[发明专利]沉淀二氧化硅、其制备方法及其作为弹性体增强填料的用途有效
| 申请号: | 98800924.2 | 申请日: | 1998-05-15 |
| 公开(公告)号: | CN1100001C | 公开(公告)日: | 2003-01-29 |
| 发明(设计)人: | Y·切瓦列;P·考切特;P·福里 | 申请(专利权)人: | 罗狄亚化学公司 |
| 主分类号: | C01B33/193 | 分类号: | C01B33/193 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王杰 |
| 地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 沉淀 二氧化硅 制备 方法 及其 作为 弹性体 增强 填料 用途 | ||
1.沉淀二氧化硅的制备方法,其中包括使硅酸盐与酸化剂反应,由此获得沉淀二氧化硅的悬浮液,之后分离并干燥该悬浮液,其特征在于:
-按照以下方式进行沉淀:
(i)配制初始储备溶液,其中含有在所述反应中使用的硅酸盐总量的至少一部分和至少一种电解质,在所述初始储备溶液中硅酸盐的浓度以SiO2表示为50至60g/l。
(ii)向所述储备溶液中添加酸化剂直到反应介质的pH达到7至8.5为止,
(iii)向反应介质中添加酸化剂,必要时同时添加其余量的硅酸盐,
-所述分离过程包括使用装有加压装置的过滤器进行的过滤和洗涤操作,
-通过喷雾来干燥其中固体含量低于17wt%的悬浮液。
2.权利要求1的方法,其特征在于在所述储备溶液中所述硅酸盐浓度以SiO2表示为55至60g/l。
3.权利要求1或2的方法,其特征在于所述电解质是硫酸钠,它在初始储备溶液中的浓度为12至20g/l。
4.权利要求1至3中任一项的方法,其特征在于在同时添加酸化剂和余量硅酸盐后,向反应介质中添加酸化剂。
5.权利要求1至3中任一项的方法,其特征在于在步骤(i)中引入在反应中使用的全部数量硅酸盐,在步骤(iii)中添加酸化剂直到反应介质的pH达到4至6为止。
6.权利要求1至5中任一项的方法,其特征在于通过喷雾干燥其中固体含量为14.5至16.5wt%的悬浮液。
7.权利要求1至6中任一项的方法,其特征在于使用喷嘴喷雾器进行所述干燥过程。
8.权利要求1至7中任一项的方法,其特征在于所述分离过程包括使用压滤器完成的过滤、洗涤和压紧操作。
9.权利要求8的方法,其特征在于通过引入压力低于4.5巴的空气20至40秒来进行所述压紧操作。
10.权利要求9的方法,其特征在于所述压力为3.8至4.3巴。
11.权利要求1至10中任一项的方法,其特征在于所述干燥产物随后进行研磨且然后还可进行凝聚。
12.权利要求1至10中任一项的方法,其特征在于所述干燥产物然后进行凝聚。
13.沉淀二氧化硅,其特征在于它的:
-BET比表面积为185至250m2/g,
-CTAB比表面积为180至240m2/g,
-孔分布为,由直径为175至275埃的孔构成的孔体积V2占由直径低于或等于400埃的孔构成的孔体积V1的50%以下,
-由直径小于1μm的孔构成的孔体积Vd1大于1.65cm3/g,
-细度值F.V.为70至100埃,
-超声解聚后的细粒含量τf至少为50%。
14.权利要求13的二氧化硅,其特征在于其孔分布导致V2/V1的比值不超过0.45。
15.权利要求13或14的二氧化硅,其特征在于其由直径小于1μm的孔构成的孔体积Vd1至少为1.70cm3/g。
16.权利要求13至15中任一项的二氧化硅,其特征在于其细度值F.V.为80至100埃。
17.权利要求13至16中任一项的二氧化硅,其特征在于其在超声解聚后的中值直径φ50小于8.5μm。
18.权利要求13至17中任一项的二氧化硅,其特征在于其超声解聚因子FD大于5.5ml。
19.权利要求13至18中任一项的二氧化硅,其特征在于其由直径为100至300埃的孔构成的孔体积V3至少为0.82cm3/g。
20.权利要求13至19中任一项的二氧化硅,其特征在于其总孔体积TPV大于3.0cm3/g。
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