[实用新型]一种晶圆边缘处理装置有效
| 申请号： | 202223271857.6 | 申请日： | 2022-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN218658140U | 公开（公告）日： | 2023-03-21 |
| 发明（设计）人： | 刘远航;马旭;李小娟 | 申请（专利权）人： | 华海清科股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B7/22 | 分类号： | B24B7/22;B24B37/10;B24B9/06;B24B27/00;B24B47/22;B24B41/00;B24B55/06;H01L21/67 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300350 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 边缘 处理 装置 | ||
1.一种晶圆边缘处理装置，其特征在于，包括：
升降组件，与晶圆减薄设备中的支撑架连接；
伺服旋转组件，与所述升降组件连接；
处理组件，连接在所述伺服旋转组件的底部，其包括底盘，底盘的底面设有弧形磨抛件和喷嘴；
气液接头，通过所述处理组件内部的气液路与喷嘴连通。
2.如权利要求1所述的晶圆边缘处理装置，其特征在于，所述弧形磨抛件覆盖晶圆的部分边缘。
3.如权利要求2所述的晶圆边缘处理装置，其特征在于，在边缘处理过程中，所述底盘与晶圆相对倾斜，底盘相较晶圆圆心更靠近晶圆边缘。
4.如权利要求3所述的晶圆边缘处理装置，其特征在于，磨抛的时候所述底盘与晶圆之间的倾斜角为0.1～5度。
5.如权利要求1所述的晶圆边缘处理装置，其特征在于，多个所述弧形磨抛件均匀间隔地设置在底盘的底面靠近边缘的位置。
6.如权利要求1所述的晶圆边缘处理装置，其特征在于，所述喷嘴沿底盘的半径方向设置有多个。
7.如权利要求6所述的晶圆边缘处理装置，其特征在于，位于外侧的喷嘴设置为倾斜喷射，倾斜方向朝向边缘。
8.如权利要求1所述的晶圆边缘处理装置，其特征在于，所述弧形磨抛件包括弧形油石和弧形毛刷。
9.如权利要求1所述的晶圆边缘处理装置，其特征在于，所述弧形磨抛件包括弧形抛光垫和弧形毛刷。
10.如权利要求9所述的晶圆边缘处理装置，其特征在于，所述弧形抛光垫的底面设有网格状沟槽或切向沟槽。
11.如权利要求1所述的晶圆边缘处理装置，其特征在于，所述弧形磨抛件覆盖晶圆的完整边缘。
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