[发明专利]23位上酮基的甾族化合物的制备方法无效

专利信息
申请号: 87107343.9 申请日: 1987-12-05
公开(公告)号: CN1031575C 公开(公告)日: 1996-04-17
发明(设计)人: 米歇尔·维法特;让·比恩迪亚 申请(专利权)人: 鲁索-艾克勒夫公司
主分类号: C07J9/00 分类号: C07J9/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 杨钢,曹恒兴
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 23 位上酮基 甾族化合物 制备 方法
【说明书】:

发明涉及包括23位上的酮基的新的甾族化合物产物及其制备方法、它们在制备20酮孕甾烷类产物中的应用和用于此目的中间体。

本发明的任务在于提供通式(I)的产物:式中,R1代表氢原子或甲基,R2代表甲基或乙基,母核A,B,C,D可以含1个或多个双键并且可以由下列基团取代:1个或多个羟基或可以被保护的酮官能团,1个或多个卤原子,含有1~4个碳原子的1个或多个烷基或烷氧基,或含有2~4个碳原子的1个或多个链烯基或炔基,R代表卤原子、羟基、含有1~6个碳原子的烷氧基、含有7~15个碳原子的芳烷氧基、基,其中R3和R4可以相同,也可不同,代表氢原子、含有1~6个碳原子的烷基、含有7~15个碳原子的芳烷基,或R3、R4与之键合的氮原子一起形成杂环,该环可以包括选自氮原子和氧原子的另一个杂原子,或者R代表含有1~6个碳原子的烷硫基,或最多可含15个碳原子的芳硫基或芳烷硫基。

当环A,B,C和D含1个或多个双键时,双键的最佳键位是在1(2),4(5),5(6)或9(11)位上,或共轭双键系统在3(4)和5(6)或4(5)和6(7)位上,或3个双键芳族系统上1,3,5位上,或3个双键系统在1(2),4(5),6(7)位上。但是最好使用不含双键的产物。

当环A,B,C和D由1个或多个羟基官能团取代时,则1个或多个羟基官能团在3,6,7,11和/或12位上为最佳。

当环A,B,C和D由1个或多个酮官能团取代时,酮官能团在3,7,11或12位上为最佳1。

当环A,B,C和D由1个或多个卤原子取代时,举例来说,则氟、氯或溴原子在6或9α位上为最佳。

当环A,B,C和D由1个或多个烷基取代时,甲基或乙基在2,6,7或16α或16β位上为最佳1。

当环A,B,C和D由1个或多个烷氧基取代时,甲氧基或乙氧基在3或11β位上为最佳。

当环A,B,C和D由1个或多个链烯基取代时,例如乙烯基或烯丙基则在11β位上为最佳。

当环A,B,C和D由1个或多个炔基取代时,例如乙炔基在11β位上最佳。

羟基可以按文献中已知的常规方法加以保护。例如能够用:丙酮化合物类,环碳酸酯,原酸酯,环亚硫酸酯,与四氢吡喃基、三苯甲基或苄基、酰基如乙酰、琥珀酰或甲酰生成醚。

酮基也可用常用保护基予以保护,例如缩酮,尤指乙二醇缩酮,硫缩醛,半硫缩醛,烯醇醚,烯醇乙酸酯,烯胺和肟。

然而缩酮,尤其是乙二醇缩酮用于保护酮基为最佳。当式I的产物在3位上含酮基时,对酮基保护尤为理想。

R代表卤原子,尤以氯或溴原子为佳;

R也可代表烷氧基,尤以甲氧基或乙氧基为佳,但也可以是丙氧基,异丙氧基,丁氧基,仲丁氧基,叔丁氧基,戊氧基或己氧基;R也可代表苄氧基或苯乙氧基。

相同或不相同的R3和R4代表氢原子或甲基,乙基,丙基,异丙基,丁基,仲丁基,叔丁基,戊基,己基或苄基,或R3、R4与之键合的氮原子共同形成吗啉基,哌啶基或吡咯烷基。R也可代表甲硫基或乙硫基或由如上所述的烷基或烷氧基衍生的烷硫基。R还可以代表苯硫或苄硫基。

本发明的化合物尤指如上定义的通武I的产物,其中R和R分别为甲基和母核A,B,C和D在3位上可以含保护的羟基官能团,在6,7,11和12位上可以含选自保护的羟基官能团的1个或多个其他官能团,在7,11,和12位上可以含保护的酮官能团,R代表羟基,最多可含4个碳原子的烷氧基,或基,其中和代表氢原子,最多可含4个碳原子的烷基,或与之键合的氮原子共同形成哌啶子基,吡啶烷子基或吗啉子基,尤其是如上定义的通式I的产物,其环A,B,C和D在3位上可以含保护的羟基,在12位上可以含选自保护的羟基官能团的1个或多个其他官能团,以及在11或12位上可以含保护的酮官能团,R代表羟基,甲氧基或乙氧基,或吗啉子基。

在最佳产物中,特别有利是如上定义的通式I的产物的亚族产物,其中母核A,B,c和D在其3位上含保护的羟基,在6,7或12位上含选白保护的羟基官能团的1个或多个其他官能团,在其7,11或12位上含保护的酮官能团。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鲁索-艾克勒夫公司,未经鲁索-艾克勒夫公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/87107343.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top