[发明专利]一种电化学沉积制备CeO2 在审
| 申请号： | 202310530408.9 | 申请日： | 2023-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN116463704A | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 朱会敏;张钧 | 申请（专利权）人： | 沈阳大学 |
| 主分类号： | C25D9/10 | 分类号： | C25D9/10;C25D5/36;C25D5/50;C25D5/02;C25D3/54 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 110000 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 电化学 沉积 制备 ceo base sub | ||
【权利要求书】：
1.一种电化学沉积制备CeO2/NiO涂层的方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)以石墨作为阳极，打磨清洗后的基体作为阴极，进行电化学沉积CeO2，再在CeO2间隙电沉积金属Ni，得到Ni镶嵌CeO2的纳米复合涂层；
(2)将沉积后的样品置于800℃电阻炉中进行氧化，获得CeO2/NiO涂层。
2.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)中的CeO2为多级纳米结构。
3.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)中的电沉积CeO2参数为：沉积时间8～10分钟，镀液温度40～50℃，沉积电流密度2.5mA/cm2。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)中用于电沉积的溶液组成如下：硝酸铈20～25g/L，氯化铵5～7g/L，氯化钾3～5g/L。
5.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(2)中的氧化时间为10周。
6.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(2)中所述的沉积样品氧化速率常数为(4～5)×10-14g2cm-4s-1。
7.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(2)中氧化10周后热转化膜成分主要为CeO2/NiO，涂层厚度为2～4μm。
8.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(2)中氧化10周后获得的涂覆不锈钢表面氧化膜整体面比电阻为20～25mΩcm2。
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