专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基板对准装置-CN202210127372.5在审
  • 梁皓植;裵埈成;方承德;卢一镐;金范准 - 圆益IPS股份有限公司
  • 2016-09-29 - 2022-05-27 - H01L21/68
  • 本发明涉及一种基板对准装置,利用在基板上形成的目标标记及在对象上形成的对象标记从而执行关于基板目标对准的基板对准装置,其特征在于,包括:摄像机腔室,在真空腔室内部中提供独立密封的大气压收容空间,及对准摄像机,设置于摄像机腔室内部,并且拍摄目标标记及对象标记,及腔室移动单元,使摄像机腔室在真空腔室内部移动,从而可以缩短对准摄像机的运转距离,并且可以调整关于记号的对准摄像机聚焦区域。
  • 对准装置
  • [发明专利]基板对准装置-CN201610862306.7在审
  • 梁皓植;裵埈成;方承德;卢一镐;金范准 - 圆益IPS股份有限公司
  • 2016-09-29 - 2017-08-11 - C23C16/52
  • 本发明涉及一种基板对准装置,利用在基板上形成的目标标记及在对象上形成的对象标记从而执行关于基板目标对准的基板对准装置,其特征在于,包括摄像机腔室,在真空腔室内部中提供独立密封的大气压收容空间,及对准摄像机,设置于摄像机腔室内部,并且拍摄目标标记及对象标记,及腔室移动单元,使摄像机腔室在真空腔室内部移动,从而可以缩短对准摄像机的运转距离,并且可以调整关于记号的对准摄像机聚焦区域。
  • 对准装置
  • [发明专利]基底处理装置-CN200610002822.9有效
  • 安基喆;郑领哲;河泰荣;张祯元;卢一镐;李承培 - 细美事有限公司
  • 2006-02-06 - 2006-10-04 - H01L21/677
  • 一种在用于有机发光二极管的基底上形成薄层的基底处理装置,该装置包括掩模安装室、沉积室和掩模拆卸室。所述掩模安装室、沉积室和掩模拆卸室的内部安装有传送导轨,而且,用于支撑基底的基底支架沿着传送导轨在这些室内或这些室之间移动。因此,缩短了用于处理基底的时间,并减小了上述装置所占的面积。另外,将上述这些室分成一个或多个组,并在分组的室之间安装闸门阀,以用于打开和关闭分组的室之间的通道。因此,在维修任意室时,其它室可以继续维持为真空状态。
  • 基底处理装置

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