[实用新型]一种半导体清洗废水排放处理装置有效

专利信息
申请号: 202221825073.0 申请日: 2022-07-14
公开(公告)号: CN218262054U 公开(公告)日: 2023-01-10
发明(设计)人: 栗文宝;栗文平;陈丹 申请(专利权)人: 杭州鹊帆环境工程有限公司
主分类号: C02F1/38 分类号: C02F1/38;B01D21/26
代理公司: 杭州裕阳联合专利代理有限公司 33289 代理人: 金方玮
地址: 311200 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 清洗 废水 排放 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体清洗废水排放处理装置,其特征在于,包括沉淀罐(1);

所述沉淀罐(1)的正上方设置有主管道(2),所述主管道(2)的端部固定连通有若干个分管道(3);

若干个所述分管道(3)的端部均匀分布在沉淀罐(1)的周侧并与其内部连通;

所述沉淀罐(1)的内部设置有搅拌装置(4);

所述沉淀罐(1)底部的中心位置开设有沉淀物排出孔(14)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗废水排放处理装置,其特征在于,所述搅拌装置(4)包括与沉淀罐(1)内壁转动连接的环块(41),所述沉淀罐(1)顶端的内壁间固定连接有挡水板(12),所述挡水板(12)、环块(41)之间设置有带动环块(41)旋转的传动装置(6)。

3.根据权利要求2所述的一种半导体清洗废水排放处理装置,其特征在于,所述环块(41)的内侧固定连接有环齿(411),所述传动装置(6)包括与环齿(411)啮合的齿轮(61),所述挡水板(12)的上表面固定安装有电机(62),所述电机(62)的输出轴贯穿挡水板(12)并与齿轮(61)固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种半导体清洗废水排放处理装置,其特征在于,所述沉淀罐(1)的底部设置有与沉淀物排出孔(14)螺纹连接的收集罐(5)。

5.根据权利要求1所述的一种半导体清洗废水排放处理装置,其特征在于,所述沉淀罐(1)的周侧开设有废液排出孔(11)。

6.根据权利要求1所述的一种半导体清洗废水排放处理装置,其特征在于,所述沉淀物排出孔(14)顶端的内壁开设有倾斜面(141)。

7.根据权利要求2所述的一种半导体清洗废水排放处理装置,其特征在于,所述沉淀罐(1)的内壁开设有与环块(41)相匹配的环槽(13)。

8.根据权利要求2所述的一种半导体清洗废水排放处理装置,其特征在于,所述环块(41)的下表面固定连接有多个连接板(42),所述连接板(42)的一侧固定连接有搅拌板(43)。

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