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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]硅片夹具-CN202211038517.0在审
  • 韩鹏帅;马国权;申朋举;张子阳;李杰 - 上海提牛机电设备有限公司
  • 2022-08-29 - 2023-02-03 - H01L21/673
  • 本发明公开了一种硅片夹具，具有两竖臂，间隔一定距离设置；一支撑杆，两端分别连接在所述两竖臂的下部，所述支撑杆的倾斜上表面具有若干互相平行的内侧低、外侧高的以单点方式支撑硅片的倾斜支撑槽。本发明通过在硅片夹具的支撑杆上设置内侧低、外侧高的支撑硅片的倾斜支撑槽，两片硅片夹具的倾斜支持槽从硅片的两侧以单点支撑方式夹紧硅片，可以极大地降低与硅片的接触面，清洗水中的颗粒可以最低程度地不被遗留在硅片上，从而提高硅片产品成品率。
  • 硅片夹具
  • [发明专利]硅片干燥箱-CN202211010543.2在审
  • 李杰;张子阳;申朋举;马国权;李守印 - 上海提牛机电设备有限公司
  • 2022-08-23 - 2022-11-25 - F26B3/30
  • 本发明公开了一种硅片干燥箱，具有：一可容纳硅片的干燥箱体，所述干燥箱体的两侧壁分布有若干平行间隔设置的IR加热管；一进风口，设置在所述干燥箱体的上部；一抽风仓，设置在所述干燥箱体的下部。本发明通过石英管作为IR加热管，来避免干燥箱体内颗粒粉尘的形成，而避免硅片被污染；另外设置四棱台结构形式的抽风仓，来提高箱体进风口与抽风仓之间的箱体内的风流均匀度，使得所有硅片在同一时刻干燥完全，以提高干燥速率。
  • 硅片干燥箱
  • [发明专利]纯水在线加热器-CN202210954663.1在审
  • 葛林海;马国权;张子阳;李杰;申朋举 - 上海提牛机电设备有限公司
  • 2022-08-10 - 2022-11-15 - F24H1/12
  • 本发明公开了一种纯水在线加热器，具有一用于纯水连续流通的加热箱体；一进水管和一出水管，分别设置在所述加热箱体侧壁的底部和顶部；供纯水连续流通的折流腔层，共n层，层叠状形成在所述加热箱体内，棒腔，其中折流腔层内平行设有若干棒腔；加热棒，每个棒腔内可拆卸地穿设有一根加热棒。本发明通过在加热箱体内设置连续流通的折流腔层，从而形成往复折返的纯水流通通道，从而可以获得源源不断的热纯水。
  • 纯水在线加热器
  • [发明专利]弯曲晶圆的清洗液及清洗方法-CN202111117828.1有效
  • 葛威威;韩鹏帅;申朋举;葛永恒;葛林四 - 上海提牛机电设备有限公司
  • 2021-09-24 - 2022-09-16 - C09K13/08
  • 本发明属于半导体制造技术领域，具体涉及一种晶圆的清洗液及清洗方法。其中方法包括将晶圆经上料区上料；将晶圆从上料区置于第一清洗槽内，晶圆浸入混合液中，对晶圆的背面进行刻蚀清洗；将晶圆置于第一溢流槽内进行第一次清洗；将晶圆置于第二清洗槽内，晶圆浸入混合液中，对晶圆的背面再次进行刻蚀清洗；将晶圆置于第二溢流槽内进行第二次清洗；将晶圆置于氢氟酸槽，晶圆浸入氢氟酸液中去除表面的自然氧化膜；将晶圆置于第三溢流槽内进行第三次清洗；将晶圆经下料区下料，完成晶圆的清洗。本发明极其适用于翘曲或弯曲的晶圆的清洗，既能加快刻蚀速度，又具有成本低廉的优点。
  • 弯曲清洗方法
  • [发明专利]自动上料系统-CN202110439032.1有效
  • 谭红青;谭小江;刘家康;刘军辉 - 上海提牛机电设备有限公司
  • 2021-04-23 - 2022-07-26 - B65G47/74
  • 本发明属于半导体技术领域，具体涉及一种上料系统。自动上料系统，包括机架，固定各机构；进料机构，将放置有晶圆的花篮从上料口从前往后移入第一工位，将空的花篮从第一工位向后移至第二工位；移载机构，将放置有晶圆的花篮从第一工位移至花篮脱离机构，将花篮脱离机构分离的空的花篮移入第一工位；花篮脱离机构，将花篮与花篮内的晶圆分离。本发明结构紧凑，用于晶圆花篮的自动上料过程中，可实现实时的进料、移载和花篮脱离，各机构之间同时运行，后续工艺无需等待，大大提高了上料效率。
  • 自动系统
  • [发明专利]晶圆清洗系统-CN202111515809.4在审
  • 张子阳;李杰;丁高生;葛林新;李守印 - 上海提牛机电设备有限公司
  • 2021-12-13 - 2022-04-01 - B08B1/00
  • 本发明提供一种晶圆清洗系统，包括晶圆清洗装置，包括用于清洗晶圆的刷头，所述晶圆清洗装置带动所述刷头旋转对所述晶圆进行清洗；晶圆承载装置，设于所述晶圆清洗装置下方，用于承载所述晶圆，并带动所述晶圆沿所述刷头的旋转方向反向旋转；安全腔，包覆于所述晶圆承载装置四周，且所述安全腔顶部设有供所述晶圆清洗装置伸入该安全腔的开口，用于防止晶圆清洗过程中液体飞溅。采用本发明的晶圆清洗系统可在采用普通电机的情况下，也可提高一倍的相对转速，有效提高清洁效率，提高清洁效果，适应性好，具有广泛的应用范围，同时，通过安全腔的设置，可有效防止液体飞溅，并起到保护作用，提高安全性。
  • 清洗系统
  • [发明专利]晶圆清洗装置-CN202111515229.5在审
  • 李守印;张子阳;李杰;丁高生;葛林新 - 上海提牛机电设备有限公司
  • 2021-12-13 - 2022-03-25 - B08B1/04
  • 本发明提供一种晶圆清洗装置，包括用于清洗晶圆的刷头、偏移模块及刷头旋转模块，刷头设于所述偏移模块上，所述偏移模块用于带动刷头移动，刷头旋转模块用于带动所述刷头绕所述刷头的轴心旋转。采用该结构的晶圆清洗装置使得晶圆清洗装置中的刷头可适用于对不同尺寸的晶圆进行清洗，由于刷头可移动，故可使对晶圆上每一个位置进行清洁时都受力均匀，使得清洗更充分，清洗效果更好，适用范围广泛，具有良好的应用场景。
  • 清洗装置
  • [发明专利]抓夹装置-CN202111411216.3在审
  • 葛林新;李守印;张子阳;李杰;丁高生 - 上海提牛机电设备有限公司
  • 2021-11-25 - 2022-02-11 - B28D5/00
  • 本发明提供一种抓夹装置，包括：夹板控制机构、水平设置的两根连杆及至少一组夹板机构；其中，各组所述夹板机构包括相对而设的一对夹板，且各组所述夹板机构中的二个夹板分别固定在两根所述连杆的一端，且各个所述夹板与对应的所述连杆相互垂直；两根所述连杆的另一端与所述夹板控制机构相连接，所述夹板控制机构通过带动两根所述连杆转动或移动，来控制各组所述夹板机构执行夹持或释放动作。本发明的抓夹装置使得夹板控制机构与夹板机构间隔一定的距离，夹板控制机构可在较远的位置对夹板机构进行控制，减少水汽和化学物质挥发时进入夹板控制机构的可能性，有效延长装置的使用寿命。
  • 装置
  • [发明专利]一种方形件的夹持装置及搬运系统-CN201910440298.0有效
  • 李杰;葛林海;丁高生;陈景韶;葛林新 - 上海提牛机电设备有限公司
  • 2019-05-24 - 2021-11-09 - B65G47/90
  • 本发明公开了一种方形件的夹持装置及搬运系统，用于在晶圆清洗生产线中夹持竖直状态的方形件，所述夹持装置包括：框架，所述框架中固定设置有水平状态的第一滑轨、第二滑轨；第一气缸，所述第一气缸的主体滑动设置在所述第一滑轨上，所述第一气缸的活塞固定连接在所述框架上，所述第一气缸的活塞位于所述第一气缸的主体的左侧；第二气缸，所述第二气缸的主体滑动设置在所述第二滑轨上，所述第二气缸的活塞固定连接在所述框架上，所述第二气缸的活塞位于所述第二气缸的主体的右侧；左臂；以及右臂。本发明的利用两反向动力产生第一水平臂和第二水平臂的平行反向运动，再带动竖直夹具精密稳固夹持方形件。
  • 一种方形夹持装置搬运系统
  • [发明专利]一种方形件的搬运翻转装置-CN201910439639.2有效
  • 葛林新;李杰;葛林海;丁高生;陈景韶 - 上海提牛机电设备有限公司
  • 2019-05-24 - 2021-11-09 - B65G49/07
  • 本发明公开了一种方形件的搬运翻转装置，用于在晶圆清洗生产线中将晶圆自水平状态调整为竖直状态，所述搬运翻转装置包括：基座；顶柱部件，所述顶柱部件具有多个支撑柱，所述支撑柱的底部固定连接在顶升气缸的移动部上，所述顶升气缸固定在所述基座上，用来接过第一机械手供给来的水平方向的方形件，所述方形件中容置所述晶圆；夹具，所述夹具包括能够相互远离或者靠近的第一卡、第二卡，所述第一卡、第二卡靠近时能够夹紧所述方形件，所述第一卡、第二卡分别固定连接在气压缸的两端，所述夹具中第二卡所在的一端铰接连接在所述基座上；以及旋转部件。本发明的有益效果为承接高精度方形件的搬运，且将方形件由水平状态翻转为竖直状态。
  • 一种方形搬运翻转装置
  • [发明专利]超薄晶圆的背面刻蚀液及刻蚀方法-CN202011309979.2有效
  • 葛林四;葛永恒;吴士勇;韩鹏帅;葛威威 - 上海提牛机电设备有限公司
  • 2020-11-20 - 2021-10-22 - C30B33/10
  • 本发明属于半导体制造技术领域，具体涉及一种晶圆的背面刻蚀液及刻蚀方法。其中方法包括将晶圆经上料区上料；将晶圆从上料区置于第一刻蚀槽内，晶圆浸入混合液中，对晶圆的背面进行刻蚀；将晶圆置于第一溢流槽内进行第一次清洗；将晶圆置于第二刻蚀槽内，晶圆浸入混合液中，对晶圆的背面再次进行刻蚀；将晶圆置于第二溢流槽内进行第二次清洗；将晶圆置于氢氟酸槽，晶圆浸入氢氟酸液中去除表面的自然氧化膜；将晶圆置于第三溢流槽内进行第三次清洗；将晶圆经下料区下料，完成晶圆的刻蚀。采用本发明刻蚀液及方法得到的晶圆，表面平坦度好，一致性好，质量较佳。
  • 超薄背面刻蚀方法
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