[发明专利]带孔陶瓷生产带引脚陶瓷覆铜基板的方法在审
申请号: | 202310414953.1 | 申请日: | 2023-04-18 |
公开(公告)号: | CN116477963A | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
发明(设计)人: | 井敏;张继东;施纯锡;冯家伟 | 申请(专利权)人: | 福建华清电子材料科技有限公司 |
主分类号: | C04B37/00 | 分类号: | C04B37/00 |
代理公司: | 泉州协创知识产权代理事务所(普通合伙) 35231 | 代理人: | 吕连川 |
地址: | 362200 福建省泉州*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 陶瓷 生产 引脚 覆铜基板 方法 | ||
1.带孔陶瓷生产带引脚陶瓷覆铜基板的方法,其特征在于,包括以下步骤:
SA、对铜箔的一个表面进行氧化,在该表面形成氧化层;
SB、在陶瓷基板上预设位置打若干通孔;
SC、将铜箔具有氧化层的一个表面与陶瓷基板贴合,然后共烧结,冷却后得到表面具有铜箔的陶瓷覆铜基板;
SD、将陶瓷覆铜基板的铜箔一侧进行贴膜、曝光、显影处理,所述通孔内的靠近铜箔一侧贴膜,所述曝光区域宽度小于通孔宽度;
SE、然后采用蚀刻液进行蚀刻,形成线路图形,得到所述陶瓷覆铜板,所述刻蚀液刻蚀区域经过通孔区域;
SF、在所述陶瓷基板上加工掰断痕,所述掰断痕经过通孔。
2.根据权利要求1所述的带孔陶瓷生产带引脚陶瓷覆铜基板的方法,其特征在于,对铜箔的一个表面进行氧化的步骤包括:将铜箔的一面放置于一个陶瓷垫板上,然后整体放入网带烧结炉中进行氧化;所述陶瓷垫板为氧化铝陶瓷片。
3.根据权利要求1所述的带孔陶瓷生产带引脚陶瓷覆铜基板的方法,其特征在于,步骤SC中,共烧结的温度为1081-1083℃。
4.根据权利要求1所述的带孔陶瓷生产带引脚陶瓷覆铜基板的方法,其特征在于,步骤SE中,所述刻蚀液包括1% -5%碱、2% -8%过氧化氢以及余量的水,所述碱为氢氧化钠或者氢氧化钾。
5.根据权利要求1所述的带孔陶瓷生产带引脚陶瓷覆铜基板的方法,其特征在于,步骤SE中,在超声条件下进行,并控温≤25℃,蚀刻时间为20min~45min;第二蚀刻液进行刻蚀时,在超声条件下进行,并控温≤25℃,蚀刻时间3min~15min。
6.根据权利要求1所述的带孔陶瓷生产带引脚陶瓷覆铜基板的方法,其特征在于,步骤SF中,掰断痕为激光加工出的线状分布的盲孔。
7.根据权利要求 1 所述的带孔陶瓷生产带引脚陶瓷覆铜基板的方法,其特征在于,步骤 SA中,所述铜箔的厚度为0.2-0.4mm 。
8.根据权利要求 1所述的带孔陶瓷生产带引脚陶瓷覆铜基板的方法,其特征在于,步骤 SB中,所述陶瓷基板的厚度为 0.2-1.5mm。
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