[实用新型]一种半导体光阻喷涂装置

权利要求书

1.一种半导体光阻喷涂装置，其特征在于，包括：

喷嘴(1)，用于对晶圆喷涂光阻剂；

缓冲罐(2)，与所述喷嘴(1)相连，用于不断向所述喷嘴(1)提供光阻溶液；

光阻瓶(3)，用于储存光阻剂，并向所述缓冲罐(2)添加光阻剂；

气泡去除机构(4)，用于去除向所述缓冲罐(2)添加光阻剂过程中产生的气泡，连接在所述缓冲罐(2)与所述光阻瓶(3)之间。

2.根据权利要求1所述的半导体光阻喷涂装置，其特征在于，所述气泡去除机构(4)包括搅拌筒(41)与搅拌器，所述搅拌器通过搅拌电机(43)驱动，所述搅拌筒(41)上设置光阻剂添加口(411)与光阻剂排出口(412)，所述光阻剂添加口(411)连通至所述光阻瓶(3)，所述光阻剂排出口(412)连通至所述缓冲罐(2)。

3.根据权利要求2所述的半导体光阻喷涂装置，其特征在于，所述搅拌筒(41)的底部设置成锥形，所述搅拌器包括搅拌轴(421)，所述搅拌电机设置在所述搅拌筒(41)的顶部，所述搅拌轴(421)的一端转动连接于所述搅拌电机的输出轴。

4.根据权利要求3所述的半导体光阻喷涂装置，其特征在于，所述光阻剂排出口(412)设置在所述搅拌筒(41)的底部。

5.根据权利要求3所述的半导体光阻喷涂装置，其特征在于，所述搅拌器还包括设置在所述搅拌轴(421)上的第一搅拌桨(422)和第二搅拌桨(423)，所述第一搅拌桨(422)靠近所述搅拌筒(41)的底部设置，所述第二搅拌桨(423)设置在所述第一搅拌桨(422)的上侧。

6.根据权利要求5所述的半导体光阻喷涂装置，其特征在于，所述第一搅拌桨(422)包括至少两个向上折弯设置的第一桨叶(4221)。

7.根据权利要求5所述的半导体光阻喷涂装置，其特征在于，所述第二搅拌桨(423)的每个桨叶均包括两个桨片(4231)，同一桨叶上的所述桨片(4231)交错设置。

8.根据权利要求2所述的半导体光阻喷涂装置，其特征在于，所述光阻剂添加口(411)处设置有流量控制阀(5)。

9.根据权利要求2所述的半导体光阻喷涂装置，其特征在于，所述光阻剂排出口(412)处设置有用于检测气泡含量的气泡检测机构(6)。

10.根据权利要求9所述的半导体光阻喷涂装置，其特征在于，所述气泡检测机构(6)包括红外接收器(61)与红外发射器(62)，所述红外接收器(61)与红外发射器(62)水平设置。