效
  • 李明;吴德轶 - 湖南红太阳光电科技有限公司
  • 2018-08-14 - 2019-03-05 - H01L21/673
  • 一种大载片量石英舟,包括两块平行布置的端板,两块端板之间固设有中间定位棒、左侧上定位棒和右侧上定位棒,中间定位棒位于左侧上定位棒和右侧上定位棒之间,左侧上定位棒与中间定位棒之间设有左侧下定位棒,右侧上定位棒与中间定位棒之间设有右侧下定位棒,左侧下定位棒和右侧下定位棒的高度低于中间定位棒的高度,左侧下定位棒和右侧下定位棒的上部、左侧上定位棒的右侧、右侧上定位棒的左侧、以及中间定位棒的左右两侧均沿轴向设有多个用于定位硅片的定位部,左侧上定位棒、左侧下定位棒及中间定位棒左侧的各定位部对应布置,右侧上定位棒、右侧下定位棒及中间定位棒右侧的各定位部对应布置。本实用新型具有成本低、容量大、可靠性高等优点。
  • 定位棒定位部石英舟端板载片本实用新型平行布置左右两侧硅片轴向
  • [发明专利]一种反应腔室及半导体加工设备-CN201510625538.6有效
  • 张宇;田湘龙;吴德轶;胡昌文 - 湖南红太阳光电科技有限公司
  • 2015-09-28 - 2017-11-07 - C23C16/455
  • 本发明公开了一种反应腔室,包括由下垫块、侧壁和上盖板构成的封闭的腔体和设于所述腔体内的平板加热器组件,上盖板与所述平板加热器组件之间设有匀流板,匀流板与上盖板之间形成匀流腔,上盖板上设有进气组件,进气组件的出气口与所述匀流腔连通,进气组件的出气口前方一定距离设有气流挡板。本发明的反应腔室工艺气体进入反应腔室之前经过两次匀流,具有工艺气体进入速度快、气体分布均匀的优点,改善了工艺质量,提高了半导体材料的成膜质量,且工艺气体直接从腔体顶部进入反应腔室,提高工艺气体进入反应腔室的速度。
  • 一种反应半导体加工设备
  • [实用新型]一种石墨舟的推舟装置-CN201520756286.6有效
  • 张宇;吴德轶 - 湖南红太阳光电科技有限公司
  • 2015-09-28 - 2016-02-10 - C23C16/44
  • 本实用新型公开了一种石墨舟的推舟装置,包括装载机构、水平运动机构和推舟,所述推舟固定在所述水平运动机构的滑块上,所述装载机构后端固定于所述推舟上,前端悬空设置,所述石墨舟放置在所述装载机构的前端,所述装载机构前端与后端之间设有用于加强装载机构前端刚性的斜拉件。本实用新型采用斜拉件,提高了装载机构的整体刚性,减小了装载机构的变形,改善了石墨舟在前进和后退过程中的抖动现象,在一定程度上避免了因石墨舟进舟过程中抖动而造成的硅片成膜质量差的问题。
  • 一种石墨装置

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