[发明专利]一种减薄设备在审

专利信息
申请号: 202310253217.2 申请日: 2023-03-16
公开(公告)号: CN116079556A 公开(公告)日: 2023-05-09
发明(设计)人: 刘远航;马旭;李森;靳凯强;路新春 申请(专利权)人: 华海清科股份有限公司
主分类号: B24B27/00 分类号: B24B27/00;B24B41/02;B24B41/04;B24B41/06;B24B47/12;B24B1/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300350 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 设备
【权利要求书】:

1.一种减薄设备,其特征在于,包括:

设备前端模块,用于实现晶圆的进出,所述设备前端模块设置在所述减薄设备的前端;

磨削模块,用于对至少两片晶圆同时进行粗磨削和/或精磨削,所述磨削模块设置在所述减薄设备的末端;

抛光模块,用于在完成磨削之后对至少两片晶圆同时进行化学机械抛光,所述抛光模块邻接所述磨削模块设置;

两个对称分布的清洗模块,位于抛光模块和设备前端模块之间;

两个对称分布的传输模块,分别位于抛光模块的两侧。

2.如权利要求1所述的减薄设备,其特征在于,所述磨削模块包括基座、安装在基座上的工作台、在工作台上均匀分布的6个固定件以及4个磨削件。

3.如权利要求2所述的减薄设备,其特征在于,两个所述磨削件用于执行粗磨削,另外两个所述磨削件用于执行精磨削。

4.如权利要求2所述的减薄设备,其特征在于,用于安装磨削件的支撑座位于磨削模块的边缘区域,或者,用于安装磨削件的支撑座位于磨削模块的中央区域。

5.如权利要求1所述的减薄设备,其特征在于,所述抛光模块包括2个存片部、一抛光盘、一粘接在抛光盘上的抛光垫、2个吸附晶圆并带动晶圆旋转的承载头、一修整抛光垫的修整器以及一向抛光垫表面提供抛光液的供液部。

6.如权利要求1所述的减薄设备,其特征在于,两个所述传输模块位于减薄设备的边缘,沿设备长度方向平行布置。

7.如权利要求6所述的减薄设备,其特征在于,所述传输模块包括第一传输组件和第二传输组件,第一传输组件位于靠近设备前端模块的位置,第二传输组件位于靠近磨削模块的位置,第一传输组件用于在第二传输组件、抛光模块、清洗模块和设备前端模块之间传输晶圆,第二传输组件用于在磨削模块、抛光模块和第一传输组件之间传输晶圆。

8.如权利要求7所述的减薄设备,其特征在于,所述第一传输组件包括前端机械手和缓存部。

9.如权利要求7所述的减薄设备,其特征在于,所述第二传输组件包括后端机械手。

10.如权利要求1所述的减薄设备,其特征在于,所述清洗模块包括沿所述减薄设备的宽度方向相邻设置的刷洗装置和干燥装置。

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