[发明专利]一种阵列式晶体的制备设备及其工艺

权利要求书

1.一种阵列式晶体的制备设备，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)顶部左侧固定连接有操作箱(2)，所述操作箱(2)内部中心处开设有晶体生长区域(3)，所述晶体生长区域(3)左右两侧均开设有调节槽(4)，所述调节槽(4)内部上方与下方均滑动连接有调节板(5)，所述调节板(5)内部与所述调节槽(4)内部之间共同设置有调节组件(6)，左侧所述调节板(5)与右侧所述调节板(5)之间固定连接有隔板(7)，所述隔板(7)内部开设有多个均匀分布的通气孔(13)，所述晶体生长区域(3)内部上表面的前方与后方分别固定安装有温湿度传感器(9)与冷风机(10)，所述操作箱(2)顶部从左到右依次固定安装有控制器(8)与加热器(11)和加湿器(12)，所述操作箱(2)右侧开设有凹槽二(50)，且所述凹槽二(50)内部与所述晶体生长区域(3)内部相通，所述凹槽二(50)内部前后两表面之间的下方通过所述转动杆三(54)转动连接有箱门(51)，且所述箱门(51)与所述凹槽二(50)内部相适配，所述箱门(51)顶部固定连接有密封垫二(49)，且所述密封垫二(49)的顶部与所述凹槽二(50)的内部上表面相贴合，所述箱门(51)右侧下方开设有凹槽三(52)，所述操作箱(2)右侧下方固定连接有支撑组件(53)，且所述支撑组件(53)与所述箱门(51)磁性连接，所述操作箱(2)右侧下方的前方连通有连接管一(14)，所述连接管一(14)右端固定安装有吸气泵(15)，所述吸气泵(15)右侧固定安装有连接管二(16)，所述连接管二(16)右端固定安装有筒体(17)，所述筒体(17)内部中心处开设有内槽一(18)，且所述内槽一(18)内部右侧与外部相通，所述内槽一(18)内部插接有内筒(19)，所述内筒(19)内部开设有内槽二(23)，所述内槽二(23)内部填充有固体吸收剂(24)，所述内槽二(23)内部左右两侧均开设有左右贯穿式的螺纹孔一(20)，所述螺纹孔一(20)内部螺纹连接有外螺纹套环(21)，所述外螺纹套环(21)内部固定连接有透气网(22)，所述筒体(17)顶部开设有凹槽一(34)，所述凹槽一(34)内部插接有盖板(36)，且所述盖板(36)底部与所述内筒(19)顶部固定连接，所述盖板(36)前后两表面均固定连接有密封垫一(33)，且所述密封垫一(33)外表面与所述凹槽一(34)内部相贴合，所述盖板(36)前后两表面的中心处均开设有限位槽二(35)，所述内槽一(18)内部下表面中心处开设有内槽五(48)，所述内槽五(48)内部前后两表面均开设有内槽四(42)，所述内槽四(42)内部下表面开设有滑槽(43)，所述滑槽(43)内部滑动连接有滑块(45)，所述滑块(45)远离所述内槽五(48)内部中心处的一侧与所述滑槽(43)内部远离所述内槽五(48)内部中心处的一侧之间固定连接有弹簧四(44)，所述滑块(45)顶部固定连接有挤压杆(41)，所述挤压杆(41)靠近所述内槽五(48)内部中心处的一端固定连接有挤压块一(46)，所述内槽四(42)内部远离所述内槽五(48)内部中心处的一侧开设有内槽三(26)，所述内槽三(26)内部通过转动杆一(27)转动连接有摆杆(25)，且所述摆杆(25)的外表面下方与所述挤压杆(41)远离所述内槽五(48)内部中心处的一端相贴合，所述摆杆(25)远离所述内槽一(18)内部中心处的一侧的上方与所述内槽三(26)内部远离所述内槽一(18)内部中心处的一侧之间固定连接有弹簧三(28)，所述摆杆(25)内部上方开设有左右贯穿式的限位槽一(30)，所述限位槽一(30)内部活动连接有限位杆一(29)，所述内槽三(26)内部靠近所述内槽一(18)内部中心处的上方开设有前后贯穿式的导向槽(32)，所述导向槽(32)内部滑动连接有限位杆二(31)，所述限位杆一(29)的右端贯穿所述限位杆二(31)内部位于所述内槽三(26)内部，且与所述限位杆二(31)转动连接，所述限位杆二(31)靠近所述凹槽一(34)内部中心处的一端贯穿所述密封垫一(33)，且插接在所述限位槽二(35)内部，所述盖板(36)内部中心处开设有上下贯穿式的螺纹孔二(38)，所述螺纹孔二(38)内部螺纹连接有螺纹杆(39)，所述内槽二(23)内部上下两表面的中心处均开设有上下贯穿式的通槽六(40)，所述螺纹杆(39)的底端贯穿所述通槽六(40)与所述内槽二(23)插接在所述内槽五(48)内部，且固定连接有挤压块二(47)，所述挤压块二(47)的外表面与所述挤压块一(46)的外表面相贴合。