[实用新型]一种供酸系统有效
申请号: | 202320112082.3 | 申请日: | 2023-01-17 |
公开(公告)号: | CN218910505U | 公开(公告)日: | 2023-04-25 |
发明(设计)人: | 刘招林 | 申请(专利权)人: | 无锡柏斯威科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/448 |
代理公司: | 常州市科佑新创专利代理有限公司 32672 | 代理人: | 印苏华 |
地址: | 214000 江苏省无锡市滨湖区十八*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 系统 | ||
本实用新型涉及常压式化学气相沉积机的技术领域,且公开了一种供酸系统,包括存储瓶,所述存储瓶的外部固定连接有用于存储瓶和密封盖连接的螺纹接管,所述螺纹接管的外部活动连接有用于配合螺纹接管密封存储瓶的盖套。通过小弹垫和大弹垫组成的凸台结构气密垫配合连接盘组成U形槽结构和盖套内侧中空L形截面的支撑槽回转卡接密封,从而使得盖套和存储瓶外部的螺纹接管转动安装或分离过程,从而避免盖套转动带动连接盘转动使得输气管在存储瓶内部转动接触造成输气管弯折无法正常输送氮气,保证了常压式化学气相沉积机中输送氢氟酸蒸汽到履带表面的稳定性和可靠性,提高了晶圆生产的成品率。
技术领域
本实用新型涉及常压式化学气相沉积机的技术领域。
背景技术
APCVD设备是半导体晶圆生产过程中的主流设备,中文名称为常压式化学气相沉积机,是在大约一个标准大气压环境下,利用氧气和硅烷在被加热到特定工艺温度的晶圆表面起化学反应,生成一层二氧化硅薄膜,在此类设备中,反应气体除了喷在晶圆上,也会喷在履带上,导致履带上也会附着一层膜,履带上的膜需要定期用氢氟酸来去除。
目前去除履带上的薄膜的方法是配置有一个腔体,配置有一个盛有氢氟酸的瓶子,将氮气输送进氢氟酸瓶子,在里面鼓泡,通过氮气将氢氟酸蒸汽输入到腔体里,履带经过腔体后,上面的薄膜被氢氟酸蒸汽刻蚀完,即完成了去除履带上薄膜的过程。其中盛有氢氟酸的瓶子是本装置的关键部件,当瓶子里的氢氟酸消耗完后需要及时地打开瓶盖,添加氢氟酸,目前所用的瓶子瓶盖与氮气注液管是连接在一起的,氮气注液管呈L型,下端较长,在旋松或旋紧瓶盖的进程中,L型的注液管会跟着瓶盖一起转动,很容易被扭曲或弯折,导致氮气被堵塞,氮气不通,氢氟酸蒸汽不能被输送到腔体里面,履带上的薄膜不能被及时刻蚀掉,将越来越厚,产生粉尘,粉尘将会直接污染晶圆,导致晶圆产品报废。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种供酸系统,避免了输送氮气注液管扭曲或弯折,提高晶圆的产品率。
实现本实用新型目的的技术方案是:一种供酸系统,包括存储瓶,所述存储瓶的外部固定连接有用于存储瓶和密封盖连接的螺纹接管,所述螺纹接管的外部活动连接有用于配合螺纹接管密封存储瓶的盖套,所述盖套的表面开设有用于存储瓶内部输送氮气的支撑槽,所述支撑槽的内侧转动连接有用于存储瓶内部输送氮气的连接盘,所述连接盘的外部固定连接有用于存储瓶内部注入氮气的输气管,所述连接盘的表面开设有用于存储瓶内部氢氟酸蒸汽排出的通道口。
在本实用新型的一些实施例中,所述存储瓶内部通过螺纹接管加入液态氢氟酸,所述螺纹接管与盖套的通过螺纹转动密封连接。
在本实用新型的一些实施例中,所述支撑槽的截面呈现贯穿的L形结构,所述连接盘的轴线与支撑槽的轴线相互重合。
在本实用新型的一些实施例中,所述连接盘的底部固定连接有用于连接盘和支撑槽连接转动密封的气密垫,所述气密垫包括固定连接于连接盘底部用于配合支撑槽控制连接盘和支撑槽转动密封的小弹垫、固定连接于小弹垫外部用于连接盘和支撑槽转动限位的大弹垫。
在本实用新型的一些实施例中,所述小弹垫的直径小于支撑槽底部贯穿孔直径,所述大弹垫的直径大于支撑槽的底部贯穿孔直径。
在本实用新型的一些实施例中,所述输气管包括固定连接于连接盘外部的接头、活动连接于接头外部的导气管。
在本实用新型的一些实施例中,所述接头贯穿连接盘内侧,所述接头与外部氮气管连接,所述导气管与接头采用套接连接。
在本实用新型的一些实施例中,所述接头与螺纹接管的位置相对应,所述导气管伸入存储瓶内部。
在本实用新型的一些实施例中,所述通道口内侧流出的氢氟酸蒸汽通过软管输送,所述通道口贯穿小弹垫和大弹垫内部。
在本实用新型的一些实施例中,所述通道口贯穿连接盘内侧。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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