[实用新型]绝缘支撑结构、镀膜装置和沉积装置有效
申请号: | 202222766200.0 | 申请日: | 2022-10-20 |
公开(公告)号: | CN218321632U | 公开(公告)日: | 2023-01-17 |
发明(设计)人: | 林佳继;张武;刘群 | 申请(专利权)人: | 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/50;H01L31/18;H01J37/32 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 潘登 |
地址: | 518122 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 绝缘 支撑 结构 镀膜 装置 沉积 | ||
本实用新型提供了一种绝缘支撑结构、镀膜装置和沉积装置,所述绝缘支撑结构包括支撑主体和套体,所述支撑主体的一侧支撑侧开设有嵌合凹槽,另一侧支撑侧设置有嵌合凸起;所述套体套设所述支撑主体,所述套体和所述支撑主体之间设置有间隔件,所述间隔件用于连接所述套体与所述支撑主体,并且所述套体与所述支撑主体之间形成具有连通间隙的夹层空间,所述连通间隙用于连通所述夹层空间与所述套体的外部空间。本实用新型采用嵌合凸起以及嵌合凹槽进行配合,实现多级电极板之间的绝缘支撑,取消绝缘杆结构,通过设置夹层空间,避免沉积连续膜结构造成的短路问题。
技术领域
本实用新型属于镀膜技术领域,涉及一种绝缘支撑结构、镀膜装置和沉积装置。
背景技术
太阳能电池是多层器件,典型的太阳能电池通常包括p-i-n叠层结构,p-i-n叠层结构的各层是利用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺,在大型PECVD沉积设备中沉积形成,例如在反应室中平行设置大面积激励电极板和接地电极板,电极板表面可放置大面积玻璃基板,反应气体由进气口进入反应室,射频激励电源向激励电极板提供射频能量,将反应气体电离为等离子体,在基板表面沉积薄膜,剩余的气体由出气口排出,该设备无法实现大批量生产,导致沉积制备成本高。
中国专利CN201183822Y公开了一种薄膜沉积装置,所述装置包括箱体、反应室和射频激励源,所述反应室置于所述箱体内部,所述箱体具有气体进入口和气体排出口,所述反应室包括金属上横梁、下横梁和与所述上横梁、下横梁连接的金属侧壁,所述上横梁和下横梁之间具有第一电极板和第二电极板,各所述第一电极板和第二电极板彼此电绝缘且等距、平行、间隔交替排列,反应气体由所述进入口进入所述第一电极板和第二电极板之间的空间,并经所述气体排出口排出箱体。该薄膜沉积装置能够大幅度提高薄膜沉积、特别是大面积薄膜沉积的效率,并可降低沉积层之间的交叉污染。
对于沉积制备导电性好的膜层,沉积过程中容易发生寄生沉积连续膜的结构,导致短路或漏电,严重影响电极阵列长期放电的稳定性。因此,如何提供一种沉积装置中的绝缘支撑结构,有效避免沉积后短路和漏电问题,并实现大批量沉积制备,成为目前迫切需要解决的技术问题。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种绝缘支撑结构、镀膜装置和沉积装置,采用嵌合凸起以及嵌合凹槽进行配合,实现多级电极板之间的绝缘支撑,从而取消绝缘杆结构,进一步地,绝缘支撑结构两侧的电极板均形成夹层空间,有效避免沉积连续膜结构造成的短路问题,具有结构简单和便于组装的特点。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
第一方面,本实用新型提供了一种绝缘支撑结构,所述绝缘支撑结构包括支撑主体和套体,所述支撑主体的一侧支撑侧开设有嵌合凹槽,另一侧支撑侧设置有嵌合凸起;所述套体套设所述支撑主体,所述套体和所述支撑主体之间设置有间隔件,所述间隔件用于连接所述套体与所述支撑主体,并且所述套体与所述支撑主体之间形成具有连通间隙的夹层空间,所述连通间隙用于连通所述夹层空间与所述套体的外部空间。
本实用新型中的绝缘支撑结构采用的是嵌合凹槽和嵌合凸起的结构配合,在使用过程中,对于多个电极板间隔层叠设置的结构,相邻两个电极板之间设置绝缘支撑结构,利用相邻两个绝缘支撑结构的嵌合凹槽和嵌合凸起进行嵌合,实现多个电极板的支撑,从而取消了贯穿多个电极板的绝缘杆结构,进一步地,各个电极板之间的绝缘支撑结构均为独立结构,便于拆卸、组装和更换。
此外,本实用新型中还在支撑主体的外周环绕设置套体,并形成具有连通间隙的夹层空间,使夹层空间与套体外部空间连通,沉积过程中即使连续膜生长至绝缘支撑结构上,由于连通间隙和夹层空间的存在,也不能将两个基板连通,进而防止导电膜使电极板之间发生漏电或短路的问题,影响电极阵列长期放电稳定性。
需要说明的是,本实用新型中对于绝缘支撑结构的尺寸不做具体要求和特殊限定,本领域技术人员可根据相应的使用要求合理选择。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市拉普拉斯能源技术有限公司,未经深圳市拉普拉斯能源技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202222766200.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种具有止回功能的三通球阀
- 下一篇:一种新型分瓶机构的热收缩膜包机
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的