专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于AI算法的SEM图形量测方法-CN201910910073.7有效
  • 林义征 - 上海众壹云计算科技有限公司
  • 2019-09-25 - 2023-09-12 - G06V10/82
  • 本发明公开了一种基于AI算法的SEM图形量测方法,包括如下方法:使用AI技术实现SEM图形的量测,提出的AI量测方案由三大模块构成:一、图像上的标尺刻度识别:采用深度学习技术为最终的量测提供像素单位长度;二、模板匹配:采用FLANN模板匹配技术对所要量测的部位进行精准定位,并获得局部图像;三、具体SEM图像的量测:采用二值化、边缘识别等技术对元器件的尺寸进行量测。增加了自动化水平。提高了工作效率,原因是AI模型不会疲劳,而人类会疲劳,并且AI模型每单位时间的工作量要远远高于人类。降低了量测成本,原因是AI模型取代工程师,并且工作效率大大提高。基于实时的量测结果,工程师可以及时的调整工艺参数,提高良品率。
  • 基于ai算法sem图形方法
  • [发明专利]一种单元化的掩膜版缺陷的识别方法及识别装置-CN202210727667.6在审
  • 刘迪;陈建东;沈剑;徐高亮 - 上海众壹云计算科技有限公司
  • 2022-06-22 - 2022-11-01 - G06T7/00
  • 本发明涉及一种单元化的掩膜版缺陷的识别方法及识别装置,该识别方法包括步骤:基于掩膜版制备得到晶圆,并基于晶圆获取到多个待测图像,且至少一个待测图像中包括:至少一个第一目标点;基于多个待测图像得到待分析图像模型,且待分析图像模型包括:由第一目标点对应形成的第二目标点;基于第二目标点获取有效目标点;对待分析图像模型进行网格划分得到若干网格单元;基于网格单元获取有效目标点的网格位置,并基于网格位置对有效目标点进行分类;基于分类后的有效目标点确定目标缺陷。本发明所提供的方法及装置能够高效地识别出掩膜版的各类缺陷。
  • 一种单元掩膜版缺陷识别方法装置
  • [发明专利]一种针对多个晶圆检测应用的监控管理方法及系统-CN202210835028.1在审
  • 唐磊;王丙寅;沈剑;姚玉静 - 上海众壹云计算科技有限公司
  • 2022-07-15 - 2022-10-18 - H01L21/67
  • 本发明涉及一种针对多个晶圆检测应用的监控管理方法及系统,该方法包括步骤:通过监控管理端获取多个待监控的晶圆检测应用,且多个晶圆检测应用包括离线和实时应用;监控管理端获取到若干个预设部署节点的节点信息,并基于节点信息选取至少一个部署节点以用于监控并调度多个晶圆检测应用;监控管理端基于晶圆检测应用的应用类型确定监控点;监控管理端基于部署节点对监控点进行监控并判断对应的晶圆检测应用的运行状态,运行状态包括:运行异常和运行正常;当监控到存在运行异常的晶圆检测应用时,监控管理端基于部署节点对相应的晶圆检测应用进行调度管理。本发明的监控管理方法及系统能够对各类实时或离线应用进行实时监控管理与调度。
  • 一种针对多个晶圆检测应用监控管理方法系统
  • [发明专利]一种用于识别晶圆的新增缺陷的方法及系统-CN202210835022.4在审
  • 唐磊;沈剑;韩跃客;吴丛 - 上海众壹云计算科技有限公司
  • 2022-07-15 - 2022-10-11 - G06T7/00
  • 本发明涉及一种用于识别晶圆的新增缺陷的方法及系统,该方法包括步骤:通过计算管理端获取至少一个晶圆样本对应的第一缺陷数据组,其中,第一缺陷数据组包括:样本在若干缺陷检测设备下所获取的第一缺陷信息;对样本进行区域划分得到若干个子区域,并基于若干个子区域对第一缺陷数据组进行分组对应得到若干第二缺陷数据组,其中,第二缺陷数据组包括:同一个子区域在不同缺陷检测设备下所获取的缺陷信息;基于若干第二缺陷数据组建立若干个子任务;基于子任务的计算量以及优先级,将至少一个子任务分配到对应的计算节点上;待子任务执行完成后获取对应的计算节点的计算结果。本发明所提供的方法及系统可以高效且针对性地实现对新增缺陷的识别。
  • 一种用于识别新增缺陷方法系统
  • [发明专利]一种用于识别晶圆缺陷的方法及系统-CN202210835055.9在审
  • 唐磊;沈剑;姚玉静 - 上海众壹云计算科技有限公司
  • 2022-07-15 - 2022-10-11 - H01L21/66
  • 本发明涉及一种用于识别晶圆缺陷的方法及系统,其中该方法包括:获取待测晶圆图像中的多个缺陷点;基于预设的最小核心点数与邻域阈值对所述多个缺陷点进行聚类,得到多个第一簇,其中,所述最小核心点数设为1;基于所述待测晶圆图像中的缺陷特征确定至少一个特征核心点数阈值范围,所述缺陷特征包括:缺陷尺寸,和/或缺陷类型;基于至少一个所述特征核心点数阈值范围对所述多个第一簇进行至少一次过滤,对应得到至少一类第二簇,其中,同一类所述第二簇中对应包括的所述缺陷点的个数属于对应的所述特征核心点数阈值范围。本发明所提供的方法及系统能够对线形缺陷和聚集型缺陷进行准确识别。
  • 一种用于识别缺陷方法系统
  • [发明专利]晶圆表面粗糙度测量的方法、系统、电子设备和存储介质-CN202110477886.9有效
  • 沈剑;刘迪;唐磊;胡逸群;陈建东 - 上海众壹云计算科技有限公司
  • 2021-04-30 - 2022-09-13 - G06T7/00
  • 本发明涉及一种利用AI图像处理技术进行晶圆表面粗糙度测量的方法,其通过采用扫描电子显微镜实时采集生产线上每个待测晶圆材料上每个目标区域的至少一张二维表面图像;并对至少一张二维表面图像进行预处理,得到多个像素点,以及每个像素点的三维成像参数;其中,三维成像参数包括:二次电子的数量,采集角度,背散射电子的占比;然后,根据像素点的三维成像参数构建目标区域的三维表面形貌图;最后,根据三维表面形貌图计算得到待测晶圆材料的第一表面粗糙度。本发明无需依赖人工操作,同时避免了材料底部表面波动的影响,可应用于产线上对产品表面粗糙度的实时监控,在一定程度上提高了分类的准确性和稳定性,降低了生产成本。
  • 表面粗糙测量方法系统电子设备存储介质

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