专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]镀银材料及其制造方法-CN202180062721.3在审
  • 平井悠太郎;荒井健太郎;佐藤阳介 - 同和金属技术有限公司
  • 2021-03-24 - 2023-08-29 - C25D3/46
  • 本发明提供耐磨耗性比以往更优异的镀银材料及其制造方法。在通过在由包含氰化银钾或氰化银、和氰化钾或氰化钠、和苯并噻唑类或其衍生物的水溶液构成的镀银液中进行电镀而在原材料上形成由银构成的表层来制造镀银材料的方法中,当将镀银液中的游离氰的浓度记作A(g/L)、将镀银液中的苯并噻唑类或其衍生物的苯并噻唑部分的浓度记作B(g/L)、将镀银液的温度记作C(℃)、将电镀的电流密度记作D(A/dm2)时,以(BC/A)2/D达到10(℃2·dm2/A)以上的条件进行电镀。
  • 镀银材料及其制造方法
  • [发明专利]燃料电池系统-CN202180036550.7在审
  • 松冈敬;佐藤阳介;石井惠奈;吉永典裕;山下恭平 - 株式会社东芝;东芝能源系统株式会社
  • 2021-07-15 - 2023-02-03 - H01M8/04
  • 本发明提供能够容易且高效地实施冷却水的冻结防止的燃料电池系统。实施方式的燃料电池系统包含燃料电池部,并且具备:冷却水循环系统,供冷却水经由燃料电池部循环;热交换系统,用于进行海水与在冷却水循环系统中循环的冷却水之间的热交换;以及控制部,用于控制热交换。在与冷却水循环系统有关的温度为第一阈值以下、且在热交换系统中进行热交换而使用的海水的温度为比第一阈值高的第二阈值以上的情况下,控制部通过热交换对冷却水进行加热。
  • 燃料电池系统
  • [发明专利]安装机以及安装方法-CN202010572110.0有效
  • 佐藤阳介;村山翔 - 株式会社富士
  • 2020-06-22 - 2022-11-29 - H05K13/04
  • 本发明提供安装机及安装方法。在将对象物安装于被对象物的安装机中,更理想地将对象物安装于被对象物。安装机将对象物安装于被对象物,所述安装机具备:保持件,保持对象物或者与对象物分离;驱动头,装配保持件,使保持件进行上下方向上的往复移动和绕上下方向的旋转移动;以及控制部,控制驱动头以进行安装处理和按压处理,在该安装处理中,利用驱动头使保持有对象物的状态下的保持件进行往复移动,将对象物按压于被对象物并且使对象物与保持件分离,从而将对象物安装于被对象物,在该按压处理中,利用驱动头使与对象物分离的状态下的保持件进行旋转移动和往复移动,从而将完成了旋转移动的状态下的保持件按压于对象物。
  • 装机以及安装方法
  • [发明专利]镀银材料及其制造方法-CN202180016144.4在审
  • 平井悠太郎;荒井健太郎;佐藤阳介 - 同和金属技术有限公司
  • 2021-01-14 - 2022-11-01 - C25D3/64
  • 本发明提供硬度高于以往且耐磨耗性优异的镀银材料及其制造方法。在由包含氰化银钾或氰化银、和氰化钾或氰化钠、和(2‑巯基苯并咪唑或2‑巯基苯并咪唑磺酸钠2水合物等)苯并咪唑类的水溶液形成的镀银液中进行电镀而在原材料上形成由银构成的表层来制造镀银材料的方法中,将镀银液中的氰化银钾或氰化银、氰化钾或氰化钠、苯并咪唑类的各自的浓度相对于镀银时的电流密度的比值(或者镀银液中的氰化银钾或氰化银、苯并咪唑类的各自的浓度相对于镀银时的电流密度的比值、及氰化钾或氰化钠的浓度)设定在规定的范围内。
  • 镀银材料及其制造方法
  • [发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法-CN201510102366.4在审
  • 佐藤阳介;宇井明生;林久贵 - 株式会社东芝
  • 2015-03-09 - 2016-01-27 - H01L21/3065
  • 本发明涉及等离子体处理装置和等离子处理方法,该等离子处理装置具备有:腔室、导入部、基板电极、高频电源、低频电源和切换机构。导入部向腔室内导入处理气体。基板电极配置在腔室内,直接或间接载置有基板,具有交互配置的第1、第2电极元件群。高频电源输出40MHz以上的高频电压,用于使处理气体离子化,产生等离子体。低频电源输出20MHz以下的低频电压,用于从等离子体中引入离子。切换机构向所述第1、第2电极元件群交互施加所述低频电压。
  • 等离子体处理装置方法
  • [发明专利]气体处理装置-CN201510092944.0在审
  • 宇井明生;佐藤阳介;秋田征人;真田恭 - 株式会社东芝
  • 2015-03-02 - 2015-09-30 - B01D53/32
  • 本发明公开了一种气体处理装置。一个实施例的一种气体处理装置包括:与彼此相面对的第一和第二电介质基板;分别布置在电介质基板的一对相面对的主表面上的第一和第二放电电极;分别布置在电介质基板的所述主表面的相反侧的一对主表面上的第一和第二地电极;气体流路,用于在放电电极之间供应要处理的气体;AC电源,用于通过在放电电极与地电极之间施加AC电压来生成第一和第二等离子诱发流;以及从放电电极起在等离子诱发流的下游在电介质基板之间布置的区域,并且电介质基板之间的间隙是等离子诱发流的厚度之和的1.3倍以下。
  • 气体处理装置

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