[实用新型]基板处理装置

说明书

本实用新型提供一种基板处理装置，即使在使用液体的环境中，也能够以足够高的精确度进行检测。基板处理装置具有：搬运部，用于搬运基板(9)；液处理部，向由搬运部搬运的基板(9)供给液体；以及传感器单元(4)，检测被供给液体的基板(9)，传感器单元(4)具有：传感器部(41)，具有朝向基板(9)投出检测光的投光部(411)和接收从投光部投出的检测光的受光部(412)；以及液滴去除部(42)，与传感器部(41)建立对应地设置，并且局部地去除被照射从该对应的传感器部(41)的投光部投出的检测光的照射区域(K1)的液滴。

技术领域

本实用新型涉及基板处理装置。

背景技术

例如，在专利文献1中公开了一种一边使用辊子搬运基板一边向该被搬运的基板供给清洗液，来清洗该基板的基板处理装置。

专利文献1：日本特开2018-160586号公报

在多数的基板处理装置中，在适当的位置设置有传感器，基于来自传感器的检测信息，进行各种控制。例如，在专利文献1所记载的基板处理装置中，也利用设置于辊子的附近的传感器来检测基板的有无，基于该检测信息进行控制。

传感器存在各种类型，根据使用环境等来选择适合的传感器。例如，在处置薄型的基板的基板处理装置中，在与基板接触来检测基板的接触型的传感器中，由于存在对基板造成损伤的风险，因此，优选使用不与基板接触而检测基板的非接触型的传感器。

非接触型的传感器的一种已知通过从投光部朝向检测对象物射出检测光，利用受光部接收该反射光等，从而进行检测对象物的检测的传感器(所谓的光电传感器)。如果使用光电传感器，则例如即使是薄型的基板，也能够在对基板不造成损伤的情况下安全地检测。

然而，在处置液体的基板处理装置中，已发现光电传感器引起错误检测的概率增多。发明人们研究了这种情况发生的理由，结果发现引起错误检测的原因在于附着于基板的液滴。即，当基板的面内的被来自投光部的光照射的位置存在液滴时，由于该液滴，来自投光部的光被漫反射、散乱等，从而受光部无法接收到所期望的光量。其结果认为是，无法检测到实际上存在的基板的存在，从而产生错误检测。

实用新型内容

本实用新型是鉴于这样的问题而提出，其目的在于，提供一种即使在使用液体的环境中，也能够以足够高的精确度进行检测的技术。

第一个方式的基板处理装置，搬运部，用于搬运基板；液处理部，向由所述搬运部搬运的基板供给液体；以及传感器单元，检测被供给所述液体的基板，所述传感器单元具有：传感器部，具有朝向基板投出检测光的投光部和接收从所述投光部投出的所述检测光的受光部；以及液滴去除部，与所述传感器部建立对应地设置，并且局部地去除被照射从该对应的所述传感器部的所述投光部投出的所述检测光的照射区域的液滴。

第二方式，在第一个方式的基板处理装置中，所述液处理部向由所述搬运部搬运的基板的下表面供给液体，所述投光部朝向所述下表面投出所述检测光。

第三方式，在第一或第二方式的基板处理装置中，所述液滴去除部具有朝向所述基板喷出流体的喷出部，通过利用从所述喷出部喷出的流体推动液滴，从所述照射区域去除液滴。

第四方式，在第三方式的基板处理装置中，所述照射区域是与所述基板中的从所述喷出部喷出的流体到达的喷出区域错开的位置。

第五方式，在第三或第四方式的基板处理装置中，所述喷出部在所述基板的搬运方向上相比所述传感器部更靠上游侧配置，从所述搬运方向的上游侧朝向下游侧喷出流体。

第六方式，在第三至第五方式中的任一种方式所述的基板处理装置中，所述搬运部将基板以倾斜姿势搬运，所述喷出部相对于所述传感器部配置于所述基板的倾斜方向的高端侧，向从所述倾斜方向的高端侧朝向低端侧的方向喷出流体。

第七方式，在第三至第六方式中的任一种方式所述的基板处理装置中，从所述喷出部喷出的流体是液体。