专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]内衬正偏压阶梯形管的多级磁场电弧离子镀方法-CN201710053036.X有效
  • 魏永强;宗晓亚;刘源;侯军兴;张华阳;刘学申;蒋志强;冯宪章 - 魏永强
  • 2017-01-22 - 2019-08-13 - C23C14/32
  • 内衬正偏压阶梯形管的多级磁场电弧离子镀方法,属于材料表面处理技术领域,本发明为解决多级磁场过滤装置中大颗粒及沉积离子对管内壁污染的清理和电弧等离子体传输过程中的损失问题。本发明方法包括:一、将待镀膜的工件置于真空室内的样品台上,接通相关电源,开启外部水冷系统;二、薄膜沉积:待真空室内的真空度小于10‑4Pa时,通入工作气体并调整气压,开启镀膜电源,同时利用偏压电源吸引出口处的电弧等离子体和进行能量调节,通过内衬正偏压阶梯形管自身的阻挡屏蔽和正偏压电场抑制作用及多级磁场的过滤效应来有效消除大颗粒缺陷和保证电弧等离子体的传输效率,设置所需的工艺参数,进行薄膜制备。
  • 内衬偏压阶梯多级磁场电弧离子镀方法
  • [发明专利]内衬正偏压锥形管的多级磁场电弧离子镀方法-CN201710053037.4有效
  • 魏永强;宗晓亚;侯军兴;张华阳;刘源;刘学申;蒋志强;冯宪章 - 魏永强
  • 2017-01-22 - 2019-08-13 - C23C14/32
  • 内衬正偏压锥形管的多级磁场电弧离子镀方法,属于材料表面处理技术领域,本发明为解决多级磁场过滤装置中大颗粒及沉积离子对管内壁污染的清理和电弧等离子体传输过程中的损失问题。本发明方法包括:一、将待镀膜的工件置于真空室内的样品台上,接通相关电源,开启外部水冷系统;二、薄膜沉积:待真空室内的真空度小于10‑4Pa时,通入工作气体并调整气压,开启镀膜电源,同时利用偏压电源吸引出口处的电弧等离子体和进行能量调节,通过内衬正偏压锥形管自身的阻挡屏蔽和正偏压电场抑制作用及多级磁场的过滤效应来有效消除大颗粒缺陷和保证电弧等离子体的传输效率,设置所需的工艺参数,进行薄膜制备。
  • 内衬偏压锥形多级磁场电弧离子镀方法

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