[实用新型]一种测量系统有效

专利信息
申请号: 202320117772.8 申请日: 2023-01-13
公开(公告)号: CN219455041U 公开(公告)日: 2023-08-01
发明(设计)人: 刘坚;吴卓骅;尹韶辉;王辰;张桢巍 申请(专利权)人: 无锡市锡山区半导体先进制造创新中心;江苏优普纳科技有限公司
主分类号: G01B21/20 分类号: G01B21/20;H01L21/66;B24B37/34;B24B49/00;B24B49/12;G01B21/30
代理公司: 北京思睿峰知识产权代理有限公司 11396 代理人: 高芮;赵爱军
地址: 214101 江苏省无锡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 测量 系统
【权利要求书】:

1.一种测量系统,用于测量待测晶圆,其特征在于,包括:

形状误差测量模块;

粗糙度测量模块,布置在所述形状误差测量模块的一侧;

竖直布置的第一滑台,所述第一滑台与所述形状误差测量模块固定连接,适于驱动所述形状误差测量模块竖直运动,以便调节所述形状误差测量模块的高度;

水平布置的第二滑台,适于驱动所述待测晶圆水平运动至形状误差测量模块的测量范围内,以便对所述待测晶圆进行形状误差测量;并适于驱动所述待测晶圆水平运动至所述粗糙度测量模块的测量范围内,以便对所述待测晶圆进行表面粗糙度测量。

2.如权利要求1所述的测量系统,其特征在于,所述第二滑台上设有载物台,所述载物台上适于放置所述待测晶圆;

所述形状误差测量模块适于对所述载物台进行分立点式高度测量,得到第一测量点数据,并适于对所述载物台上的待测晶圆进行分立点式高度测量,得到第二测量点数据,以便根据所述第二测量点数据与所述第一测量点数据的差值来确定所述待测晶圆的全场厚度变化值。

3.如权利要求1所述的测量系统,其特征在于,还包括安装架;

所述第一滑台、粗糙度测量模块竖直安装于所述安装架;

所述形状误差测量模块竖直安装于所述第一滑台;

所述第二滑台水平安装于所述安装架。

4.如权利要求1-3中任一项所述的测量系统,其特征在于,所述形状误差测量模块包括:

连接板,与所述第一滑台固定连接;

两个支撑座,垂直固定于所述连接板;

光谱共焦传感器,穿设于两个支撑座,以便通过所述两个支撑座平行固定于所述连接板。

5.如权利要求4所述的测量系统,其特征在于,

所述两个支撑座上固定设有两根笼杆,两根笼杆平行于所述光谱共焦传感器,以便锁紧所述光谱共焦传感器。

6.如权利要求4所述的测量系统,其特征在于,

所述光谱共焦传感器与每个所述支撑座之间设有转接环。

7.如权利要求3所述的测量系统,其特征在于,所述安装架包括:

光学底座;

多个立柱,通过抱闸锁紧固定块与所述光学底座垂直连接;

光学背板,通过转接器与所述立柱垂直连接;

其中,所述第一滑台、粗糙度测量模块竖直安装在所述光学背板上;所述第二滑台水平安装在所述光学底座上。

8.如权利要求7所述的测量系统,其特征在于,

所述安装架包括布置在两侧的四个立柱,且每侧的两个立柱之间通过抱闸准直连接块锁紧固定。

9.如权利要求1-3中任一项所述的测量系统,其特征在于,所述粗糙度测量模块为干涉仪。

10.如权利要求1-3中任一项所述的测量系统,其特征在于,

所述第一滑台为伺服直线滑台,所述第二滑台为伺服十字滑台。

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