专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种半导体激光器-CN202310936483.5在审
  • 张江勇;王星河;陈婉君;刘紫涵;蔡鑫;胡志勇;请求不公布姓名 - 安徽格恩半导体有限公司
  • 2023-07-28 - 2023-10-20 - H01S5/30
  • 本发明提出了一种半导体激光器,包括从下至上依次设置的衬底、下限制层、下波导层、有源层、上波导层和上限制层,所述下限制层与下波导层之间从下至上依次设置有第一子载流子匹配层、第二子载流子匹配层和第三子载流子匹配层,所述上波导层与上限制层之间设置有第四子载流子匹配层,所述第一子载流子匹配层、第二子载流子匹配层、第三子载流子匹配层和第四子载流子匹配层组成载流子匹配层。本发明能够提升有源层中电子和空穴载流子的浓度匹配度和对称性,降低电子泄漏和载流子去局域化,同时,降低激光器价带带阶,提升空穴注入效率,提升载流子注入均匀性和激光增益均匀性,从而提升激光器的斜率效率、光功率、外量子效率和限制因子。
  • 一种半导体激光器
  • [发明专利]一种设有自束缚激子层的半导体激光元件-CN202310471625.5在审
  • 李水清;王星河;陈婉君;蔡鑫;刘紫涵;胡志勇;张江勇 - 安徽格恩半导体有限公司
  • 2023-04-27 - 2023-10-10 - H01S5/20
  • 本发明提供了一种设有自束缚激子层的半导体激光元件,涉及半导体光电器件技术领域,从下至上依次包括衬底、下限制层、下波导层,有源层、上波导层、电子阻挡层、上限制层,有源层与下波导层之间和下波导层与下限制层之间设有自束缚激子层,自束缚激子层具有拓扑单斜相周期性铁电畴,形成强平面外自发极化诱导自束缚激子,将自由激子束缚能从10meV以下提升至20meV以上,降低激光的激子辐射的温度阈值,在室温或更高温度下可实现激子光辐射,同时,增强激光元件的激子辅助受激辐射,降低有源层的极化效应,降低量子限制斯塔克效应,降低激光元件的激发阈值,提升室温内下连续振荡,增强限制因子和增益均匀性,提升激光元件的光功率和斜率效率。
  • 一种设有束缚激子半导体激光元件
  • [发明专利]一种半导体激光元件-CN202310631210.X在审
  • 李水清;王星河;陈婉君;张会康;黄军;胡志勇;蔡鑫;刘紫涵 - 安徽格恩半导体有限公司
  • 2023-05-31 - 2023-09-19 - H01S5/34
  • 本发明提供了一种半导体激光元件,包括从下至上依次包括衬底、下限制层、下波导层、有源层、上波导层、电子阻挡层、上限制层;所述上波导层与电子阻挡层之间设置有拓扑狄拉克电子点层,以及所述电子阻挡层与上限制层之间设置有拓扑狄拉克电子点层。所述有源层为阱层和垒层组成的周期结构,周期数为3≥m≥1;阱层为InGaN、InN、AlInN、GaN的任意一种或任意组合,厚度为10~80埃米;垒层为GaN、AlGaN、AlInGaN、AlN、AlInN的任意一种或任意组合,厚度为10~120埃米。本发明提供的一种半导体激光元件,通过设置的拓扑狄拉克电子点层的笼目晶格结构可产生电子与电子间的非局域效应,抑制电荷密度波和量子限制斯塔克Stark效应。
  • 一种半导体激光元件
  • [发明专利]一种安全可调式切削机-CN201710872891.3有效
  • 刘紫涵 - 湖南君旺机械设备有限公司
  • 2017-09-25 - 2023-09-08 - B26D1/02
  • 本发明涉及厨房设备技术领域,特别涉及一种安全可调式切削机;本发明包括机架、升降装置和旋转装置;机架上设置有套筒,套筒上连接有切削板,切削板上设置有若干个切削刀片,切削板上连接有第一套管;旋转装置带动套接在第一套管上的第一压板旋转;升降装置使旋转装置和第一套管进行升降运动;本发明利用升降装置使旋转装置和第一套管进行升降运动,使第一压板将需要切的食材压在切削板上,旋转装置带动第一压板旋转,利用切削板上的切削刀片对食材进行切削;本发明操作方便安全、切削速度且切削均匀。
  • 一种安全调式切削机
  • [发明专利]一种半导体发光二极管-CN202310316701.5在审
  • 李水清;阚宏柱;请求不公布姓名;王星河;张江勇;陈婉君;蔡鑫;刘紫涵;黄军 - 安徽格恩半导体有限公司
  • 2023-03-29 - 2023-09-05 - H01L33/06
  • 本发明提供了一种半导体发光二极管,包括由下至上依次相连的衬底、n型半导体、超晶格、浅量子阱、量子阱、电子阻挡层和p型半导体,所述n型半导体、超晶格、浅量子阱、量子阱、电子阻挡层和p型半导体中均掺杂有Mg和Si,其中,Mg掺杂与Si掺杂交叉点位于所述量子阱的第1~3个周期与所述浅量子阱最后1~3个周期的界面处,以使浅量子阱和量子阱形成老化漏电控制结构。本发明提供的一种半导体发光二极管,其有效减少Mg和Si掺杂元素的交叉,提升量子阱的量子局限效应,使得浅量子阱和量子阱可以形成老化漏电控制结构,令注入量子阱的电子和空穴被最大限度量子局域化,抑制电子和空穴被缺陷俘获,降低发光二极管在老化过程中漏电的产生几率。
  • 一种半导体发光二极管
  • [发明专利]一种半导体发光元件-CN202310703498.7在审
  • 李水清;请求不公布姓名;王星河;蔡鑫;张江勇;刘紫涵;陈婉君 - 安徽格恩半导体有限公司
  • 2023-06-14 - 2023-09-01 - H01L33/06
  • 本发明公开了一种半导体发光元件,该半导体发光元件包括从下到上依次层叠设置的衬底、n型半导体、浅量子阱、电子尖峰层、量子阱、电子阻挡层和p型半导体,其特征在于,浅量子阱的禁带宽度大于量子阱的禁带宽度;电子尖峰层的Si掺杂浓度大于量子阱的Si掺杂浓度;电子尖峰层的Si掺杂浓度呈倒V型曲线或倒U型曲线分布。采用本发明实施例,通过对浅量子阱与量子阱之间的禁带宽度、电子尖峰层的Si掺杂浓度及其分布趋势的设计,使浅量子阱、电子尖峰层和量子阱形成量子自旋轨道光耦合结构,从而降低量子阱的极化效应和Stark效应,提升空穴注入效率、增强量子阱中电子空穴辐合效率、提升量子阱的光提取效率和半导体发光元件的发光效率。
  • 一种半导体发光元件
  • [发明专利]一种半导体发光二极管-CN202310662766.5在审
  • 李水清;请求不公布姓名;王星河;张江勇;蔡鑫;陈婉君;刘紫涵;胡志勇;黄军;蒙磊 - 安徽格恩半导体有限公司
  • 2023-06-06 - 2023-08-29 - H01L33/02
  • 本发明公开了一种半导体发光二极管,该二极管包括从下到上一次层叠设置的衬底、n型半导体、浅量子阱、量子阱、电子阻挡层和p型半导体;量子阱由阱层和垒层组成周期结构,量子阱具有若干个周期;量子阱的Si掺杂浓度从浅量子阱向电子阻挡层方向的第一预设周期内逐渐下降;量子阱的Mg掺杂浓度从电子阻挡层向浅量子阱方向的第二预设周期内逐渐下降;量子阱中具有Si掺杂和Mg掺杂的交叉区域。采用本发明实施例,通过浅量子阱、量子阱和电子阻挡层形成狄拉克量子隧穿结构,使得电子和空穴在该狄拉克量子隧穿结构中无法通过扩散和漂移在量子阱中跃迁,进而使得电子和空穴仅通过狄拉克量子隧穿进行跃迁和辐射。
  • 一种半导体发光二极管

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