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- [发明专利]气体流量调节装置和半导体加工设备-CN202110060548.5在审
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杨蕾;陈正堂
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北京七星华创流量计有限公司
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2021-01-18
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2021-05-07
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H01L21/67
- 本发明提供一种气体流量调节装置和半导体加工设备，该气体流量调节装置包括：底座结构，在底座结构中设置有气体通道；活塞部件，可移动地设置在底座结构中，用以通过在指定方向上移动来调节气体通道的通气截面面积；旋转驱动源的驱动轴包括位于旋转驱动源外部的连接部分；以及传动结构，其旋转件与驱动轴的连接部分连接，且与移动件螺纹连接，限位组件与移动件连接，用以在旋转件随驱动轴旋转时，限制移动件旋转，以使移动件能够相对于旋转件沿指定方向移动；移动件与活塞部件连接。本发明提供的气体流量调节装置和半导体加工设备，无需对电机要求较高的精度，从而可以降低设备成本，而且可以简化拆卸、调试过程，从而可以提高工作效率。
- 气体流量调节装置半导体加工设备
- [发明专利]密封结构和质量流量控制器-CN201910567273.7有效
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苏乾益;何漫丽;常祝
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北京七星华创流量计有限公司
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2019-06-27
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2021-02-19
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F16J15/08
- 一种密封结构和质量流量控制器。密封结构包括第一挤压结构、金属密封圈、第二挤压结构；第一挤压结构包括环形的结构槽和第一挤压部，结构槽设于流量传感器的第一密封面上，第一挤压部沿结构槽的内周壁设于结构槽的径向内侧，且从结构槽的槽底向结构槽的开放端凸出；第二挤压结构包括环形的定位槽和第二挤压部，定位槽设于流体通道的第二密封面上，第二挤压部设于定位槽内且凸出于定位槽的槽底；金属密封圈设于第一挤压部和第二挤压部之间，以通过第一挤压部和第二挤压部的挤压实现密封，其中，沿垂直于第二密封面的方向，第二挤压部与第二密封面之间的距离为h，金属密封圈的厚度H大于距离h。该密封结构的结构简单，便于装配。
- 密封结构质量流量控制器
- [发明专利]一种质量流量控制器-CN202011157591.5在审
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王瑞;牟昌华;杜井庆
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北京七星华创流量计有限公司
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2020-10-26
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2021-02-05
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G05D7/06
- 本发明提供一种质量流量控制器，包括流体通道、控制装置、控制阀、第一流量检测装置、第二流量检测装置，控制阀设置在流体通道上，第一流量检测装置用于检测流体通道输出端和控制阀之间的流体参数生成第一流量检测信息，第二流量检测装置用于检测流体通道输入端和控制阀之间的流体参数生成第二流量检测信息；控制装置用于根据第一流量检测信息得到第一流量检测值，根据第一流量检测值与目标流量值的差值和二流量检测信息控制控制阀开度；根据第二流量检测信息和控制阀开度得到第二流量检测值，并在第一流量检测值与第二流量检测值之间的差值超过预设差值阈值时判定质量流量控制器异常。该控制装置能够实时诊断流量检测装置精度，提高设备安全性。
- 一种质量流量控制器
- [发明专利]分流装置及质量流量控制器-CN201910670620.9有效
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宋志辉;苏乾益;杜井庆
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北京七星华创流量计有限公司
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2019-07-24
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2021-01-15
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G01F1/86
- 本发明提供一种分流装置及质量流量控制器，分流装置包括流体通道及设于所述流体通道内的分流器，所述分流器包括分流基座，所述分流基座内设有多个分流通路，所述分流通路的进气口和出气口分别位于所述分流基座沿所述流体通道的轴向的两个端面上。应用本发明，气体流量到达分流装置后，可直接进行分流，增强了分流气流的稳定性，也使得整体结构更加稳定；且分流通路与分流基座之间不需采用胶接或者机械连接的方式也能结合在一起，可以增强分流装置的整体耐酸性腐蚀，避免了分流管与分流基座因胶水被腐蚀而导致的分流管松脱、流量控制器失效等现象；同时也避免了胶水凝固后，吸附微小颗粒而造成的工艺气体污染、达不到半导体设备洁净度要求等。
- 分流装置质量流量控制器
- [发明专利]一种流量计的标定系统及标定方法-CN202011024646.5在审
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车艳霞;赵迪
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北京七星华创流量计有限公司
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2020-09-25
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2021-01-12
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G01F25/00
- 本发明公开了一种流量计的标定系统及标定方法，其中标定系统包括：流体源，用于向标定系统提供所需的流体；流量基准单元，分别与流体源和待标定的流量计相连，用于为待标定的流量计提供与每个待标定点对应的标准流量；系统控制单元，分别与流量基准单元和待标定的流量计连接，用于从流量基准单元获取每个待标定点的标准流量数据，并对每个待标定点及其对应的标准流量数据进行拟合，以完成对待标定的流量计的标定。本发明实现了标定过程的全自动化，减少了标定过程的人为参与，降低了因人工失误造成的产品不合格率，保证了标定结果的一致性和可靠性，保证了产品质量，提高了生产效率。
- 一种流量计标定系统方法
- [发明专利]气体质量流量控制器-CN202010900168.3在审
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王振东;陈正堂;赵迪
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北京七星华创流量计有限公司
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2020-08-31
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2020-11-27
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G05D7/06
- 本发明实施例提供一种气体质量流量控制器，用于检测流经工艺腔室的气体流量，包括相互独立的流量检测模块和流量调节模块，以及控制模块，其中，流量检测模块设置在工艺腔室的进气端，用于检测该工艺腔室的进气端处的气体流量值，并发送至控制模块；流量调节模块设置在工艺腔室的出气端，用于调节工艺腔室的出气端处的气体流量；控制模块用于根据流量检测模块检测到的气体流量值和流量设定值，控制流量调节模块调节工艺腔室的出气端的气体流量，以使流经工艺腔室的气体流量等于流量设定值。本发明实施例提供的气体质量流量控制器，不仅可以提高控制精度，尤其可以保证温度敏感型气体的流量精度，而且便于拆装和维护。
- 气体质量流量控制器
- [发明专利]气体质量流量控制器及故障自检方法-CN202010939170.1在审
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邹义涛;赵迪
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北京七星华创流量计有限公司
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2020-09-09
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2020-11-27
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G05D7/06
- 本实施例提供一种气体质量流量控制器及故障自检方法，该气体质量流量控制器包括电磁阀、用于调节电磁阀的开度的电磁阀控制模块、用于向电磁阀控制模块提供驱动电能的电磁阀驱动电路、故障自检模块和控制模块，控制模块用于根据预设的流量设定值，控制电磁阀控制模块将电磁阀的开度调节至与流量设定值对应的开度值，且接收由电磁阀控制模块反馈的与该开度值对应的电磁阀的当前驱动参数值，并发送至故障自检模块；故障自检模块用于基于当前驱动参数值和与开度值对应的预设的标准驱动参数值，计算获得气体质量流量控制器的故障发生率。本实施例提供的气体质量流量控制器及故障自检方法的技术方案，可以实时进行流量精度和设备故障等的自检测。
- 气体质量流量控制器故障自检方法
- [发明专利]工艺腔室压力控制装置-CN202010778501.8在审
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陈正堂;赵迪;郑文宁
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北京七星华创流量计有限公司
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2020-08-05
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2020-11-03
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H01L21/67
- 本申请实施例提供了一种工艺腔室压力控制装置。该压力控制装置与半导体工艺设备的工艺腔室连接，其包括：流体通道具有进气口及出气口；流量传感器与流体通道连通，并且靠近进气口设置，用于检测流体通道内的气流量；压力传感器与流体通道连通，并且靠近出气口设置，用于检测流体通道内的气压值；流量调节机构与流体通道连接，并且位于流量传感器及压力传感器之间，用于调节流体通道的开合度；控制器与用于根据流量传感器检测到的气流量和/或压力传感器检测到的气压值，控制流量调节机构调节流体通道的开合度，以调节工艺腔室内的压力。本申请实施例大幅缩小了体积及降低应用维护成本，并且大幅减少外漏漏点数量。
- 工艺压力控制装置
- [发明专利]流量控制装置和质量流量控制器-CN202010703897.X在审
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余啸峰;赵迪;苏乾益
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北京七星华创流量计有限公司
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2020-07-21
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2020-10-30
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F16K31/06
- 本发明提供一种流量控制装置，包括阀体机构和控制机构，阀体机构包括阀体、阀芯、弹性片和阀块，阀芯和阀块叠置在阀体中形成的安装孔中，弹性片设置在阀芯上且位于阀芯与阀块之间，用于限定阀芯位置，阀块中形成有多个朝向阀芯的通孔，弹性片的材料为金属材料，其上形成有多个沿厚度方向贯穿弹性片的工艺槽，弹性片在控制机构改变阀芯与阀块之间的距离时产生弹性形变。在本发明中，采用金属材料制成且具有多个工艺槽的弹性片与控制机构配合控制流体流量，弹性片能够在频繁使用中保持自身的良好弹性，从而在具有大量程的情况下也能够保持控制小量程区域内流体流量的精确性，提高质量流量控制器的使用寿命。本发明还提供一种质量流量控制器。
- 流量控制装置质量控制器
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