[发明专利]Ni3在审

专利信息
申请号: 202310283386.0 申请日: 2023-03-22
公开(公告)号: CN116374954A 公开(公告)日: 2023-07-04
发明(设计)人: 王瑶;王荣;王安杰;徐波;刘颖雅;孙志超 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: C01B3/40 分类号: C01B3/40;B01J27/185
代理公司: 辽宁鸿文知识产权代理有限公司 21102 代理人: 王海波
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: ni base sub
【权利要求书】:

1.一种Ni3P/SiO2催化剂在DBD等离子体甲烷干重整中的应用。

2.根据权利要求1所述的应用,其特征在于,所述的DBD等离子体是低温等离子体反应器,DBD等离子体反应放电体积为1.2ml,放电间隙以0.2g 40-60目的Ni3P/SiO2催化剂颗粒和40-60目的石英砂混合填充,放电频率固定在9.8kHz;等离子体输入功率5-30W,甲烷干重整反应进气体积比CO2/CH4=1~2,反应压力为0.1-1MPa。

3.根据权利要求2所述的应用,其特征在于,所述的Ni3P/SiO2催化剂中Ni3P的负载量为15%。

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