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[发明专利]一种微波条件下介孔氧化铈包覆聚苯乙烯纳米复合磨料的制备方法-CN202211038089.1有效
发明人：贾慧灵;梁梦颢;吴锦绣;谭心;杜鹏飞 -专利权人：内蒙古科技大学
申请日： 2022-08-29 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种微波条件下介孔氧化铈包覆聚苯乙烯纳米复合磨料的制备方法，本发明工艺中，首先采用沸腾体系无皂乳液聚合法在微波辐射加热条件下，以苯乙烯为单体、二乙烯苯为交联剂、α‑甲基丙烯酸为稳定剂、过硫酸钾为引发剂，制备出粒径可控且单分散性较好的聚苯乙烯（PS）微球；然后以PS微球为载体，以十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）为模板剂，采用原位化学沉积法在PS微球表面包覆氧化铈壳层；最后用硝酸铵、乙醇混合溶液刻蚀掉模板剂CTAB，得到介孔氧化铈包覆聚苯乙烯（PS/mCeO2）纳米复合磨料；所制备的PS/mCeO2核壳复合磨料具有柔性的内核、较高的比表面积和较多的活性位点，在超精密表面的抛光过程中可获得更低的粗糙度以及更高的材料去除率。
一种微波条件下氧化铈包覆聚苯乙烯纳米复合磨料制备方法

[发明专利]一种硅铝化学机械抛光用磨料的制备方法-CN202110227352.0有效
发明人：胡颖妮 -专利权人：广州凌玮科技股份有限公司
申请日： 2021-03-01 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅铝化学机械抛光用磨料的制备方法，包括如下步骤：利用水玻璃和铝盐溶液制备硅铝氧化物，在合成过程中保持体系pH值在中性；向上述硅铝氧化物中加入稀硫酸，使部分铝物种迁移到粒子表面，然后再经过陈化，冷却，过滤，得到滤饼；对滤饼进行洗涤，以降低滤饼中二氧化硅的钠离子和硫酸根的含量；将洗涤后的滤饼重新分散在少量水中，分散均匀后所得浆料进行喷雾干燥，再经气流粉碎分级，即得硅铝化学机械抛光用磨料。本发明的制备方法通过采用液相合成，在合成过程中通过中性pH控制，使得硅铝物种均匀分布，同时以酸性处理和洗涤，控制铝物种的表面析出，形成可控铝包覆硅的结构，提高所得磨料化学机械抛光的应用范围。
一种化学机械抛光磨料制备方法

[发明专利]一种核壳式复合磨粒及其制备方法-CN202211200122.6有效
发明人：姜胜强;陆健;徐志强;刘思思;刘金刚 -专利权人：湘潭大学
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种核壳式复合磨粒及其制备方法。本发明以表面具有大量微凸结与微堑隙的高比表面积的高分子链聚合微球作为内核体，以无机磨粒作为包覆层，制备了新型核壳式复合磨粒。本方法所制备的核壳式复合磨粒内核体，其高比表面积能有效增加核壳之间接触的面积与概率，促进核壳间形成强度更高的联结。通过调整内核体表层形貌的改性程度可以进一步的调控内核体的比表面积，这样可以调控所生成复合磨粒的核壳之间的联结作用的强度与壳层厚度，并以此来实现复合磨粒力学性能的调控。本发明的意义在于，解决了一般方法中，制备的复合磨粒存在内核体表面积比较低、核壳之间联结作用较差以及复合磨粒性能调控存在较大局限性的问题。
一种核壳式复合及其制备方法

[发明专利]一种研磨液、制备方法及用途-CN202310581761.X在审
发明人：侯军;李传强;褚雨露;单晓倩 -专利权人：大连奥首科技有限公司
申请日： 2023-05-23 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨液、制备方法及用途，所述研磨液包括重量配比如下的各组分：油性溶剂50‑90份；分散剂1‑10份；触变剂1‑5份；悬浮增效剂1‑5份；稳定剂0.1‑0.5份；电荷斥力剂0.1‑0.5份；纳米粒子0.01‑0.1份；金刚石磨料10‑20份。本发明研磨液适用于蓝宝石、氮化铝、氮化镓或单晶金刚石衬底的精密研磨。本发明研磨液在长时间剪切作用下，磨料仍保持良好的悬浮，具有循环寿命长，磨削效率高的优点；本发明研磨液具有优异的分散作用，能有效地将研磨过程产生的纳米颗粒分散开，避免吸附到磨料表面，避免产生团聚大颗粒，降低研磨产生的划伤。因此，本发明研磨液具有良好的应用前景和大规模工业化推广潜力。
一种研磨制备方法用途

[发明专利]微晶刚玉氧化铝磨料的制备方法-CN202310516915.7在审
发明人：朱冰清;朱国乔;许骏 -专利权人：黄山安卡研磨新材料有限公司
申请日： 2023-05-09 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明公开了微晶刚玉氧化铝磨料的制备方法，包括以下步骤:先将磨料干法球磨1‑2h，改性聚酰亚胺树脂粉干法球磨2‑3h，再将湿润剂，以及球磨后的改性聚酰亚胺树脂粉、磨料加入三维涡流混料机中混料0.5‑1h，即得到微晶刚玉氧化铝磨料；其中，改性聚酰亚胺树脂粉由改性聚酰亚胺树脂研磨至粉状得到的；本发明得到改性聚酰亚胺树脂，使其具有很有导热性能、耐磨性以及抗氧化性；所以由该改性聚酰亚胺树脂作为磨料载体，从而有效改善磨料在使用过程中导热性能、耐磨性以及抗氧化性。
刚玉氧化铝磨料制备方法

[发明专利]半导体工艺用抛光组合物、抛光组合物的制备方法以及适用抛光组合物的半导体器件的制造方法-CN202180083215.2在审
发明人：朴韩址;韩德洙;权璋国;洪承哲 -专利权人： SK恩普士有限公司
申请日： 2021-10-18 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明涉及半导体工艺用抛光组合物、抛光组合物的制备方法以及适用抛光用组合物的半导体器件的制造方法，具体地，涉及可用于抛光非晶质碳膜(ACL，Amorphous carbon layer)的抛光组合物，所述抛光组合物可以对非晶质碳膜表现出高抛光速率，并且在45℃以上不出现抛光速率降低的问题，长时间储存稳定性增加，并能防止抛光工艺中产生的碳残留物(Carbon residue)吸附在半导体基板上，还能防止抛光垫的污染。此外，本发明还能够提供一种适用半导体工艺用抛光组合物的半导体器件的制造方法。
半导体工艺抛光组合制备方法以及适用半导体器件制造

[发明专利]一种研磨液及其制备方法和应用-CN202111628302.X有效
发明人：陈腾飞;王勇泉 -专利权人：广东红日星实业有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种研磨液及其制备方法和应用，一种研磨液，制备原料包括：金属浸蚀剂、防锈剂、磨料和松散剂；所述金属浸蚀剂包括：六氟磷酸；所述防锈剂为喹啉和六乙基亚磷酰三胺的组合物；所述松散剂包括酪蛋白粉和酪蛋白酸钠粉中的至少一种。本发明通过金属浸蚀剂、防锈剂、磨料和松散剂之间的复配提供一种能防止磨料结块和不锈钢生锈的强酸性研磨液，从而使得磨料虽然沉积于研磨液底部，却能避免板结结块，同时具有防锈功能、易漂洗的研磨液。
一种研磨及其制备方法应用

[发明专利]一种刚玉磨料处理工艺-CN202210332150.7有效
发明人：吴建伟 -专利权人：南平市亿泽磨料磨具科技有限公司
申请日： 2022-03-31 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明属于刚玉磨料技术领域，尤其是一种刚玉磨料处理工艺，干燥设备包括干燥机壳、自动上料斗、下料斗、翻面装置、干燥装置以及搅拌装置，自动上料斗设置在干燥机壳的上表面，自动上料斗的一端贯穿干燥机壳的内顶壁后延伸至干燥机壳的内部，下料斗设置在干燥机壳的内底壁。该刚玉磨料处理工艺，通过设置搅拌装置，能够对翻面后的颗粒进行均匀铺开，防止颗粒堆积，造成干燥不充分，通过刮板的移动同时搅拌桨的搅拌，能够使得颗粒均匀铺在料框内，从而能够加快颗粒的干燥速度，解决了现有的刚玉磨料在处理时，造成工作效率低，同时无法对磨料进行充分均匀的干燥，降低了刚玉磨料的质量技术的问题。
一种刚玉磨料处理工艺

[发明专利]研磨用组合物-CN202080023228.6有效
发明人：土屋公亮;浅田真希;市坪大辉 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2020-03-25 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明提供一种降低研磨对象物表面的雾度的优异的研磨用组合物。通过本发明所提供的研磨用组合物包含磨粒、碱性化合物、水溶性高分子及水。上述水溶性高分子至少包含水溶性高分子P1与水溶性高分子P2。在此，上述水溶性高分子P1为缩醛化聚乙烯醇系聚合物，上述水溶性高分子P2为缩醛化聚乙烯醇系聚合物以外的水溶性高分子。
研磨组合

[发明专利]半导体工艺用抛光组合物、抛光组合物的制备方法以及适用抛光组合物的半导体器件的制造方法-CN202180082951.6在审
发明人：朴韩址;韩德洙;权璋国;洪承哲 -专利权人： SK恩普士有限公司
申请日： 2021-10-18 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明涉及半导体工艺用抛光组合物、抛光组合物的制备方法以及适用抛光组合物的半导体器件的制造方法，具体地，所述抛光组合物能够应用于非晶质碳膜(ACL，Amorphous carbon layer)的抛光工艺中，并能够表现出高抛光速率；能防止抛光工艺中的碳残留物(Carbon residue)再次吸附在半导体基板上，由此防止缺陷的发生；并且，还具有优异的储存稳定性。此外，本发明还能够提供一种适用半导体工艺用抛光组合物的半导体器件的制造方法。
半导体工艺抛光组合制备方法以及适用半导体器件制造

[发明专利]半导体工艺用抛光组合物、抛光组合物的制备方法以及适用抛光组合物的半导体器件的制造方法-CN202180083214.8在审
发明人：朴韩址;韩德洙;权璋国;洪承哲 -专利权人： SK恩普士有限公司
申请日： 2021-10-18 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明涉及半导体工艺用抛光组合物、抛光组合物的制备方法以及适用抛光用组合物的半导体器件的制造方法，其中，就包含抛光颗粒、加速剂和稳定剂的本发明的抛光组合物而言，将抛光组合物在60℃以上长时间储存后，粒子间也不会发生凝集现象，故长时间储存稳定性优异；并且作为应用于非晶质碳膜(Amorphous carbon layer)的抛光工艺中的抛光组合物，能够表现出高抛光率，还能防止抛光工艺中产生的碳残留物(Carbon residue)吸附在半导体基板上，并能防止抛光垫的污染。此外，本发明还能够提供一种适用半导体工艺用抛光组合物的半导体器件的制造方法。
半导体工艺抛光组合制备方法以及适用半导体器件制造

[发明专利]研磨用组合物-CN202080023140.4有效
发明人：山口佳子;后藤修;土屋公亮;市坪大辉 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2020-03-23 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明所提供的研磨用组合物包含磨粒、作为水溶性高分子的聚乙烯醇系聚合物、碱性化合物及水，且还包含3元以上的多元有机酸(盐)。
研磨组合

[发明专利]硬质金属用研磨液及其制备方法-CN202310512270.X在审
发明人：汤璐;肖辉亚;黄灿容;李光 -专利权人：深圳市永霖科技有限公司
申请日： 2023-05-08 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本申请提供了一种硬质金属用研磨液及其制备方法，基于硬质金属用研磨液的总重，硬质金属用研磨液包括如下重量百分比的组分：研磨催化剂，2％‑5％；润滑剂，10％‑20％；表面活性剂，2％‑5％；防锈剂，2％‑5％；pH调节剂，1％‑3％；消泡剂，0.5％‑2％；溶剂，60％‑80％。通过合理选择组分并匹配各组分的含量，使各组分之间发挥协同作用，这样可提高研磨液的稳定性，使其具有较好的稳定性来延长其使用寿命；还可有助于去除毛刺、三伤(包括压伤、划伤和碰伤等)、刀纹、锈蚀、脏污、亮度不佳等缺陷，进而提高对含有硬质金属材料的工件的研磨效果，从而降低研磨的成本以及含有硬质金属材料的工件的生产成本。
硬质金属研磨及其制备方法

[发明专利]研磨液、研磨液套剂和基体的研磨方法-CN201680051930.7有效
发明人：阿久津利明;南久贵;岩野友洋;山下哲朗;青木雅子;深泽正人 -专利权人：株式会社力森诺科
申请日： 2016-06-13 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本申请的研磨液具有液态介质、磨粒和聚合物，所述聚合物具有官能团直接键合的第1分子链和从该第1分子链分支而成的第2分子链，所述官能团是选自由羧基、羧酸盐基团、羟基、磺基以及磺酸盐基团所组成的群中的至少一种。
研磨液套剂基体方法

[发明专利]一种抛光磨料及其制备方法和抛光方法-CN202210069115.0在审
发明人：喻树红 -专利权人：东莞伯立迅研磨科技有限公司
申请日： 2022-01-20 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光磨料及其制备方法，该抛光磨料的制备方法包括步骤：将橡胶材料压制成条状的胶条，然后粉碎成橡胶粒子，过筛，得到磨料载体；通过粘合剂将磨料粒子包覆在所述磨料载体表面，形成抛光磨料。由于磨料粒子全部包覆该磨料载体表面，故而可达到优良的抛光效果，且由于橡胶材料为弹性体，在抛光时既可以降低工件表面粗糙度，又不会伤到工件尺寸，且该磨料粒子不容易碳化，可以循环使用，使用寿命长且降低成本。本发明还提供一种抛光方法，采用离心式抛射方式将该抛光磨料高速喷射撞击工件本体。当具有弹性的抛光磨料高速接触工件表面，会使抛光磨料压缩产生变异，于工件表面造成滑动摩擦，达成高效率和高质量的抛光工作。
一种抛光磨料及其制备方法