[发明专利]基于机器视觉的目标检测方法、装置、电子设备以及介质有效
| 申请号: | 202310265150.4 | 申请日: | 2023-03-20 |
| 公开(公告)号: | CN115984268B | 公开(公告)日: | 2023-06-30 |
| 发明(设计)人: | 葛铭;沈井学;魏江;魏鹏 | 申请(专利权)人: | 杭州百子尖科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T7/11 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 赵迎迎 |
| 地址: | 311121 浙江省杭州市余杭区*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 机器 视觉 目标 检测 方法 装置 电子设备 以及 介质 | ||
1.一种基于机器视觉的目标检测方法,其特征在于,包括:
确定待检测目标的待检测图像;
确定所述待检测图像采用的至少两个目标滑动窗口,采用所述目标滑动窗口对待检测图像进行切分得到对应的待检测切分子图像,所述至少两个目标滑动窗口包括至少两个不同预设尺寸的滑动窗口;
将所述至少两个目标滑动窗口切分的待检测切分子图像依次输入到目标检测模型进行缺陷检测,依据对所述待检测切分子图像的缺陷检测结果,对所述待检测目标进行缺陷检测;其中,所述目标检测模型采用以下方式进行构建得到:采用所述目标滑动窗口对参考图像进行切分得到参考切分子图像,所述参考图像中参考缺陷采用第一缺陷位置框预先进行标记,在相邻的两个滑动操作位置处切分的参考切分子图像存在部分重合;若检测到所述参考切分子图像的第二缺陷位置框与所述第一缺陷位置框的交并比值大于或等于预设比值,则对所述参考切分子图像中第二缺陷位置框标记的缺陷进行保留,所述第二缺陷位置框为在所述参考图像中参考缺陷的局部被切分到参考切分子图像后用于对所述参考切分子图像中的局部缺陷进行标记的位置框;若检测到所述参考切分子图像的第二缺陷位置框与所述第一缺陷位置框的交并比值小于预设比值,则对所述参考切分子图像中第二缺陷位置框标记的局部缺陷进行剔除;基于所述参考切分子图像的第二缺陷位置框标记的局部缺陷以及对应的参考切分子图像生成训练样本图像进行目标检测模型的训练与生成。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,采用所述目标滑动窗口对待检测图像进行切分得到对应的待检测切分子图像,包括:
采用目标滑动窗口按照预设步长在待检测图像执行目标滑动操作,且使目标滑动窗口在相邻的两个滑动操作位置处存在部分重合;
依据所述目标滑动窗口的目标滑动操作确定所述待检测图像对应的待检测切分子图像,所述待检测切分子图像为位于目标滑动窗口内的图像;
其中,所述至少两个目标滑动窗口包括按照金字塔结构从低向上进行逐层调整尺寸得到的滑动窗口集合。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,依据所述目标滑动窗口的目标滑动操作确定所述待检测图像对应的待检测切分子图像,包括:
检测所述目标滑动窗口的参考区域大小,所述参考区域为所述目标滑动窗口按照预设步长执行目标滑动操作后与所述待检测图像的重合区域;
若检测到所述参考区域大小与所述目标滑动窗口大小相同,则直接将执行目标滑动操作后位于目标滑动窗口内的图像确定为所述待检测图像对应的待检测切分子图像;
若检测到所述参考区域大小与所述目标滑动窗口大小不相同,则将执行目标滑动操作后的所述目标滑动窗口沿着执行所述目标滑动操作的相反方向进行滑动后退,并将滑动后退结束时位于目标滑动窗口内的图像确定为待检测图像对应的待检测切分子图像,所述参考区域大小与所述目标滑动窗口大小由不相同变为相同时所述滑动后退结束。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述目标检测模型依据训练样本图像训练得到,所述训练样本图像采用不同目标滑动窗口对预标注有参考缺陷的参考图像进行切分得到,所述参考缺陷为所述参考图像中参考目标对应的缺陷,所述参考图像与待检测图像的尺寸相同。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,采用所述目标滑动窗口对参考图像进行切分得到参考切分子图像,包括:
从所述参考图像中参考缺陷中随机确定至少一个目标缺陷;
将所述目标缺陷采用的第一缺陷位置框的中心点与所述目标滑动窗口的中心点进行对齐,采用中心点对齐的目标滑动窗口从参考图像上切分得到参考切分子图像。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,依据对所述待检测切分子图像的缺陷检测结果,对所述待检测目标进行缺陷检测,包括:
依据对所述待检测切分子图像的缺陷检测结果,确定所述待检测切分子图像对应缺陷类别以及缺陷位置;
若检测到两个待检测切分子图像对应的缺陷类别相同,且缺陷位置之差小于预设位置差,则将两个待检测切分子图像对应的缺陷进行合并;
若检测到两个待检测切分子图像对应的缺陷类别不相同和/或缺陷位置之差不小于预设位置差,则将两个待检测切分子图像对应的缺陷分别保留。
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