[其他]生产掺氟氧化锡涂层的改进的化学蒸气沉积法无效
| 申请号: | 85109272 | 申请日: | 1985-12-21 |
| 公开(公告)号: | CN85109272A | 公开(公告)日: | 1986-07-09 |
| 发明(设计)人: | 乔治·H·林德 | 申请(专利权)人: | M&T化学有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/40 |
| 代理公司: | 上海专利事务所 | 代理人: | 徐志奇 |
| 地址: | 美国新泽西0709*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 生产 氧化 涂层 改进 化学 蒸气 沉积 | ||
1、一种在不同的工艺条件下生产具有一个恒定的和最低的薄层电阻的掺氟氧化锡涂层的改进的化学蒸气沉积法,包括:
(a)形成一种包含有机氟掺杂剂和有机锡化合物的液态涂层组成,所述的组成包括:
(1)1~30%(重量),有机氟掺杂剂,其中至少有一个氟原子位于官能团的α位或β位,那里的碳原子与选自羧酸、酸酐、酯、醇、酮、酰基卤或醚等中的氧原子键合;以及
(2)70~99%(重量)有机锡化合物,它为一种三氯化烷基锡、二氯化二烷基锡、烷基二氯化锡乙酸酯、烷基氯化锡二乙酸酯或三氯化锡酯或四氯化锡;
(b)汽化所述的液态涂层组成而进入湿润的载气中以形成一种载气、水、有机氟掺杂剂和有机锡混合物的气相混合物;
(c)沉积所述的气相混合物到一衬底上而形成所述的涂层,其特征为:
所述的组份的蒸气浓度是这样的,即参数M定义为:
M= ((AIR)(H2O))/((OFD)(O)) ,其中:
(AIR)是载气的摩尔浓度;
(H2O)是载气中水的摩尔浓度;
(OFD)是载气中有机氟掺杂剂的摩尔浓度;
(O)是载气中有机锡化合物的摩尔浓度。
从而,在所述的M值小于50,000时,制得具有一个恒定的和最低的薄层电阻的掺氟氧化锡涂层。
2、根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述的M值为20,000或更小。
3、根据权利要求1所述的方法,其特征在于涂层厚度为180~210纳米(nm)时所述的薄层电阻约为25欧/方(Ohms/sq)。
4、根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述的液态涂层组成包括2~10%(重量)所述的有机氟掺杂剂和90~98%(重量)所述的有机锡化合物。
5、根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述的液态涂层组成包括1~10%(重量)极性有机化合物。
6、根据权利要求5所述的方法,其特征在于所述的组成包括2~10%(重量)所述的有机氟掺杂剂、80~97%(重量)所述的有机锡化合物和1~10%(重量)所述的极性有机化合物。
7、根据权利要求6所述的方法,其特征在于所述的极性有机化合物为乙酸酐、乙酸乙酯或甲基异丁基酮。
8、根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述的汽化温度为100~400℃。
9、根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述的沉积温度为高于400℃低于700℃。
10、根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述的衬底为玻璃。
11、根据权利要求1所述的方法的产品,其特征在于其随着沉积温度的升高具有一个实质上恒定的和最低的薄层电阻。
12、根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述的有机锡化合物为三氯化-丁基锡、三氯化甲基锡、三氯化异丁基锡、二氯化二丁基锡、二氯化二-特-丁基锡、丁基二氯化锡乙酸酯、丁基氯化锡二乙酸酯或三氯化乙酯基亚乙基锡。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





