[发明专利]保护铱坩埚生长掺四价铬高温氧化物晶体的方法无效
| 申请号: | 92108460.9 | 申请日: | 1992-06-17 |
| 公开(公告)号: | CN1080334A | 公开(公告)日: | 1994-01-05 |
| 发明(设计)人: | 颜声辉;朱洪滨;侯印春;王四亭 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00;C30B27/02;C30B29/34 |
| 代理公司: | 中国科学院上海专利事务所 | 代理人: | 张泽纯,李兰英 |
| 地址: | 201800 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 保护 坩埚 生长 掺四价铬 高温 氧化物 晶体 方法 | ||
【权利要求书】:
1、一种保护铱坩埚生长掺四价铬高温氧化物晶体的方法,其特征在于其步骤是:
1>铱坩埚外壁用等离子喷涂技术喷涂氧化锆保护层;
2>将晶体生长的原料按配比装入铱坩埚并装入晶体生长单晶炉中;
3>晶体生长炉膛抽空后再充入中性气体;
4>通电加热,使坩埚和晶体原料的温度达1100℃~1500℃;
5>将炉内再抽空后充入氧气,继续加热,至原料全部熔化;
6>在晶体生长温度下恒温一小时后,开始下种引晶生长;
7>晶体生长完成后,将炉膛抽空,切断电源,让晶体在真空中和氧化锆保温条件下自然冷却。
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