专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种金刚石研磨膏及其制备方法-CN202211727720.9在审
  • 吴月英;冯坤;齐荣 - 北京国瑞升科技股份有限公司
  • 2022-12-31 - 2023-05-09 - C09K3/14
  • 本发明提供了一种金刚石研磨膏及其制造方法,金刚石研磨膏主要由以下组分组成:研磨微粉、液体油和研磨助剂;其中,所述研磨微粉包括偶联处理的金刚石微粉和球形氧化铝粉;所述液体油包括溶剂油、合成油、饱和醇聚合物的一种或几种的混合;所述研磨助剂包括金属铜粉、山梨醇脂肪酸酯、润湿分散剂、润滑剂、抗磨剂、双亲性有机物、增稠剂。本发明的金刚石研磨膏通过加入球形氧化铝粉来改善金刚石微粉的分散性能及研磨性能,同时,在研磨过程中球形氧化铝粉也起到了降低研磨盘盘温的作用;通过加入金属铜粉、润滑剂、抗磨剂并采用特定的液体油等方式来降低研磨过程中的研磨盘盘温以及降低被加工工件的表面粗糙度;通过加入特定的双亲性有机物来改善金刚石研磨膏的清洗性能;通过添加增稠剂来调节研磨膏的稠度,进而改善其使用性能及研磨性能。本发明的金刚石研磨膏具有分散性好,流动性好,研磨速率高,研磨盘盘温可控,工件表面光洁度高、不粘工件,易清洁的突出特点,可提高研磨加工效率,降低加工成本。
  • 一种金刚石研磨及其制备方法
  • [发明专利]一种研磨带及其制备方法-CN202111267791.0有效
  • 刘旭升;李鑫 - 北京国瑞升科技股份有限公司
  • 2021-10-29 - 2023-03-17 - B24D11/00
  • 本发明涉及研磨和抛光技术领域,具体而言,涉及一种研磨带及其制备方法。研磨带包括依次层叠设置的基材层、预涂层、底胶层和复胶层,以及附着在所述底胶层上的磨料;所述预涂层主要由按照质量份数计的如下组分制得:第一胶粘剂80~120份,偶联剂0.1~5份,填料10~30份,稀释剂10~50份和固化剂10~20份;所述第一胶粘剂包括聚氨酯树脂和/或丙烯酸树脂。本发明通过在基材层和底胶层之间增加主要由第一胶粘剂、偶联剂以及固化剂等特定组分及其用量制得的预涂层,能够增强基材层与底胶层以及磨料之间的结合力,从而提高研磨带的研磨效果和使用寿命。
  • 一种研磨及其制备方法
  • [发明专利]一种高性能抛光膜及其制备方法-CN202110225646.X有效
  • 谭锦锦;程丽芳;邢继军 - 北京国瑞升科技股份有限公司
  • 2021-03-01 - 2022-10-04 - C08J7/046
  • 本发明公开了一种高性能抛光膜及其制备方法,所述高性能抛光膜包括基材和设置于所述基材表面的研磨涂层,所述研磨涂层是由研磨微粉、树脂胶、增韧剂和空心微球混合得到的涂布液涂布在所述基材表面形成的固化干燥层。本发明的高性能抛光膜通过加入增韧剂改善涂层的柔韧性,从而减少了涂层内收缩应力,增加了涂层和基材的附着力;通过加入空心微球分散了树脂固化后的收缩应力,从而改善了抛光膜成品的向磨料面卷曲问题;分散在基体中的微球在磨抛材料被磨削过程中起到吸收和缓冲磨削力的作用,从而在原有磨抛材料的粘接强度不大幅下降的情况下,提升研磨寿命。
  • 一种性能抛光及其制备方法
  • [发明专利]用于清洁液晶面板的研磨辊及其制备方法-CN202210323364.8在审
  • 盛菲菲;刘春雨 - 北京国瑞升科技股份有限公司
  • 2022-03-29 - 2022-07-12 - B24B37/11
  • 本发明涉及清洁用品技术领域,并提供一种用于清洁液晶面板的研磨辊及其制备方法,包括支撑层和功能层,所述支撑层用于与研磨设备连接,所述功能层包括研磨层和排屑槽,所述研磨层螺旋设置在所述支撑层上,所述研磨层设置有多个用于存储磨屑的凹槽;所述排屑槽螺旋设置在所述支撑层上,所述排屑槽与所述研磨层平行设置,所述排屑槽沿所述支撑层的轴向延伸。通过研磨层的凹槽和排屑槽,在研磨辊对工件研磨清洁过程中,能够及时地存储磨屑,可避免因硬质磨屑对研磨工件造成二次损伤,规避划伤风险;另外,通过排屑槽的螺旋结构能够及时地排走多余的磨屑,可保证持续的研磨良率和稳定性,提高清洁良率。
  • 用于清洁液晶面板研磨及其制备方法
  • [外观设计]研磨辊-CN202130132901.7有效
  • 盛菲菲;刘春雨 - 北京国瑞升科技股份有限公司
  • 2021-03-11 - 2021-07-20 - 15-99
  • 1.本外观设计产品的名称:研磨辊。2.本外观设计产品的用途:用在液晶面板制程中面板研磨清洁使用。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状与图案的结合。4.最能表明设计要点的图片或照片:设计1立体图。5.指定设计1为基本设计。
  • 研磨
  • [发明专利]一种磷化铟芯片抛光液及其制备方法-CN202011480372.0在审
  • 苑亚斐 - 北京国瑞升科技股份有限公司
  • 2020-12-15 - 2021-03-12 - C09G1/02
  • 本发明公开了一种磷化铟芯片抛光液及其制备方法,该磷化铟芯片抛光液,按重量份数计,由以下组分组成:氧化铝微粉2‑40份,氧化剂1‑5份,分散剂0.1‑0.5份,水60‑98份。本发明的磷化铟芯片抛光液及其制备方法摒弃了传统的二氧化硅基CMP抛光液,采用氧化铝作为磨料,由于氧化铝本身的莫氏硬度要大于二氧化硅,所以采用化学作用较强的氧化剂与之匹配,在清洗方面氧化铝不同于硅溶胶,不会在芯片表面有一层吸附层,所以在最后芯片的清洗方面有着明显的优势;本发明的磷化铟芯片抛光液在提高抛光速率的同时能降低或达到相同的表面粗糙,保证批次间的稳定性,保持稳定的去除速率,且芯片表面残留的抛光液易于清洗。
  • 一种磷化芯片抛光及其制备方法
  • [发明专利]金刚石微粉化学镀镍方法以及镀镍金刚石微粉、其制品与用途-CN201810498465.2有效
  • 张恒;宫超;成淼 - 北京国瑞升科技股份有限公司
  • 2018-05-22 - 2020-09-11 - C23C18/18
  • 本发明提供了一种金刚石微粉化学镀镍方法以及镀镍金刚石微粉、其制品与用途,该方法包括以下步骤:a预处理:将金刚石微粉依次经敏化处理、活化处理和还原处理,然后将还原得到的产物用水进行清洗,清洗次数为1~2次,其中,所述活化处理在超声下进行;b镀覆:将步骤a得到的预处理后的金刚石微粉置于镀覆液中3~10min后开始超声,直至镀覆结束;c:热处理。该方法缓解了传统化学镀覆金刚石微粉的漏镀、连晶、镀覆不均匀的技术问题,提供了一种漏镀和连晶少、镀层更均匀的镀镍金刚石微粉以及包含上述镀镍金刚石微粉的制品,该金刚石微粉可以应用于金刚石线锯制品的制备。
  • 金刚石化学方法以及制品用途
  • [发明专利]一种油性研磨液及其制备方法-CN201711078443.2有效
  • 吴月英;张亮;张斌 - 北京国瑞升科技股份有限公司
  • 2017-11-06 - 2020-04-10 - C09K3/14
  • 本发明提供了一种油性研磨液及其制备方法,主要由如下组分组成:金刚石微粉、基体油、表面活性剂、润湿分散剂、悬浮剂、润滑剂、抗磨剂和粘度调节剂。制备方法包括:将金刚石微粉、表面活性剂、基体油超声搅拌5‑10min后,添加润湿分散剂、悬浮剂超声搅拌5‑10min;再添加润滑剂、抗磨剂超声搅拌5‑10min,测定粘度,根据实际粘度添加降粘剂或增稠剂后搅拌一段时间,即得。本发明的油性金刚石研磨液,应用在蓝宝石衬底精密加工时,具有研磨速率高、研磨盘盘温可控、TTV小的突出特点,可提高研磨加工效率,降低加工成本,而且味道小、易清洗,绿色环保。
  • 一种油性研磨及其制备方法
  • [发明专利]一种硅溶胶抛光膜及其制备方法与应用-CN201610480193.4有效
  • 吴月英;程丽芳 - 北京国瑞升科技股份有限公司
  • 2016-06-27 - 2019-04-09 - C08J7/04
  • 本发明涉及精密或超精密抛光技术,具体涉及一种硅溶胶抛光膜及其制备与应用,所述硅溶胶抛光膜包括柔性衬底层和涂覆形成于所述柔性衬底层表面的抛光研磨层;所述抛光研磨层是由包括经表面改性后的纳米水性硅溶胶和水性树脂胶粘剂的原料混合体在所述柔性衬底层表面所形成的固化干燥层。本发明通过采用对水性硅溶胶进行表面改性,并将其作为核心原料制备抛光研磨层,有利于改善研磨层在柔性衬底上的附着力及提高抛光寿命。本发明所述硅溶胶抛光膜主要用于光纤连接器和光纤阵列的最终抛光,也可用于精密光学器件的超精密加工。经过该硅溶胶抛光膜抛光后,被抛光器件的表面将变得很光滑、甚至呈镜面,器件表面无任何凹坑、划伤或异物黏着等不良现象。
  • 一种硅溶胶抛光及其制备方法应用

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